ナノ・マイクロシステム工学研究室 河合研究室

Ｒ３年度

R4.1

R4年2月25日(金)に「半導体製造におけるウェットプロセスのノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R4.2

R4年2月10日(木)に「半導体洗浄のメカニズムと微小パーティクルの除去、清浄度評価」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R4.2

R4年2月3日(木)に「薄膜、コーティングを中心とした機能材料の基板への付着・密着性評価、改善および剥離トラブル防止対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R4.1

R4年1月28日(金)に「半導体技術におけるウェットプロセスの基礎、制御とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R4.1

R4年1月13日(木)に「いまさら聞けない、半導体製造プロセス技術　入門講座」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R4.1

R4年1月7日(金)に「分子間力や表面張力の考え方，そのコントロールと測定法」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.12

R3年12月20日(月)に「薄膜の付着・密着性評価と改善法および剥離トラブル防止対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.12

R3年12月16日(木)に「ウェットエッチングの基礎と高精度化および形状コントロール」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.12

R3年12月8日(水)に「塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策 ～コーティング基礎・塗布・乾燥・装置原理・トラブル対策・高品位化～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.12

R3年12月2日(木)に「塗布・コーティング膜の基礎と高品位制御およびトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.11

R3年11月12日(金)に「半導体プロセス技術の基礎とノウハウおよびトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.11

R3年11月5日(金)に「レジスト材料／プロセスのトラブル制御・最適化技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.11

R3年11月1日(月)に「半導体表面におけるウェットプロセスの制御、最適化技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.10

R3年10月29日(金)に「リソグラフィプロセスにおけるめっき，レジストマスクの基礎とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.10

R3年10月22日(金)に「原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.10

R3年10月8日(金)に「高周波（５Ｇ・ミリ波対応）プリント基板における実装技術と機能性・信頼性向上への応用」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.9

R3年9月29日(水)に「半導体洗浄プロセスの高機能化とノウハウ ～基礎メカニズムの理解と実践～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.9

R3年9月22日(水)に「半導体洗浄の基礎とクリーン化技術およびそのポイント」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.9

R3年9月10日(金)に「5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.9

R3年9月9日(木)に「塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.9

R3年9月3日(金)に「レジスト材料／プロセスの基礎知識と実務上の最適化技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.8

R3年8月31日(火)に「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.8

R3年8月23日(月)に「レジスト材料・プロセス・装置の総合知識 ～基礎とノウハウ、高品位化、最適化、トラブル対処法とユーザー対策～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.8

R3年8月20日(金)に「レジスト材料／プロセスの基礎と実務上の最適化技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.8

R3年8月4日(水)に「高周波対応のプリント基板技術の基礎と要求される材料・プロセス」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.7

R3年7月29日(木)に「半導体表面におけるウェットプロセスの理解、制御、最適化技術 ～半導体表面の支配・制御に向けた要点とノウハウ～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.7

R3年7月27日(火)に「原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ ～動作原理、適切な使用法と分析・評価ノウハウ～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.7

R3年7月20日(火)に「塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.7

R3年7月15日(木)に「ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.6

R3年6月30日(水)に「5G・ミリ波対応のプリント基板及び　実装技術のノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.6

R3年6月28日(月)に「塗布膜における濡れ・付着・密着トラブルの解決につながるヒント」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.6

R3年6月4日(金)に「塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.5

R3年5月28日(金)に「ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.5

R3年5月21日(金)に「塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.4

R3年4月16日(金)に「半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.4

R3年4月9日(金)に「高周波対応(5G移動体無線、ミリ波)のプリント基板技術とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.4

R3年4月7日(水)に「高周波対応（5G・ミリ波）材料の基礎と高周波対応に向けたプロセス技術のトレンド」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.3

修士2名、学士2名の計4名が修了・卒業しました。

R3.2

M2学生の修士論文発表会が行われました。

R3.2

B4学生の実務訓練が終了しました。

Ｒ２年度

R3.3

R3年3月19日(金)に「ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.3

R3年3月3日(水)に「シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.2

R3年2月26日(金)に「ウェットエッチングの基礎とノウハウおよびトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.1

R3年1月29日(金)に「５Ｇ・ミリ波対応のプリント基板及び実装技術のノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.1

R3年1月26日(火)に「ウェットエッチングの基礎と形状コントロールと高精度化、及びトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.1

R3年1月22日(金)に「製造・生産・開発プロセスにおけるクリーン化技術の要点＆ノウハウ ～異物・欠陥対策と付着除去・管理・計測方法～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.1

R3年1月14日(木)に「高周波対応のプリント基板材料・実装技術の基礎と応用 ～ソルダーレジスト材料とプロセスの最適化、各種トラブル対策～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R3.1

R3年1月8日(金)に「5G対応のプリント基板技術と要求される材料」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.12

R2年12月17日(木)に「5G・ミリ波対応のプリント基板・実装技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.12

R2年12月10日(木)に「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.11

B3学生が研究室に配属されました。

R2.11

R2年11月26日(木)に「ウェットエッチングの基礎と最適化･トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.11

R2年11月20日(金)に「５Ｇ・ミリ波対応のプリント基板・実装技術の基礎と応用 ～高周波対応の機能性材料、プリント基板と周辺技術に要求される材料、技術改善、信頼性解析～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.11

R2年11月13日(金)に「レジスト材料／プロセスの実務上の基礎知識と評価・最適化技術 ～ユーザーの視点によるレジスト付着性等欠陥トラブルと解決へのアプローチ～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.10

R2年10月28日(水)に「塗膜のトラブルを解決するための塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策 ～コーティング基礎・塗布・乾燥・装置原理・トラブル対策・高品位化～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.10

R2年10月16日(金)に「5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.9

R2年8月31日(月)に「レジストの材料・プロセス・装置の総合知識」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.8

R2年8月28日(金)に「高周波対応に向けた基板･周辺材料の技術トレンド」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.8

R2年8月21日(月)に「シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.7

R2年8月10日(月)、11(火)に台湾セミナー「5G対応のプリント基板技術と要求される材料」をテーマとして、Web講演を行いました。詳しくはこちら

R2.8

R2年8月6日(木)に「レジストのプロセス最適化、材料の使い方ノウハウ、トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.7

R2年7月27日(月)に「塗膜の濡れ・付着・密着コントロールとトラブルへの対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.7

R2年7月17日(金)に「コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.7

R2年7月10日(金)に「原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.6

R2年6月26日(金)に「レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.6

R2年6月12日(金)に「塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.6

R2年6月5日(金)に「5G対応のプリント基板技術と要求される材料」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

Ｒ１年度（Ｈ３１年度）

R2.3

社会人博士1名、修士4名、学士1名の計6名が修了・卒業しました。

R2.3

R2年3月6日(金)に「プリント基板実装・マイクロ接合・はんだ接合における不良防止技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.2

R2年2月12日(水)に「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.1

R2年1月24日(金)に「製造・生産・開発プロセスにおけるクリーン化技術の要点とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R2.1

R2年1月20日(月)に「フォトレジスト材料の特性とリソグラフィプロセスの最適化およびトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.12

R1年12月20日(金)に「高周波対応プリント基板,ソルダーレジストの材料,プロセス技術」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.11

B3学生3名が研究室に新たに配属されました。

R1.11

指導修士学生(M2)が第29回電気学会東京支部新潟支所研究発表会において優秀発表賞を受賞しました。

R1.11

R1年11月15日(金)に「レジスト材料/プロセス/装置の有効な評価法とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.10

電気学会 東京支部 新潟支所研究発表会で２件の研究発表を行いました。

R1.10

R1年10月24日(木)に「レジスト材料・プロセス・装置の最適化ノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.10

R1年10月4日(金)に「レジストの材料・プロセス・装置の総合知識」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.9

R1年9月27日(金)に「レジスト・リソグラフィ技術の基礎と不良防止・トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.8

R1年8月26日(月)に「レジスト材料/プロセスの基礎とトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.8

R1年8月6日(火)に「分子間力や表面張力の考え方，そのコントロールと測定法」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.8

R1年8月1日(木)に「塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

R1.7

(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団より研究開発費の助成を受けました。研究課題「皮膚の自己再生機能に学ぶ～自己修復性コーティング膜の開発～」

R1.7

R1年7月23日(火)に「原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法 ～ＡＦＭの基本理解および有効活用に向けて～」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.6

R1年6月14日(金)に「レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.4

H31年4月19日(金)に「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.4

H31年4月12日(金)に「入門と実践：レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.2

実務訓練が終了し、B4学生3名が研究室に戻りました。

Ｈ３０年度

H31.3

H31年3月27日(水)に「ダブルパターニング・マルチパターニング技術の基礎とプロセスおよび材料の最適化」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.3

H31年3月15日(金)に「ソルダーレジストの基礎・プロセスの高精度化・高周波対応と各種トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.3

H31年3月8日(木)に「原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.2

H31年2月26日(火)に「レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.2

H31年2月14日(木)に「塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.1

H31年1月31日(木)に「ぬれ性・塗膜乾燥・付着はく離の基礎と産業応用」をテーマとするセミナーを開催しました。詳しくはこちら

H31.1

明けましておめでとうございます。謹んで新春のお喜びを申し上げます。本年もどうぞよろしくお願いいたします。

H30.11

B3学生3名が研究室に新たに配属されました。

H30.11

「濡れ・表面自由エネルギー の基礎、測定方法とコーティング及び産業技術への応用」をテーマとするセミナーを、H30年11月22日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H30.10

【京都開催】「レジストの材料・プロセスのノウハウ、最適化法、トラブル対処法」をテーマとするセミナーを、H30年10月11日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H30.10

「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」をテーマとするセミナーを、H30年10月5日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.7

(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団より研究開発費の助成を受けました。研究課題「超親水/超撥水ハイブリッド制御によるIOT対応粘着シートの開発」

H30.7

修士学生が(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団の奨学金の助成を受けました。研究課題「汗及び皮膚ガス透過性を有する素肌感の高い高分子フィルムの開発」

H30.7

科学研究費補助金 挑戦的研究（萌芽）「液中浮遊型球状マイクロ燃料電池による血栓抑制システムの創製」H30～H31年度が採択されました。

H30.7

「原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とデータの取得・解析方法」をテーマとするセミナーを、H30年7月13日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.5

執筆書籍(単著)「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」が出版されました。

H30.5

「コーティング膜の塗布乾燥・評価技術：超入門【２日間講座】」をテーマとするセミナーを、H30年5月24日(木)、25日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.5

「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」をテーマとするセミナーを、H30年5月18日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.5

「シランカップリング剤による濡れ性・付着制御と上手な活用法」をテーマとするセミナーを、H30年5月11日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.4

修士学生１名が新たに研究室へ配属されました。

H30.4

科学研究費補助金 基盤研究(B)「高分子ナノ集合体の自己整合配列に基づく３次元ナノ構造の創成」H30～H32年度が採択されました。

Ｈ２９年度

H30.3

修士学生3名、学部学生4名が修了・卒業しました。また、修士学生1名が研究業績優秀により学長表彰を授与されました。

H30.3

熱分析装置DSCと小型振動発生機を導入しました。

H30.3

マイケルソン型2光束干渉法三次元非接触表面形状計測システムを導入しました。

H30.3

共焦点レーザースキャン顕微鏡を導入しました。

H30.3

「原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ」をテーマとするセミナーを、H30年3月15日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H30.2

修士M2学生の学長表彰、電気専攻長特別表彰、電気専攻長表彰（2名）が内定しました。

H30.2

B4学生が実務訓練を終え、大学へ戻りました。

H30.2

【京都開催】「塗布膜乾燥プロセスの基本、現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策」をテーマとするセミナーを、H30年2月9日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.2

「レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化」をテーマとするセミナーを、H30年2月2日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H30.1

「濡れ・表面エネルギーの基礎とコーティングおよび産業技術への応用」をテーマとするセミナーを、H30年1月24日(水)に開催しました。詳しくはこちら

H30.1

「フォトレジスト材料の基礎と最新技術動向～高感度化材料・高解像度化・トラブル対策～」をテーマとするセミナーを、H30年1月23日(火)に開催しました。詳しくはこちら

H29.12

J. Photopolymer Science & Technology誌(2017年度)に1報の論文が掲載されました。

H29.12

「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」をテーマとするセミナーを、H29年12月22日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H29.11

電子情報技術部会 マイクロナノシステムと材料・加工分科会 講演会「マイクロナノシステムによるセンシング」にて、「原子間力顕微鏡(AFM)による付着・凝集・バブル・液滴のナノスケール解析」を演題として講演を行いました。(H29.11.14)

H29.11

H29年11月1日(水)付の接着剤新聞に、河合教授が講師を務めた日本接着学会 第2回 関東支部若手交流会「接着における表面界面・ぬれ」勉強会について掲載されました。詳しくはこちら

H29.10

B3学生3名が研究室に新たに配属されました。

H29.10

日本接着学会関東支部若手交流会 勉強会「接着における表面界面・ぬれ」にて、第1回(H29年7月21日)は"濡れ性入門"、第2回(H29年10月13日)は"ぬれ制御の実際"、第3回(H29年12月1日)は"現場でのぬれ制御"をテーマに、依頼講演を行いました。詳しくはこちら

H29.10

「レジスト材料・プロセスおよび周辺技術の総合知識 ～レジスト・リソグラフィ入門～」をテーマとするセミナーを、H29年10月17日(火)に開催しました。詳しくはこちら

H29.9

監修書籍「最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術」が出版されました。

H29.9

「レジスト膜の正しい評価法とトラブル対策～ユーザーの視点によるレジスト材料の基礎・プロセスの最適化、高品位化～」をテーマとするセミナーを、H29年9月11日(月)，9月12日(火)の2日間開催しました。詳しくはこちら

H29.8

研究室旅行(H29.8.27, 月岡温泉)を行いました。

H29.8

H29年8月20日(日)付の接着剤新聞に、河合教授が講師を務めた日本接着学会 第1回 関東支部若手交流会「接着における表面界面・ぬれ」勉強会について掲載されました。接着現象の理解に不可欠となる濡れ性について、接触角や表面張力、表面エネルギーなどの項目に分けて基礎知識を深めました。詳しくはこちら

H29.8

「微小液滴の基礎と挙動理解、評価・制御技術」をテーマとするセミナーを、H29年8月31日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H29.8

「開発・生産現場における実践的なクリーン化技術」をテーマとするセミナーを、H29年8月25日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H29.8

精密工学会知的ナノ計測専門委員会にて「高機能デバイスのキーテクノロジー～3D-MEMS～」をテーマとして、H29年8月3日(木)に講演を行いました。(会場：長岡技術科学大学)

H29.7

デバイス寿命／信頼性評価用に、環境試験機を導入しました。

H28.7

(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団より研究開発費の助成を受けました。研究課題「積層型フジツボ構造を有するウェラブル保湿シートの開発」

H29.6

J. Photopolymer Science & Technology誌(2017年度)に1報の論文が掲載されました。

H29.6

国際学会 フォトポリマーコンファレンス ICPST-32（幕張）で研究発表を行いました。(H29.6.29)

H29.6

「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」をテーマとするセミナーを、H29年6月22日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H29.5

研究室恒例のゴルフ大会・越後へぎそばツアーを開催しました。（優勝：M2矢木、2位：河合先生）

H29.4

研究室で花見を行いました。

H29.4

「THE世界大学ランキング 日本版2017」にて本学が国公私立435大学中で17位、工科系大学では2位にランクインしました。

H29.4

博士学生１名、修士学生１名が新たに研究室へ配属されました。

H29.4

「開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術の「ツボ」」をテーマとするセミナーを、H29年4月28日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H29.4

「塗布型電子材料のコーティング技術」をテーマとするセミナーを、H29年4月20日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H29.4

「塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策」をテーマとするセミナーを、H29年4月13日(木)に開催しました。詳しくはこちら

H29.4

「界面自由エネルギーの考え方，測り方，その応用」をテーマとするセミナーを、H29年4月6日(木)に開催しました。詳しくはこちら

Ｈ２８年度

H29.3

学部学生１名、修士学生１名が卒業修了しました。

H29.3

「レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化」をテーマとするセミナーを、H29年3月28日(火)に開催しました。詳しくはこちら

H29.3

「コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門」をテーマとするセミナーを、H29年3月17日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H29.3

H29年3月9日(木)開催の第27回MEMS講習会「MEMS技術を利用した地域活性化：新潟でMEMSが何をもたらすか」にて、特別講演を行いました。詳しくはこちら

H29.2

研究室修士学生が、研究業績に対して、電気専攻長賞および電気専攻学術論文賞を受賞しました。

H29.2

修士及び学部学生の学位論文発表会が終了しました。

H29.2

B4学生が実務訓練を終え、大学へ戻りました。

H29.1

３Ｄマイクロスコープ（キーエンス）と水分計を新規に導入しました。

H28.12

J. Photopolymer Science & Technology誌(2016年度)に2報の論文が掲載されました。

H28.12

「接着・コーティングにおける濡れ、剥離、乾燥の考え方」をテーマとするセミナーを、H28年12月16日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H28.12

「塗布膜乾燥プロセスの本質理解＆最適化と欠陥・トラブル対策」をテーマとするセミナーを、H28年12月9日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H28.11

J. Photopolymer Science & Technology誌(2016年度)に2報の論文が掲載されます。

H28.10

B3学生4名が研究室に新たに配属されました。

H28.10

石川高専　電気工学科・電子情報工学科の学生の皆さんが研究室を見学されました。

H28.10

指導修士学生(M1)が国際学会 IGCN2016において The Best Poster Award を受賞しました。

H28.10

「接着・密着不良，剥がれのメカニズムと評価解析，その対策」をテーマとするセミナーを、H28年10月18日(火)に開催しました。詳しくはこちら

H28.10

技学カンファレンス（IGCN2016）にて、５件のポスター発表を行いました。(10月6日-7日）

H28.9

「塗布膜におけるぬれ制御・乾燥制御と トラブルへの対策・信頼性向上策」をテーマとする通信講座を、H28年9月23日(金)に開講しました。詳しくはこちら

H28.9

国際学会MNE2016（オーストリア・ウィーン、スイス）で９件の発表を行いました。(9月18日-27日）

H28.9

第77回応用物理学会（於 新潟）にて、２件の口頭発表と６件のポスター発表を行いました。(9月13日-14日）

H28.9

技大祭でカフェを出店しました。メニュー：タピオカジュース（9月17日）

H28.8

「シランカップリング処理の本質と最適化、ノウハウ＆トラブル対策」をテーマとするセミナーを、H28年8月22日(月)に開催しました。詳しくはこちら

H28.8

夏の研究室旅行「佐渡・金山日帰りバスツアー」を行いました。(8月9日)

H28.8

オープンキャンパス2016（8月6日(土)開催）で研究室を公開しました。詳しくはこちら

H28.7

修士学生が(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団の奨学金の助成を受けました。研究課題「感覚機能の増進を目指した人工毛細血管網の開発」

H28.7

(一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団より研究開発費の助成を受けました。研究課題「コンタクトレンズ搭載型マイクロ燃料電池素子」

H28.7

「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」をテーマとするセミナーを、H28年7月27日(水)に開催しました。詳しくはこちら

H28.7

「コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門」をテーマとするセミナーを、H28年7月15日(金)に開催しました。詳しくはこちら

H28.6

NEDO超先端材料超高速開発基盤技術プロジェクトの採択審査委員会委員（NEDO技術委員）を務めました。

H28.6

国際学会 フォトポリマーコンファレンス ICPST-32（幕張）で研究発表を行いました。

H28.5

研究室恒例のゴルフ大会・越後へぎそばツアーを開催しました。（優勝：M1山根、2位：M1丸山・河合先生）

H28.5

河合研究室ではオープンハウスの受講生を募集しました。

H28.5

国際学会MNE2016（オーストリア・ウィーン開催）へ投稿しました。

H28.4

H28年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究に「カプセル型マイクロ燃料電池の創製と微小凝集体の自己分散制御」が採択されました。

H28.4

修士学生１名が新たに研究室へ配属されました。

Ｈ２７年度

H28.3

修士学生１名が修士課程を修了しました。

H28.2

ミニセミナー・基礎講座を掲載しました。

H28.2

M2学生の修士論文発表会とB4学生の実務訓練報告会が終了しました。

H28.2

B4学生3名が実務訓練を終えて戻ってきました。

H28.1

執筆著書『シランカップリング剤の使いこなし ノウハウ集』(共著）が発刊されました。

H28.1

電気泳動法によるゼータ電位計を導入しました。

H27.12

クリスマスケーキを食べる会を研究室で開催しました。

H27.12

平成27年度 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会（於、信州大学）で３件の発表を行いました。

H27.12

新潟県高等学校教育研究会理科部会の物理教育研究会で講演「振動測定システムや電子素子の原理と利用」を行いました。（於、長岡高校）

H27.11

執筆著書「最新高機能コーティングの技術・材料・評価」（共著）が発刊されました。

H27.10

4名の学部3年生が、河合研究室に配属されました。

H27.10

教育活動表彰として「電気電子情報工学専攻における高専連携ＷＧ活動の推進」が選ばれ、学長より表彰されました。

H27.10

B4学生3名が実務訓練のため、各受入れ企業に出発しました。（期間：H27.10.9～H28.2.12）

H27.10

平成27年度長岡技術科学大学公開講座 第５回「振動を感じる　～地震計からスマホまで～」で講演しました。（於、さいわいプラザ）

H27.10

電子情報通信学会信越支部大会（於、新潟工科大学）で1件の発表を行いました。

H27.9

学部学生の研究室配属のための研究室見学を行いました。

H27.9

技大祭（9/19,20）において、研究室で20年ぶりにカフェを出店しました。

H27.9

博士課程へ矢野大作氏が入学されました。（社会人博士入学）

H27.8

研究室旅行（只見キャンプ場、1泊2日）を行いました。

H27.7

山中弘次先生が客員教授として着任されました。

H27.7

(財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団のH27年度研究開発費助成に「リソグラフィによるヒト触感センシング機能の開発　～触り心地の機能化を目指して～」が採択されました。

H27.7

(財)内田エネルギー科学振興財団のH27年度試験研究費に「マイクロ生体燃料電池の高機能化に関する研究」が採択されました。

H27.6

学部３年生のコース配属のための研究室見学が始まりました。

H27.6

GIGAKU カンファレンス（本学）で2件の発表を行いました。

H27.6

EM-NANO 2015 国際学会（新潟）で2件の発表を行いました。

H27.5

研究室ゴルフ大会を行いました。（優勝：河合先生）

Ｈ２６年度

H27.3

学部学生１名、修士学生３名が卒業修了しました。

H27.3

修士学生が電気系長賞と電気系学術論文賞を受賞しました。

H27.1

生体・感性及び高度情報処理シンポジウム2015において、2件の発表を行いました。

H26.12

J. Photopolymer Science & Technology 誌に2報の論文が掲載されました。

H26.11

新たにＢ３学生４名が研究室に配属されました。

H26.11

国際学会MNC2014（福岡）で2件の研究発表を行いました。

H26.10

Ｂ４学生が実務訓練に出発しました。H27年2月末までの5か月間、企業の開発部門で教育指導を受けます。

H26.10

韓国包装技術研究所主催の会議で招待講演を行いました。

H26.10

研究室恒例のゴルフ大会は雨天のため延期となり、ボーリング大会を開催しました。（優勝：Ｍ２窪田君）

H26.9

学部３年生の研究室配属のため、研究室見学会が開催されました。

H26.9

国際学会MNE2014（ローザンヌ、スイス）で3件の発表を行いました。

H26.9

9/13-14に技大祭が開催されました。

H26.9

光干渉式膜厚測定器ナノスペックが導入されました。

H26.9

偏光顕微鏡が導入されました。

H26.8

オープンキャンパスで研究室公開を行いました。

H26.7

ホームページをリニュアルしました。

H26.7

エヌ・エス知覚科学振興会の平成26年度の研究開発費に「植物に学ぶ～触感における植物信号伝達機構のモデリング～」 が採択されました。

H26.6

M2学生がエヌ・エス知覚科学振興会の奨学金に内定しました。

H26.6

内田エネルギー科学振興財団の研究助成金に「光合成サイクルに基づく高効率植物発電システムの開発」が採択されました。

H26.6

国際学会GIGAKU カンファレンス(IGCN2014)（長岡）で2件の発表を行いました。

H26.4

国際学会PMJ2014（横浜）で１件の研究発表を行いました。

H26.4

H25年度の安全衛生優良研究室に選ばれ表彰されました。（H22年度に引き続き２回目）

Ｈ２５年度

H26.3

三機関連携事業の海外研修視察のため、修士学生２名、学部学生１名と共に、米国アルバニー市、ニューヨーク市を訪問しました。

H26.3

執筆著書（共著）が２冊発刊されました

H26.3

マイクロマニピュレータ、赤外線真空アニール装置、圧縮引張り試験機、ボンディングテスタが導入されました。

H26.3

修士学生5名、学部学生1名が修了卒業しました。

H26.3

修士学生2名が学長より学生表彰されました。

H26.3

修士学生3名が電気系長賞を受賞しました。

H26.3

三次元光造形装置と電子ビーム描画装置が導入されました。

H26.2

三機関連携事業キックオフミーティングが開催されました。

H26.1

学長戦略特別研究プロジェクトに、本研究室の「技学を基礎にした超小型燃料電池と高度医療支援システムの開発拠点」が選ばれました。

H25.12

修士学生が電気学会東京支部新潟支所研究発表会で優秀発表賞を受賞しました。

H25.12

事務補佐員（三機関）の島津さんが、研究室に着任されました。

H25.10

勤続20年の表彰を受けました。

H25.10

MNC2013国際学会（札幌）で３件の研究発表を行いました。

H25.10

電気学会東京支部新潟支所の研究発表会（新潟）で、８件の研究発表を行いました。

H25.10

電気学会　第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウムで、5件の発表を行いました。

H25.10

韓国包装技術研究所主催の会議で招待講演を行いました。

H25.10

B4学生が実務訓練に出発しました。

H25.10

教授に昇任しました。

H25. 6

修士学生2名がNS知覚財団の奨学生に選ばれました。

H25. 6

修士学生がBest Poster Presentation Award (GIGAKU Conference )を受賞しました。

H25. 6

国際学会GIGAKU Conference (IGCN2013)で発表を行いました。

H25. 5

新技術説明会（ＪＳＴ共催）において、「気液界面制御に基づくナノ気泡の検出技術」について発表しました。

H25. 4

H24年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 基盤研究(B)に15ｎｍゲートパターンのラインエッジラフネス(LER)抑制技術の開発が継続採択されました。

Ｈ２４年度

H25. 3

ナノインプリント装置を導入しました。

H25. 3

蛍光Ｘ線分析装置を導入しました。

H25. 3

指導修士学生１名が電気系長賞を受賞しました。

H25. 3

指導修士学生１名、学部学生４名が卒業修了しました。

H25. 3

指導学部学生１名が平成２３年度の電気学会学術奨励賞を受賞しました。

H25. 3

指導学部学生１名が学長表彰を受賞しました。

H25. 3

ニューヨーク州立大学アルバニー校の平山 誠教授が研究室を訪問されました。

H24.12

J. Photopolymer Sci & Tech誌に論文が３報掲載されました。

H24.12

韓国包装技術研究会（ソウル）において招待講演を行いました。

H24.11

位相差顕微鏡を導入しました。

H24.11

電気学会東京支部新潟支所の研究発表会で、２件の口頭発表、１件のポスター発表を行いました。

H24.11

B3学生３名が研究室に配属されました。

H24.11

執筆書籍が出版されました。

H24.10

国際学会PRIME2012 (ECS Hawaii)で4件の発表を行いました。

H24.10

B4学生全員が実務訓練に出発しました。

H24. 7

執筆書籍（単著）１冊が出版されました。

H24. 5

低周波振動検出技術とナノバブル検出技術に関する２件の発明技術が特許登録されました。

H24. 4

H24年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 基盤研究(B)に15ｎｍゲートパターンのラインエッジラフネス(LER)抑制技術の開発が継続採択されました。

H24. 4

H24年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究に植物内へのpH制御デバイス挿入による新規成長促進システムの開発が継続採択されました。

Ｈ２３年度

H24. 3

指導修士学生2名が修了しました。

H24. 3

指導学部学生１名が平成２３年度の電気学会学術奨励賞を受賞しました。

H24. 3

指導学部学生１名が学長表彰を受賞しました。

H24. 3

RFマグネトロンスパッタ装置、EB蒸着装置、インラインSEM、X線回折装置、ミニ植物工場装置を導入しました。

H24. 1

国際学会GIGAKU Conference (IGCN2012)で口頭発表を行いました。

H24.12

J. Photopolymer Sci & Tech誌に論文が掲載されました。

H23.11

韓国包装技術研究会（ソウル）において招待講演を行いました。

H23.10

B3学生４名が研究室に配属されました。

H23.10

国際学会Nano-S&T2011（中国・大連）において、招待講演・ポスター発表を行いました。

H23. 9

指導学部学生が、H23年電気学会基礎・材料・共通部門大会（東工大）において、ヤングエンジニア・ポスターコンペティション優秀賞を受賞しました。

H23. 9

執筆書籍1冊が出版されます。

H23. 9

電気学会Ｃ部門大会（富山大）にて3件、Ａ部門大会（東工大）にて3件の発表を行いました。

H23. 6

国際学会Photopolymer Conference 2011 において招待講演を行いました。

H23. 5

H23年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究に植物内へのpH制御デバイス挿入による新規成長促進システムの開発が採択されました。

H23. 4

H23年度の日本学術振興会 科学研究費補助金 基盤研究(B)に15ｎｍゲートパターンのラインエッジラフネス(LER)抑制技術の開発が採択されました。

Ｈ２２年度

H23. 3

執筆書籍（単著）１冊が出版されました。

H23. 3

第９回トヨタ先端技術共同研究公募のＡＦＭ関連技術が継続採択されました。

H23. 3

平成22年度の本学の安全衛生優良研究室に選定されました。

H23. 3

指導修士学生4名、学部1名が修了卒業しました。

H23. 3

指導修士学生2名が電気系長賞を受賞しました。

H23. 3

指導学部学生１名が平成２２年度の電気学会学術奨励賞を受賞しました。

H23. 3

指導学部学生１名が学長表彰を受賞しました。

H23. 3

執筆書籍１冊が出版されました。

H23. 3

韓国包装技術研究会（ソウル）において招待講演を行いました。

H22.10

指導修士学生が Young Researcher Poster Presentation Award（ＩＥＥＥ Shin-etsu Section)を受賞しました。

H22.10

第20回　電気学会東京支部新潟支所研究発表会において、5件の研究発表を行いました。

H22.10

B3学生４名が研究室に配属されました。

H22. 8

X線光電子分光装置(XPS)を導入しました。

H22. 6

Photopolymer Conference 2010 （千葉大学）において研究発表を行いました。

H22. 5

執筆書籍１冊が出版されました。

H22. 4

本学テクノミュージアムにインテリジェントMEMSデバイスが展示されました。

H22. 4

Japanese J. Appl. Phys.誌に論文が掲載されました。

H22. 4

執筆書籍１冊が出版されました。

Ｈ２１年度

H22. 3

2010年度の第９回トヨタ先端技術共同研究公募に、ＡＦＭ関連技術が採択されました。

H22. 3

指導博士学生1名、修士1名、学部1名が修了卒業しました。

H22. 3

指導学部学生１名が平成２１年度の電気学会学術奨励賞を受賞しました。

H22. 3

指導修士学生１名が学長表彰を受賞しました。

H22. 3

指導修士学生１名が電気系長賞を受賞しました。

H22. 2

Mate2010 で研究発表を行いました。

H22.12

任天堂 Wii 用クイズゲーム「NHK紅白クイズ合戦」に研究内容が紹介されました。

H21.12

セミコン・ジャパン2009で研究室展示を行いました。

H21.12

Photopolymer Science & Technology誌に論文が掲載されました。

H21.11

執筆書籍１冊が12月に出版されました。

H21. 8

SPIE Lithography Asia 2009 in 台湾 で６件の発表を行いました。

H21.10

B3学生３名が研究室に配属されました。

H21.10

燕・三条「学生」ビジネスアイディアオーディション2009において、指導修士学生が特別奨励賞を受賞しました。

H21.10

エヌエス知覚科学振興財団のH21年度育英奨学金を指導修士学生が受賞しました。

H21.9

エヌエス知覚科学振興財団H21年度研究開発費助成に採択されました。

H21.8

執筆書籍１冊が出版されました。

H21.8

Si-SiO2 ＲＩＥ装置が導入されました。

H21.8

高大連携事業（高校生講座）による研究室体験を実施しました。（参加者　10名）

H21.8

2009 技術シーズプレゼンテーション　in　新発田においてシーズ発表(マイクロバブルセンサ）を実施しました。

H21.7

第 3 回アジア接着会議（ACA2009）浜松市において６件発表しました。

H21.6

Photopolymer Conference 2009 （千葉大学）において研究発表を４件しました。

H21.4

サーモグラフィが導入されました。

Ｈ２０年度

H21.3

アッシング装置が導入されました。

H21.3

指導修士学生が学長表彰を受賞しました。

H21.3

指導修士学生２名が電気系長賞を受賞しました。

H21.1

集積デバイス工学演習（新設科目）を実施し、受講生は、ユニークなオリジナルセンサデバイスを作製しました。

H20.12

NEDO技術委員に就任しました。

H20.12

J. Photopolym. Sci. & Technol.誌へ論文が６報掲載されました。

H20.12

セミコン・ジャパン2008にて、研究室展示を行います。

H20.11

燕・三条「学生」ビジネスアイディアオーディション2008において、指導学生が優秀賞を受賞しました。

H20.10

第18回電気学会東京支部新潟支所研究発表会で ５件の研究発表を行いました。

H20.8

エヌエス知覚科学振興会のH20年度研究開発費助成に採択されました。

H20.7

流体解析ソフトが導入されました。

H20.6

J. Photopolym. Sci. & Technol.誌へ論文が５報掲載されました。

H20.6

執筆書籍1冊が出版されました。

H20.6

第３回シナジェティックデバイスフォーラムが開催され、約６０名の産学官関係者が参加されました。

H20.6

Photopolymer Conference 2008 （千葉大学）において研究発表しました。

H20.4

本学　学長裁量経費による研究助成の「分類(C) 高専との共同研究の推進」に採択されました。

H20.4

日本学術振興会 科学研究費補助金 基盤研究(B)に２５ｎｍサイズの微細レジストパターン開発が継続採択されました。

H20.4

長岡技術科学大学テクノインキュベーションセンター(NTIC) 副センター長に就任しました。

H20.4

にいがたナノテク研究会(NICO主催）副会長に就任しました。

Ｈ１９年度

H20.3

指導修士学生2名大学院をが修了しました。

H20.3

指導修士学生が本学　電気系長賞を受賞しました。

H20.1

執筆書籍が出版されました。

H19.12

シナジェティックデバイス研究会　幹事に就任しました。

H19.12

第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会で、指導学生がIEEE優秀論文発表賞を受賞しました。

H19.12

ものづくり教育の一環として、学部学生を対象とした科目「集積デバイス工学演習」を、H20年度から開講します。

H19.12

執筆書籍が出版される予定です。（2冊、H20年1月発刊予定）

H19.12

執筆書籍３冊が出版されました。

H19.12

第２回シナジェティックデバイスフォーラムが開催され、約６０名の関係者が参加されました。

H19.12

セミコン・ジャパン2007にて、研究室展示を行いました。約 150名の訪問者がありました。

H19.12

Journal of Photopolymer Science and Technology 誌に、論文10件が掲載されました。

H19.11

ナノバブルの解析および検出装置の特許出願をしました。

H19.11

第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会（於：長岡技術科学大学）で、12件の発表を行いました。

H19.10

研究室に新Ｂ３学生４名が配属されました。

H19.8

シーズプレゼンテーション・イン・魚沼にて、研究室展示を行いました。

H19.8

オープンハウス2007にて、実習生３名を受け入れました。

H19.7

オープンキャンパス2007にて、研究室を公開しました。

H19.7

新潟県中越沖地震が発生しました。研究室メンバーおよび設備には被害はありません。

H19.6

微細振動測定法の特許出願をしました。

H19.6

科学技術振興機構(JST)のH19年度シーズ発掘試験に「耐環境型液体分析マイクロチップの実用化研究」が採択されました。

H19.4

本学　学長裁量経費による研究助成の「分類(B) 基礎的研究・萌芽的研究の推進」と「分類(C) 高専との共同研究の推進」に、研究テーマが２件採択されました。

H19.4

日本学術振興会 科学研究費補助金 基盤研究(B)に２５ｎｍサイズの微細レジストパターン開発が新規採択されました。

H19.4

日本接着学会年会において、ＡＦＭのナノバブル計測制御と凍結制御技術について発表しました。

H19.4

国際学会Photopolymer Conference 2007 でＡＦＭによるナノバブル観察および解析制御技術について発表しました。

H19.4

社会人博士１名、修士2名が入学し研究室に配属されました。

Ｈ１８年度

H19.3

社会人博士１名、修士3名、学士４名の計8名が修了・卒業しました。

H19.3

指導修士学生が本学　電気系長賞を受賞しました。

H19.2

エヌエス知覚科学振興会のH18年度研究開発費助成に、水滴形状制御による高光散乱ガラスの開発が採択されました。

H19.2

日本接着学会誌への論文が掲載可となりました。

H19.1

微細パターン内の屈折率分布解析法の特許出願をしました。

H19.1

第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会（長岡技術科学大学）で、指導学生が優秀発表賞を受賞しました。

H18.12

セミコン・ジャパン2006において、ＡＦＭを用いたナノスケール制御技術の新展開について発表しました。

H18.12

Jpn. J. Appl. Phys.誌へ論文が２件掲載されました。

H18.11

第16会電気学会東京支部新潟支所研究発表会にて、微小気泡のダイナミクス等の５件の発表を行いました。

H18.10

産学交流フェア（ハイブ長岡）にて、研究成果（微小電子機械、計測制御デバイス）の発表を行いました。

H18.6

研究室のクリーンルームが本格稼動しました。

H18.6

J. Photopolym. Sci. & Technol.誌へ論文が掲載されました。

H18.6

国際学会Photopolymer Conference 2006 （千葉大学）において研究発表しました。

H18.6

池谷科学技術振興財団　H18年度研究助成に、微小液滴群からの光散乱解析に基づいた基板表面の有機単分子層の新規検出技術の開発が採択されました。

H18.4

日本表面科学会誌へ論文が掲載されました。

H18.4

日本学術振興会　科学研究費補助金　基盤研究(B)にAFMを用いたレジスト材料の凝集性解析が継続採択されました。

H18.4

Microelectronic Engineering 誌に、論文が４報掲載されました。

Ｈ１７年度

H18.2

国際学会SPIE(アメリカ・シリコンバレー）で、微小気泡の解析制御技術について発表しました。

H17.12

第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会（新潟大学）で、特別優秀賞を受賞しました。

H17.12

にいがた産学交流フェア（ハイブ長岡）にて、研究成果の発表を行いました。

H17.11

科学技術振興機構(JST)の重点地域研究開発推進事業平成17年度「シーズ育成試験」に、光干渉縞を利用した大型基板表面の清浄度分布解析法の実用化研究が採択されました。

H17.11

第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会（新潟大学）で、ＡＦＭの応用技術について発表しました。

H17.10

国際学会MNC2005（東京）で、ナノバブルの解析技術について発表しました。

H17.9

（財）エヌ・エス知覚科学振興会のH17年度の研究開発費助成に、混合ガス検知用嗅覚センサーが採択されました。

H17.9

国際学会MNE2005（オーストリア・ウィーン）で、マイクロ気泡の制御技術について発表しました。

H17.6

ベストポスター賞（日本接着学会）を受賞しました。

H17.6

2005年度のPhotopolymer Science and Technology Award を受賞しました。

H17.6

J. Photopolymer Science & Technologyに論文"Interaction Analysis of DI-water/Air/ArF Resist System Using Atomic Force Microscope"が掲載されました。

H17.6

国際学会Photopolymer Conference 2005 (千葉大学)において、液浸リソグラフィの気泡制御について発表しました。

H17.5

(財)にいがた産業創造機構(NICO)の提案公募型技術開発事業に、光学フリンジを利用した大型基板表面の清浄度評価法の実用化研究が採択されました。

H17.5

Journal of Adhesion and Interface vol.6 (2005) に国際学会CSB2004の特別論文として、Condensation of Nano-Size Polymer Aggregates by Spin Dryingが掲載されました。

H17.5

J. Photopolymer Science & Technologyへ論文"Condensation Behavior of Nanoscale Bubbles on ArF Excimer Resist Surface Analyzed by Atomic Force Microscope"が掲載されました。

H17.5

（財）にいがた産業創造機構(NICO)のH17年度提案公募型技術開発研究事業に光学フリンジを利用した大型基板表面の清浄度評価法の実用化研究が採択されました。

H17.4

日本学術振興会　科学研究費補助金　基盤研究(B)にAFMを用いたレジスト材料の凝集性解析が継続採択されました。

H17.4

文部科学省　科学研究費補助金　萌芽研究にマイクロバブルデバイス技術が継続採択されました。

Ｈ１６年度

H17.3

学長裁量経費（B：基礎研究・萌芽的研究）にマイクロバブル制御デバイスの開発が採択されました。

H17.3

（財）東京応化科学技術振興財団より、AFMによる高分子集合体の制御技術が第１９回研究費助成課題として採択されました。

H17.3

第５２回応用物理学会において、液浸リソグラフィの気泡制御とDPAT技術、ナノメニスカス制御技術について発表しました。

H17.3

第１回 学長表彰を指導学生が受賞しました。

H17.2

国際学会　SPIE Microlithography 2005 （アメリカ、サンノゼ）において、液浸リソグラフィとDPAT技術について発表しました。

H17.1

高分子学会（光反応・電子用材料研究会）で、AFMによる微小気泡の相互作用について依頼講演をしました。

H17.1

優秀発表賞(第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会) を、指導学生が受賞しました。

H17.1

原子間力顕微鏡（AFM)による液浸リソグラフィー対応のナノバブル観察技術を確立しました。

H16.12

小笠原科学技術振興財団のH16年度研究助成に、AFMによる高分子集合体の凝集制御技術が採択されました。

H16.10

新潟県中越大震災が発生しました。

H16.10

中国（北京）で開催された国際学会CSB2004にて招待講演２件、講演２件を行いました。

H16.7

佐々木環境技術振興財団のH16年度試験研究費に、ミクロ粉末への帯電処理技術が採択されました。

Ｈ１５年度

H16.3

研究室ホームページが稼動しました。