『半導体表面におけるウェットプロセスの制御、最適化技術』をテーマにセミナーを開催します
セミナーは終了しました
セミナー概要
● 日 時 2021年11月1日(月) 10:30～16:30
● 会 場 ZOOMを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
● 主 催 株式会社技術情報協会
● 講 師 河合 晃 教授
※詳細(申込み)は主催者ページをご覧ください。
https://www.gijutu.co.jp/doc/s_111411.htm
セミナー内容
セミナー趣旨
半導体ウェットプロセスは、処理能力の高さ、および半導体製品の歩留まりに直結しているため、重要なキーテクノロジーとして位置づけられています。本セミナーでは、長年、講師が先端半導体製品の開発製造に携わった経験から、半導体ウェットプロセスに注目し、ユーザー視点に基づいて、半導体洗浄、ウェットエッチング、めっき、陽極酸化技術、各処理装置の要点とノウハウを丁寧に解説します。各ウェットプロセスの基礎メカニズムに重点を置きながら、高精度化、トラブル対策について解説します。ウェットプロセスの基盤技術となる濡れ・表面エネルギーについても詳しく解説します。また、受講者が抱えている日頃の研究開発および現場トラブルに関する相談にも個別に対応します。
受講対象
半導体製造、薬剤、素材、装置メーカ関連の技術者、営業・マーケッティング担当者、新規技術導入、技術改良、量産部門の技術担当者など
習得できる知識
半導体デバイス製造におけるクリーン化技術の基礎、ウェットエッチングの基礎、めっき技術の基礎、陽極酸化法の基礎、コントロール要因、加工制御技術、および製品の歩留まり向上や品質改善および技術開発における基盤技術を習得できます
プログラム
1.ウェットプロセス技術と半導体デバイス
1.1 ウェットプロセスと半導体産業（特長と歩留まり改善効果）
1.2 プロセス概論（洗浄、エッチング、めっき、陽極酸化）
1.3 処理装置（液循環、ディップ、シャワー、スピンエッチ、フィルタリング）
2.ウェットプロセスを支配する基礎理論
2.1 濡れ性の基礎（ﾋﾟﾝﾆﾝｸﾞ現象、Laplace、Young、Wenzel、Cassie、Newmanの各式）
2.2 表面（付着）エネルギーと分散/極性成分マップ（Dupre、Fowksの各式）
2.3 界面への浸透機構（拡張濡れエネルギーS、円モデル）
2.4 溶存ガス/気泡の性質（脱離、合一、溶解）
2.5 腐食溶解（ポテンシャル－ｐH電位図）
2.6 機能水の性質（液中酸化と高抵抗率化）
2.7 ゼータ電位とpH制御（溶液中の帯電）
2.8 乾燥痕対策（ﾏﾗﾝｺﾞﾆｰ対流、IPA蒸気乾燥）
3.ウェットプロセス各論
3.1 ウェット洗浄技術
3.1.1 RCA洗浄（重金属除去、酸化還元電位）
3.1.2 ファイン粒子の吸着力（Hertz理論、JKR理論、DMT理論）
3.1.3 微粒子間の引力（Derjaguin近似、凝集ルール）
3.1.4 溶液中の粒子付着と除去（DLVO理論）
3.1.5 液体ラプラス力（液膜による凝集力）
3.1.6 DPAT技術（AFMによる剥離力の直接測定）
3.2 ウェットエッチング技術
3.2.1 加工技術としての位置づけ（設計値とシフト量）
3.2.2 基本プロセスフロー（前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄）
3.2.3 プロセス支配要因（濡れ、律速、反応速度、エッチング機構）
3.2.4 等方性/結晶異方性エッチング（アンダーカット、結晶方位依存性）
3.2.5 マスク剤の最適化（エッチング耐性、熱だれ、応力）
3.2.6 形状コントロール要因（界面濡れ性、応力集中、液循環、マスク耐性）
3.3 めっき技術
3.3.1 CuおよびNiめっき（電解、無電解めっき）
3.3.2 レジストマスクの変形対策（熱だれ、環境応力亀裂）
3.3.3 シーズ層形成（核生成促進）
3.3.4 気泡対策（ブリスター、膜剥がれ）
3.3.5 エッジ対策（界面浸透抑制）
3.4 陽極（アノード）酸化技術
3.4.1 半導体／金属の陽極酸化
3.4.2 プローブ法（絶縁パターン形成）
3.4.3 陽極酸化被膜の性質（体積膨張／ポーラス、バリア性）
4.質疑応答
（日頃の疑問、トラブル、解析・技術開発相談に個別に応じます）
5.参考資料
・濡れ／乾燥トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）
・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析（測定方法）