著書・解説
著書
監修
2冊
高周波対応基板材料の開発動向と応用展開
- 執筆箇所
- ：第1編 第1章 高周波対応基板の基礎と今後の動向（P3～12）、第3編 第17章 レジストリソグラフィー技術（P204～221）、第3編 第21章 プリント基板用の電極接合材料の最適化（P261～271）、第4編 第23章 高周波対応基板の信頼性・耐久性・寿命試験（P286～296）
- 出版
- ：シーエムシー出版 2021年
- 総ページ数
- ：296ページ
- ISBN
- ：978-4-7813-1590-4
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
- 執筆箇所
- ：第I編 第1章 リソグラフィープロセス概論（P1～11）、第III編 第1章 最適化のための技術概論（P105～115）、第III編 第3章 多層レジストプロセス（P124～131）、第III編 第6章 フォトレジストプロセスに起因した欠陥（P175～185）、第IV編 第4章 ナノスケール寸法計測(プローブ顕微鏡)（P241～248）、第IV編 第5章 付着凝集性解析(DPAT法)による特性評価（P249～259）、第VI編 第2章 密着強化処理(シランカップリング処理)の最適化技術（P303～312）
- 出版
- ：シーエムシー出版 2017年
- 総ページ数
- ：320ページ
- ISBN
- ：978-4-7813-1263-7
単著
5冊
レジスト材料の基礎とプロセス最適化
- 出版
- ：シーエムシー･リサーチ 2021年
- 総ページ数
- ：193ページ
- ISBN
- ：978-4-910581-10-1
目次
第1章 レジスト材料
1 高分子集合体
1.1 はじめに
1.2 表面エネルギーとサイズ効果
1.3 レジスト膜表面ミクロ構造
1.4 集合体の凝集モデル
1.5 分散凝集解析
1.6 サイズ依存性
1.7 マニピュレーション
1.8 ナノ空孔
2 付着現象
2.1 はじめに
2.2 感光性樹脂
2.3 水溶液中での付着解析
2.4 水溶液中でのレジスト膜付着性
2.5 膨潤と溶解
2.6 大気中での付着解析
2.7 大気中でのレジスト膜付着性
2.8 レジスト膜の凝集性
2.9 表面処理と付着性
3 レジスト膜乾燥におけるトラブル
3.1 はじめに
3.2 クラック
3.3 ポッピング
3.4 表面硬化層
3.5 環境応力亀裂（クレイズ）
4 浸透と膨潤
4.1 はじめに
4.2 膜応力変動
4.3 残留溶媒量と付着性
4.4 浸透と電気伝導
4.5 膨潤と屈折率変動
第2章 レジストプロセス
1 レジストプロセス
1.1 はじめに
1.2 リソグラフィープロセス
1.3 各種レジストプロセス
（1） 3層レジストプロセス
（2） DFR積層レジストプロセス
（3） マルチパターニング技術
（4） 表面難溶化層プロセス
（5） ナノインプリント技術
（6） PEB（Post exposure bake）技術
（7） CEL (Contrast enhanced lithography）法
（8） 反射防止膜（BARC）
（9） イメージリバーサル技術
（10） 液浸露光技術
（11） 超臨界乾燥プロセス
（12） 位相シフトプロセス
1.4 感度曲線とコントラスト
1.5 スピンコート特性
2 密着強化処理（シランカップリング処理）
2.1 はじめに
2.2 疎水化処理
2.3 最適化プロセス
2.4 処理装置
2.5 密着性と付着性制御
3 多層レジストプロセス
3.1 はじめに
3.2 プロセスフロー
3.3 3層レジストプロセス
3.4 Si含有2層レジストプロセス
3.5 DFR積層レジストプロセス
4 ウェットプロセス
4.1 はじめに
4.2 接触角（Youngの式とDupreの式）
4.3 液滴ピンニング
4.4 粗い表面の濡れ性（Wenzelの式）
4.5 異種材質表面の濡れ性（Cassieの式）
4.6 濡れ性の変化（Newmanの式）
4.7 ナノ液滴
5 乾燥プロセス
5.1 はじめに
5.2 レジスト膜の形成
5.3 レジスト液の混合と溶解
5.4 乾燥によるエネルギー変化
5.5 溶剤拡散モデル
5.6 ラプラス力とレジスト膜の凝集
5.7 熱処理による膜硬化
5.8 パターン間メニスカス
6 乾燥方式
6.1 はじめに
6.2 乾燥装置
6.3 赤外線乾燥
6.4 減圧（真空）乾燥
6.5 凍結乾燥
6.6 超臨界乾燥
6.7 スピン乾燥
第3章 ナノスケール計測技術
1 寸法計測
1.1 はじめに
1.2 AFMによる寸法測定
1.3 高分子集合体の凝集制御
1.4 LER（line edge roughness）
2 DPAT法（付着力測定法）
2.1 はじめに
2.2 DPAT法
2.3 熱処理温度依存性
2.4 サイズ依存性
2.5 パターン形状と剥離性
2.6 溶液中の付着性
2.7 ヤング率測定
3 耐久性評価
3.1 はじめに
3.2 加速試験
3.3 ワイブル分布
第4章 レジスト付着性
1 付着現象
1.1 はじめに
1.2 付着要因
1.3 実効付着面積
1.4 表面エネルギー成分
1.5 分散・極性成分測定
1.6 液体の拡張（拡張係数S）
1.7 3成分解析
2 応力集中効果
2.1 はじめに
2.2 アンダーカット
2.3 応力分布解析
2.4 凹凸パターン
2.5 開口パターン
2.6 ラインパターン
2.7 表面硬化層
3 付着力推定
3.1 はじめに
3.2 原子間力顕微鏡（AFM）
3.3 フォースカーブ
3.4 吸着力と表面自由エネルギー
3.5 相互作用解析
3.6 付着強度の推定
第5章 レジスト欠陥
1 プロセス欠陥
1.1 はじめに
1.2 表面硬化層
1.3 濡れ欠陥（ピンホール）
1.4 ポッピング現象
1.5 乾燥むら
1.6 液滴ポッピング
2 VF（viscous finger）変形
2.1 はじめに
2.2 ギャップ間のVF変形
2.3 VF変形とレジスト接着性
2.4 VF変形と応力集中
3 ウォータマーク（乾燥痕）
3.1 はじめに
3.2 形成メカニズム
4 発泡（ふくれ）
4.1 はじめに
4.2 ポッピング
4.3 感光剤濃度依存性
5 微小気泡
5.1 はじめに
5.2 気泡捕獲パターン
5.3 捕獲と脱離
5.4 AFMによるナノ気泡制御
5.5 マイクロバブルメモリ
参考文献
付録 Q＆A
1 コーティング Q＆A
塗布・乾燥プロセス、微粒子制御、塗膜の性質
2 濡れ・気泡・付着・表面処理 Q＆A
液滴の濡れ性、付着剥離、微小気泡、塗布乾燥欠陥、表面エネルギーと表面処理
3 分析・評価・解析 Q＆A
評価・分析・解析、信頼性評価
索引
第1章 レジスト材料
1 高分子集合体
1.1 はじめに
1.2 表面エネルギーとサイズ効果
1.3 レジスト膜表面ミクロ構造
1.4 集合体の凝集モデル
1.5 分散凝集解析
1.6 サイズ依存性
1.7 マニピュレーション
1.8 ナノ空孔
2 付着現象
2.1 はじめに
2.2 感光性樹脂
2.3 水溶液中での付着解析
2.4 水溶液中でのレジスト膜付着性
2.5 膨潤と溶解
2.6 大気中での付着解析
2.7 大気中でのレジスト膜付着性
2.8 レジスト膜の凝集性
2.9 表面処理と付着性
3 レジスト膜乾燥におけるトラブル
3.1 はじめに
3.2 クラック
3.3 ポッピング
3.4 表面硬化層
3.5 環境応力亀裂（クレイズ）
4 浸透と膨潤
4.1 はじめに
4.2 膜応力変動
4.3 残留溶媒量と付着性
4.4 浸透と電気伝導
4.5 膨潤と屈折率変動
第2章 レジストプロセス
1 レジストプロセス
1.1 はじめに
1.2 リソグラフィープロセス
1.3 各種レジストプロセス
（1） 3層レジストプロセス
（2） DFR積層レジストプロセス
（3） マルチパターニング技術
（4） 表面難溶化層プロセス
（5） ナノインプリント技術
（6） PEB（Post exposure bake）技術
（7） CEL (Contrast enhanced lithography）法
（8） 反射防止膜（BARC）
（9） イメージリバーサル技術
（10） 液浸露光技術
（11） 超臨界乾燥プロセス
（12） 位相シフトプロセス
1.4 感度曲線とコントラスト
1.5 スピンコート特性
2 密着強化処理（シランカップリング処理）
2.1 はじめに
2.2 疎水化処理
2.3 最適化プロセス
2.4 処理装置
2.5 密着性と付着性制御
3 多層レジストプロセス
3.1 はじめに
3.2 プロセスフロー
3.3 3層レジストプロセス
3.4 Si含有2層レジストプロセス
3.5 DFR積層レジストプロセス
4 ウェットプロセス
4.1 はじめに
4.2 接触角（Youngの式とDupreの式）
4.3 液滴ピンニング
4.4 粗い表面の濡れ性（Wenzelの式）
4.5 異種材質表面の濡れ性（Cassieの式）
4.6 濡れ性の変化（Newmanの式）
4.7 ナノ液滴
5 乾燥プロセス
5.1 はじめに
5.2 レジスト膜の形成
5.3 レジスト液の混合と溶解
5.4 乾燥によるエネルギー変化
5.5 溶剤拡散モデル
5.6 ラプラス力とレジスト膜の凝集
5.7 熱処理による膜硬化
5.8 パターン間メニスカス
6 乾燥方式
6.1 はじめに
6.2 乾燥装置
6.3 赤外線乾燥
6.4 減圧（真空）乾燥
6.5 凍結乾燥
6.6 超臨界乾燥
6.7 スピン乾燥
第3章 ナノスケール計測技術
1 寸法計測
1.1 はじめに
1.2 AFMによる寸法測定
1.3 高分子集合体の凝集制御
1.4 LER（line edge roughness）
2 DPAT法（付着力測定法）
2.1 はじめに
2.2 DPAT法
2.3 熱処理温度依存性
2.4 サイズ依存性
2.5 パターン形状と剥離性
2.6 溶液中の付着性
2.7 ヤング率測定
3 耐久性評価
3.1 はじめに
3.2 加速試験
3.3 ワイブル分布
第4章 レジスト付着性
1 付着現象
1.1 はじめに
1.2 付着要因
1.3 実効付着面積
1.4 表面エネルギー成分
1.5 分散・極性成分測定
1.6 液体の拡張（拡張係数S）
1.7 3成分解析
2 応力集中効果
2.1 はじめに
2.2 アンダーカット
2.3 応力分布解析
2.4 凹凸パターン
2.5 開口パターン
2.6 ラインパターン
2.7 表面硬化層
3 付着力推定
3.1 はじめに
3.2 原子間力顕微鏡（AFM）
3.3 フォースカーブ
3.4 吸着力と表面自由エネルギー
3.5 相互作用解析
3.6 付着強度の推定
第5章 レジスト欠陥
1 プロセス欠陥
1.1 はじめに
1.2 表面硬化層
1.3 濡れ欠陥（ピンホール）
1.4 ポッピング現象
1.5 乾燥むら
1.6 液滴ポッピング
2 VF（viscous finger）変形
2.1 はじめに
2.2 ギャップ間のVF変形
2.3 VF変形とレジスト接着性
2.4 VF変形と応力集中
3 ウォータマーク（乾燥痕）
3.1 はじめに
3.2 形成メカニズム
4 発泡（ふくれ）
4.1 はじめに
4.2 ポッピング
4.3 感光剤濃度依存性
5 微小気泡
5.1 はじめに
5.2 気泡捕獲パターン
5.3 捕獲と脱離
5.4 AFMによるナノ気泡制御
5.5 マイクロバブルメモリ
参考文献
付録 Q＆A
1 コーティング Q＆A
塗布・乾燥プロセス、微粒子制御、塗膜の性質
2 濡れ・気泡・付着・表面処理 Q＆A
液滴の濡れ性、付着剥離、微小気泡、塗布乾燥欠陥、表面エネルギーと表面処理
3 分析・評価・解析 Q＆A
評価・分析・解析、信頼性評価
索引
レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
- 出版
- ：Ｒ＆Ｄ支援センター 2018年
- 総ページ数
- ：185ページ
- ISBN
- ：978-4-905507-25-3
目次
第1章 レジスト材料
1.1 高分子集合体
1.1.1 はじめに
1.1.2 表面エネルギーとサイズ効果
1.1.3 レジスト膜表面ミクロ構造
1.1.4 集合体の凝集モデル
1.1.5 分散凝集解析
1.1.6 サイズ依存性
1.1.7 マニピュレーション
1.1.8 ナノ空孔
1.2 付着現象
1.2.1 はじめに
1.2.2 感光性樹脂
1.2.3 水溶液中での付着解析
1.2.4 水溶液中でのレジスト膜付着性
1.2.5 膨潤と溶解
1.2.6 大気中での付着解析
1.2.7 大気中でのレジスト膜付着性
1.2.8 レジスト膜の凝集性
1.2.9 表面処理と付着性
1.3 表面硬化層
1.3.1 はじめに
1.3.2 クラック
1.3.3 ポッピング
1.3.4 表面硬化層
1.3.5 環境応力亀裂（クレイズ）
1.4 浸透と膨潤
1.4.1 はじめに
1.4.2 膜応力変動
1.4.3 残留溶媒量と付着性
1.4.4 浸透と電気伝導
1.4.5 膨潤と屈折率変動
第2章 レジストプロセス
2.1 レジストプロセス
2.1.1 はじめに
2.1.2 リソグラフィープロセス
2.1.3 各種レジストプロセス
2.1.4 感度曲線とコントラスト
2.1.5 スピンコート特性
2.2 密着強化処理（シランカップリング処理）
2.2.1 はじめに
2.2.2 疎水化処理
2.2.3 最適化プロセス
2.2.4 処理装置
2.2.5 密着性と付着性制御
2.3 多層レジストプロセス
2.3.1 はじめに
2.3.2 プロセスフロー
2.3.3 3層レジストプロセス
2.3.4 Si含有2層レジストプロセス
2.3.5 DFR積層レジストプロセス
2.4 ウェットプロセス
2.4.1 はじめに
2.4.2 接触角（Youngの式とDupreの式）
2.4.3 液滴ピンニング
2.4.4 粗い表面の濡れ性（Wenzelの式）
2.4.5 異種材質表面の濡れ性（Cassieの式）
2.4.6 濡れ性の変化（Newmanの式）
2.4.7 ナノ液滴
2.5 乾燥プロセス
2.5.1 はじめに
2.5.2 レジスト膜の形成
2.5.3 レジスト液の混合と溶解
2.5.4 乾燥によるエネルギー変化
2.5.5 溶剤拡散モデル
2.5.6 ラプラス力とレジスト膜の凝集
2.5.7 熱処理による膜硬化
2.5.8 パターン間メニスカス
2.6 乾燥方式
2.6.1 はじめに
2.6.2 乾燥装置
2.6.3 赤外線乾燥
2.6.4 減圧（真空）乾燥
2.6.5 凍結乾燥
2.6.6 超臨界乾燥
2.6.7 スピン乾燥
第3章 ナノスケール計測技術
3.1 寸法計測
3.1.1 はじめに
3.1.2 AFMによる寸法測定
3.1.3 高分子集合体の凝集制御
3.1.4 LER （Line Edge Roughness）
3.2 DPAT法（付着力解析法）
3.2.1 はじめに
3.2.2 DPAT法
3.2.3 熱処理温度依存性
3.2.4 サイズ依存性
3.2.5 パターン形状と剥離性
3.2.6 溶液中の付着性
3.2.7 ヤング率測定
3.3 耐久性評価
3.3.1 はじめに
3.3.2 加速試験
3.3.3 ワイブル分布
第4章 レジスト付着性
4.1 付着現象
4.1.1 はじめに
4.1.2 付着要因
4.1.3 実効付着面積
4.1.4 表面エネルギー成分
4.1.5 分散・極性成分測定
4.1.6 液体の拡張（拡張係数S ）
4.1.7 3成分解析
4.2 応力集中効果
4.2.1 はじめに
4.2.2 アンダーカット
4.2.3 応力分布解析
4.2.4 凹凸パターン
4.2.5 開口パターン
4.2.6 ラインパターン
4.2.7 表面硬化層
4.3 付着力推定
4.3.1 はじめに
4.3.2 原子間力顕微鏡（AFM）
4.3.3 フォースカーブ
4.3.4 吸着力と表面自由エネルギー
4.3.5 相互作用解析
4.3.6 付着強度の推定
第5章 レジスト欠陥
5.1 プロセス欠陥
5.1.1 はじめに
5.1.2 表面硬化層
5.1.3 濡れ欠陥（ピンホール）
5.1.4 ポッピング現象
5.1.5 乾燥むら
5.1.6 液滴ポッピング
5.2 VF（Viscous Finger）変形
5.2.1 はじめに
5.2.2 ギャップ間のVF変形
5.2.3 VF変形とレジスト接着性
5.2.4 VF変形と応力集中
5.3 ウォータマーク（乾燥痕）
5.3.1 はじめに
5.3.2 形成メカニズム
5.4 発泡（ふくれ）
5.4.1 はじめに
5.4.2 ポッピング
5.4.3 感光剤濃度依存性
5.5 微小気泡
5.5.1 はじめに
5.5.2 気泡捕獲パターン
5.5.3 捕獲と脱離
5.5.4 AFMによるナノ気泡制御
5.5.5 マイクロバブルメモリ
参考文献
第1章 レジスト材料
1.1 高分子集合体
1.1.1 はじめに
1.1.2 表面エネルギーとサイズ効果
1.1.3 レジスト膜表面ミクロ構造
1.1.4 集合体の凝集モデル
1.1.5 分散凝集解析
1.1.6 サイズ依存性
1.1.7 マニピュレーション
1.1.8 ナノ空孔
1.2 付着現象
1.2.1 はじめに
1.2.2 感光性樹脂
1.2.3 水溶液中での付着解析
1.2.4 水溶液中でのレジスト膜付着性
1.2.5 膨潤と溶解
1.2.6 大気中での付着解析
1.2.7 大気中でのレジスト膜付着性
1.2.8 レジスト膜の凝集性
1.2.9 表面処理と付着性
1.3 表面硬化層
1.3.1 はじめに
1.3.2 クラック
1.3.3 ポッピング
1.3.4 表面硬化層
1.3.5 環境応力亀裂（クレイズ）
1.4 浸透と膨潤
1.4.1 はじめに
1.4.2 膜応力変動
1.4.3 残留溶媒量と付着性
1.4.4 浸透と電気伝導
1.4.5 膨潤と屈折率変動
第2章 レジストプロセス
2.1 レジストプロセス
2.1.1 はじめに
2.1.2 リソグラフィープロセス
2.1.3 各種レジストプロセス
2.1.4 感度曲線とコントラスト
2.1.5 スピンコート特性
2.2 密着強化処理（シランカップリング処理）
2.2.1 はじめに
2.2.2 疎水化処理
2.2.3 最適化プロセス
2.2.4 処理装置
2.2.5 密着性と付着性制御
2.3 多層レジストプロセス
2.3.1 はじめに
2.3.2 プロセスフロー
2.3.3 3層レジストプロセス
2.3.4 Si含有2層レジストプロセス
2.3.5 DFR積層レジストプロセス
2.4 ウェットプロセス
2.4.1 はじめに
2.4.2 接触角（Youngの式とDupreの式）
2.4.3 液滴ピンニング
2.4.4 粗い表面の濡れ性（Wenzelの式）
2.4.5 異種材質表面の濡れ性（Cassieの式）
2.4.6 濡れ性の変化（Newmanの式）
2.4.7 ナノ液滴
2.5 乾燥プロセス
2.5.1 はじめに
2.5.2 レジスト膜の形成
2.5.3 レジスト液の混合と溶解
2.5.4 乾燥によるエネルギー変化
2.5.5 溶剤拡散モデル
2.5.6 ラプラス力とレジスト膜の凝集
2.5.7 熱処理による膜硬化
2.5.8 パターン間メニスカス
2.6 乾燥方式
2.6.1 はじめに
2.6.2 乾燥装置
2.6.3 赤外線乾燥
2.6.4 減圧（真空）乾燥
2.6.5 凍結乾燥
2.6.6 超臨界乾燥
2.6.7 スピン乾燥
第3章 ナノスケール計測技術
3.1 寸法計測
3.1.1 はじめに
3.1.2 AFMによる寸法測定
3.1.3 高分子集合体の凝集制御
3.1.4 LER （Line Edge Roughness）
3.2 DPAT法（付着力解析法）
3.2.1 はじめに
3.2.2 DPAT法
3.2.3 熱処理温度依存性
3.2.4 サイズ依存性
3.2.5 パターン形状と剥離性
3.2.6 溶液中の付着性
3.2.7 ヤング率測定
3.3 耐久性評価
3.3.1 はじめに
3.3.2 加速試験
3.3.3 ワイブル分布
第4章 レジスト付着性
4.1 付着現象
4.1.1 はじめに
4.1.2 付着要因
4.1.3 実効付着面積
4.1.4 表面エネルギー成分
4.1.5 分散・極性成分測定
4.1.6 液体の拡張（拡張係数S ）
4.1.7 3成分解析
4.2 応力集中効果
4.2.1 はじめに
4.2.2 アンダーカット
4.2.3 応力分布解析
4.2.4 凹凸パターン
4.2.5 開口パターン
4.2.6 ラインパターン
4.2.7 表面硬化層
4.3 付着力推定
4.3.1 はじめに
4.3.2 原子間力顕微鏡（AFM）
4.3.3 フォースカーブ
4.3.4 吸着力と表面自由エネルギー
4.3.5 相互作用解析
4.3.6 付着強度の推定
第5章 レジスト欠陥
5.1 プロセス欠陥
5.1.1 はじめに
5.1.2 表面硬化層
5.1.3 濡れ欠陥（ピンホール）
5.1.4 ポッピング現象
5.1.5 乾燥むら
5.1.6 液滴ポッピング
5.2 VF（Viscous Finger）変形
5.2.1 はじめに
5.2.2 ギャップ間のVF変形
5.2.3 VF変形とレジスト接着性
5.2.4 VF変形と応力集中
5.3 ウォータマーク（乾燥痕）
5.3.1 はじめに
5.3.2 形成メカニズム
5.4 発泡（ふくれ）
5.4.1 はじめに
5.4.2 ポッピング
5.4.3 感光剤濃度依存性
5.5 微小気泡
5.5.1 はじめに
5.5.2 気泡捕獲パターン
5.5.3 捕獲と脱離
5.5.4 AFMによるナノ気泡制御
5.5.5 マイクロバブルメモリ
参考文献
一発必中シリーズ
「欠陥を出さない！良い塗布膜を得るためのコントロール技術」
- 出版
- ：サイエンス＆テクノロジー 2012年
- 総ページ数
- ：197ページ
- ISBN
- ：978-4-86428-046-4
目次
第1章 濡れ性を制御する！
1. 表面粗さと素材割合によって接触角は変化する
2. 表面の現象は表面エネルギーと表面積に強く依存する
3. 接触角をエネルギー的に解析する
4. 多くの濡れ挙動は分散極性と拡張係数により説明できる
5. 撥水表面は濡れにくい
6. 凸部では濡れにくく凹部では濡れやすい
第2章 濡れ欠陥の発生要因を見極める！
1. 接着層には多くのピンホールが生じる ～VF（viscos finger）変形～
2. ピンホールは拡張モードで解決する
3. ピンニングにより濡れは支配される
4. 塗膜の熱処理により溶液中の付着性をコントロールする
5. 乾燥時の液体メニスカスの挙動を追う
第3章 塗膜の凝集性を制御する！
1. 塗膜の表面には極薄い硬化層ができている
2. 高分子膜の表面粗さをナノスケールで制御する
3. ナノマニピュレーション法により高分子集合体の凝集性を解析できる
4. 高分子膜中へのアルカリ水溶液の浸透により応力が変動する
5. 塗膜の熱処理により界面への溶液浸透は加速する
第4章 表面および界面特性を制御する！
1. 塗膜の付着性の最適化には表面エネルギーの極性成分の設定が有効である
2. ウェットエッチングは塗膜の内部応力でコントロールできる
3. シランカップリング処理により固体表面を疎水化できる
4. シランカップリング処理には最適な処理温度と処理時間がある
5. シランカップリング処理により密着性は改善するが付着性は劣化する
6. 界面構造の解析により付着性をコントロールできる
第5章 乾燥プロセス・装置を制御する！
1. 塗膜の乾燥による硬化メカニズムを明確にする
2. スピンコート法による塗膜の膜質は均一である
3. 熱処理によって大気中の付着力は増加する
4. 減圧乾燥によって塗膜の内部応力を精密にコントロールできる
5. 超臨界と凍結乾燥法により溶剤のラプラス力を低減できる
第6章 乾燥欠陥を抑制する！
1. 塗膜のクラック発生を抑制する
2. 乾燥むらは乾燥時の対流が原因である
3. ウォータマーク（乾燥痕）は対流とピンニングで生じる
4. 塗膜内のガス発生により微小剥離が生じる
5. 微細パターンにより微小気泡の付着脱離が解析できる
第7章 微粒子の凝集性を制御する！
1. 小さいサイズの微粒子ほど凝集を支配する
2. 微粒子の凝集はサイズに依存する
3. 粒子サイズが小さいほど微粒子の凝集力は下がる
第8章 微細パターンの付着を制御する！
1. リソグラフィーにより高分子パターンは形成される
2. 塗膜ラインパターンは先端から剥離する
3. 微細加工パターンの付着性は付着面積に比例する
4. 溶液中の塗膜パターンの付着力は乾燥雰囲気に比べて低下する
5. 高分子パターンと基板界面は微細空孔（vacancy）が形成されている
第9章 塗膜の評価解析方法
1. 屈折率により膜の浸透・膨潤が解析できる
2. 原子間力顕微鏡（AFM）により微細加工パターンの付着性が解析できる
3. 原子間力顕微鏡（AFM）を用いて微小固体のヤング率を測定する
4. 原子間力顕微鏡（AFM）でナノ気泡・ナノ液滴が解析できる
5. 相互作用力を実測し付着力を推定する
6. 水素結合成分で高分子膜の相互作用を解析できる
第10章 塗膜の実用分野
1. ＣＶＤ膜の被覆性およびボイド形成は段差形状に依存する
2. 薄膜の加工技術が半導体集積回路は発展を支えてきた
3. 最先端エレクトロニクスにも塗膜が使われている ～MEMSにおける薄膜技術～
4. コーティング膜の信頼性を解析する
第1章 濡れ性を制御する！
1. 表面粗さと素材割合によって接触角は変化する
2. 表面の現象は表面エネルギーと表面積に強く依存する
3. 接触角をエネルギー的に解析する
4. 多くの濡れ挙動は分散極性と拡張係数により説明できる
5. 撥水表面は濡れにくい
6. 凸部では濡れにくく凹部では濡れやすい
第2章 濡れ欠陥の発生要因を見極める！
1. 接着層には多くのピンホールが生じる ～VF（viscos finger）変形～
2. ピンホールは拡張モードで解決する
3. ピンニングにより濡れは支配される
4. 塗膜の熱処理により溶液中の付着性をコントロールする
5. 乾燥時の液体メニスカスの挙動を追う
第3章 塗膜の凝集性を制御する！
1. 塗膜の表面には極薄い硬化層ができている
2. 高分子膜の表面粗さをナノスケールで制御する
3. ナノマニピュレーション法により高分子集合体の凝集性を解析できる
4. 高分子膜中へのアルカリ水溶液の浸透により応力が変動する
5. 塗膜の熱処理により界面への溶液浸透は加速する
第4章 表面および界面特性を制御する！
1. 塗膜の付着性の最適化には表面エネルギーの極性成分の設定が有効である
2. ウェットエッチングは塗膜の内部応力でコントロールできる
3. シランカップリング処理により固体表面を疎水化できる
4. シランカップリング処理には最適な処理温度と処理時間がある
5. シランカップリング処理により密着性は改善するが付着性は劣化する
6. 界面構造の解析により付着性をコントロールできる
第5章 乾燥プロセス・装置を制御する！
1. 塗膜の乾燥による硬化メカニズムを明確にする
2. スピンコート法による塗膜の膜質は均一である
3. 熱処理によって大気中の付着力は増加する
4. 減圧乾燥によって塗膜の内部応力を精密にコントロールできる
5. 超臨界と凍結乾燥法により溶剤のラプラス力を低減できる
第6章 乾燥欠陥を抑制する！
1. 塗膜のクラック発生を抑制する
2. 乾燥むらは乾燥時の対流が原因である
3. ウォータマーク（乾燥痕）は対流とピンニングで生じる
4. 塗膜内のガス発生により微小剥離が生じる
5. 微細パターンにより微小気泡の付着脱離が解析できる
第7章 微粒子の凝集性を制御する！
1. 小さいサイズの微粒子ほど凝集を支配する
2. 微粒子の凝集はサイズに依存する
3. 粒子サイズが小さいほど微粒子の凝集力は下がる
第8章 微細パターンの付着を制御する！
1. リソグラフィーにより高分子パターンは形成される
2. 塗膜ラインパターンは先端から剥離する
3. 微細加工パターンの付着性は付着面積に比例する
4. 溶液中の塗膜パターンの付着力は乾燥雰囲気に比べて低下する
5. 高分子パターンと基板界面は微細空孔（vacancy）が形成されている
第9章 塗膜の評価解析方法
1. 屈折率により膜の浸透・膨潤が解析できる
2. 原子間力顕微鏡（AFM）により微細加工パターンの付着性が解析できる
3. 原子間力顕微鏡（AFM）を用いて微小固体のヤング率を測定する
4. 原子間力顕微鏡（AFM）でナノ気泡・ナノ液滴が解析できる
5. 相互作用力を実測し付着力を推定する
6. 水素結合成分で高分子膜の相互作用を解析できる
第10章 塗膜の実用分野
1. ＣＶＤ膜の被覆性およびボイド形成は段差形状に依存する
2. 薄膜の加工技術が半導体集積回路は発展を支えてきた
3. 最先端エレクトロニクスにも塗膜が使われている ～MEMSにおける薄膜技術～
4. コーティング膜の信頼性を解析する
現場で応用できるコーティングの理論と現象
－トラブルをメカニズムから考える－
- 出版
- ：加工技術研究会 2012年
- 総ページ数
- ：184ページ
- ISBN
- ：978-4906451449
目次
第1章 コーティングの基礎
1.濡れ
2.表面エネルギー
3.疎水化処理
4.濡れトラブルの原因・対策
第2章 塗膜乾燥
1.塗布の乾燥メカニズムと制御
2.塗膜の熱処理による膜質制御
3.塗膜の応力
4.乾燥装置
5.乾燥欠陥
第3章 接着のメカニズムと界面
1.接着
2.高分子集合体
3.浸透と応力変動
4．多層界面構造
5．ナノ空孔（Vacancy）
6．相互作用引力
第4章 ナノテクノロジーとコーティング
1.マイクロエレクトロニクスと付着性
2.プラズマＣＶＤ
3.MEMSにおける薄膜技術
4.ナノ粒子・ナノ気泡・ナノ液滴の解析技術
第5章 解析技術
1.信頼性解析技術
付録 トラブルにおけるQ&A
1.濡れにおけるトラブル
2.乾燥におけるトラブル
3.接着におけるトラブル
第1章 コーティングの基礎
1.濡れ
2.表面エネルギー
3.疎水化処理
4.濡れトラブルの原因・対策
第2章 塗膜乾燥
1.塗布の乾燥メカニズムと制御
2.塗膜の熱処理による膜質制御
3.塗膜の応力
4.乾燥装置
5.乾燥欠陥
第3章 接着のメカニズムと界面
1.接着
2.高分子集合体
3.浸透と応力変動
4．多層界面構造
5．ナノ空孔（Vacancy）
6．相互作用引力
第4章 ナノテクノロジーとコーティング
1.マイクロエレクトロニクスと付着性
2.プラズマＣＶＤ
3.MEMSにおける薄膜技術
4.ナノ粒子・ナノ気泡・ナノ液滴の解析技術
第5章 解析技術
1.信頼性解析技術
付録 トラブルにおけるQ&A
1.濡れにおけるトラブル
2.乾燥におけるトラブル
3.接着におけるトラブル
塗膜・レジスト膜の乾燥・付着技術とトラブル対策
- 出版
- ：情報機構 2011年
- 総ページ数
- ：196ページ
- ISBN
- ：978-4-904080-75-7
目次
第1章 濡れの基礎理論
1.微小液滴の表面エネルギーとサイズ効果
2.液滴の濡れ性を表す基本式
2.1 接触角の定義式（Youngの式とDupreの式）
2.2 粗い表面での接触角（Wenzelの式）
2.3 異種材質の基板上で接触角（Cassieの式）
2.4 時間経過による接触角変化（Neumannの式）
第2章 表面エネルギーの制御・応用
1.表面エネルギーの分散・極性成分
2.接触角法による分散・極性成分の測定方法
3.拡張係数Sによる塗液の広がり評価
4.拡張係数Sによる液中での塗膜および微粒子の付着評価
5.表面処理による分散と極性成分の制御
第3章 シランカップリング処理の活用方法
1.カップリング剤の化学的性質
2.HMDS処理のプロセス最適化
3.HMDS処理の装置構成
4.HMDS処理による密着性改善
5.HMDS処理による付着性低下
第4章 濡れトラブルの原因・対策
1.液滴のポッピング
2.濡れのピンニング効果
3.塗布膜のピンホール
4.ギャップ内の粘性指状（VF）変形
第5章 塗膜の乾燥メカニズムと制御
1.塗膜の形成
2.塗工液の混合と溶解
3.乾燥プロセスにおけるエネルギー変化
4.溶剤の拡散モデル
5.ラプラス力による塗膜の凝集
6.熱処理による塗膜の硬化
第6章 乾燥装置の機構と性能
1.加熱乾燥
2.赤外線乾燥
3.減圧（真空）乾燥
4.凍結乾燥
5.超臨界乾燥
6.スピン乾燥
第7章 乾燥トラブルの原因・対策
1.クラック
2.ポッピング
3.表面硬化層
4.環境応力亀裂（クレイズ）
5.ウォータマーク
6.乾燥むら
7.液体メニスカス
第8章 接着の原理と基礎理論
1.付着の要因
2.界面の実効付着面積
3.付着界面の相互作用
3.1 原子間力顕微鏡の基本構成
3.2 フォースカーブとファンデルワールス相互作用
3.3 AFM探針の吸着力と固体の表面自由エネルギー
3.4 表面処理層におけるファンデルワールス相互作用解析
3.5 薄膜間の付着強度の推定
3.6 表面エネルギーの3成分解析
第9章 微細加工パターンの付着性解析
1.リソグラフィー
2.レジストパターンの付着要因
3.レジストパターンの付着特性
3.1 DPAT法
3.2 付着力の熱処理温度依存性
3.3 付着力のパターンサイズ依存性
3.4 溶液中でのパターン付着力の解析
3.5 付着力のパターン形状依存性
第10章 微粒子の分散凝集解析
1.付着力のPSL粒径依存性
第11章 応力分布と付着性
1.微細パターンの形成
2.有限要素法による二次元熱応力分布解析
3.パターン形状に依存した剥離挙動
3.1 凹凸パターン
3.2 開口パターン
3.3 ラインパターン
3.4 レジスト表面硬化層
第12章 高分子膜中へのアルカリ水溶液の浸透と接着性
1.コーティング膜の抵抗測定
2.真空処理と塗膜内の残留溶剤量
3.TMAH水溶液の浸透効果
第13章 異なる表面エネルギーを有する無機基板での接着
1.付着試験
2.各無機膜の表面エネルギー
3.乾燥下での接着挙動
4.TMAH水溶液中での接着挙動
第14章 微小気泡の性質と制御技術
1.レジストパターン上での気泡の捕獲と脱離
2.レジストパターン内の気泡移動
3.原子間力顕微鏡（AFM）によるナノ気泡観察
4.レジスト上のナノ気泡の剥離力測定
第15章 レジスト/基板界面でのボイド形成
1.ボイド観察手法
2.レジスト間の歪みエネルギー
3.ボイド形成モデル
4.感光剤濃度および表面エネルギー依存性
5.形成ファクター有効性
第16章 コーティング膜の熱処理と接着挙動
1.レジスト材料
2.レジストの光、熱反応
3.TMAH水溶液中での接着挙動
4.表面エネルギー依存性
5.レジストの溶液および膨潤の影響
6.乾燥下での接着挙動
7.表面エネルギー依存性
第1章 濡れの基礎理論
1.微小液滴の表面エネルギーとサイズ効果
2.液滴の濡れ性を表す基本式
2.1 接触角の定義式（Youngの式とDupreの式）
2.2 粗い表面での接触角（Wenzelの式）
2.3 異種材質の基板上で接触角（Cassieの式）
2.4 時間経過による接触角変化（Neumannの式）
第2章 表面エネルギーの制御・応用
1.表面エネルギーの分散・極性成分
2.接触角法による分散・極性成分の測定方法
3.拡張係数Sによる塗液の広がり評価
4.拡張係数Sによる液中での塗膜および微粒子の付着評価
5.表面処理による分散と極性成分の制御
第3章 シランカップリング処理の活用方法
1.カップリング剤の化学的性質
2.HMDS処理のプロセス最適化
3.HMDS処理の装置構成
4.HMDS処理による密着性改善
5.HMDS処理による付着性低下
第4章 濡れトラブルの原因・対策
1.液滴のポッピング
2.濡れのピンニング効果
3.塗布膜のピンホール
4.ギャップ内の粘性指状（VF）変形
第5章 塗膜の乾燥メカニズムと制御
1.塗膜の形成
2.塗工液の混合と溶解
3.乾燥プロセスにおけるエネルギー変化
4.溶剤の拡散モデル
5.ラプラス力による塗膜の凝集
6.熱処理による塗膜の硬化
第6章 乾燥装置の機構と性能
1.加熱乾燥
2.赤外線乾燥
3.減圧（真空）乾燥
4.凍結乾燥
5.超臨界乾燥
6.スピン乾燥
第7章 乾燥トラブルの原因・対策
1.クラック
2.ポッピング
3.表面硬化層
4.環境応力亀裂（クレイズ）
5.ウォータマーク
6.乾燥むら
7.液体メニスカス
第8章 接着の原理と基礎理論
1.付着の要因
2.界面の実効付着面積
3.付着界面の相互作用
3.1 原子間力顕微鏡の基本構成
3.2 フォースカーブとファンデルワールス相互作用
3.3 AFM探針の吸着力と固体の表面自由エネルギー
3.4 表面処理層におけるファンデルワールス相互作用解析
3.5 薄膜間の付着強度の推定
3.6 表面エネルギーの3成分解析
第9章 微細加工パターンの付着性解析
1.リソグラフィー
2.レジストパターンの付着要因
3.レジストパターンの付着特性
3.1 DPAT法
3.2 付着力の熱処理温度依存性
3.3 付着力のパターンサイズ依存性
3.4 溶液中でのパターン付着力の解析
3.5 付着力のパターン形状依存性
第10章 微粒子の分散凝集解析
1.付着力のPSL粒径依存性
第11章 応力分布と付着性
1.微細パターンの形成
2.有限要素法による二次元熱応力分布解析
3.パターン形状に依存した剥離挙動
3.1 凹凸パターン
3.2 開口パターン
3.3 ラインパターン
3.4 レジスト表面硬化層
第12章 高分子膜中へのアルカリ水溶液の浸透と接着性
1.コーティング膜の抵抗測定
2.真空処理と塗膜内の残留溶剤量
3.TMAH水溶液の浸透効果
第13章 異なる表面エネルギーを有する無機基板での接着
1.付着試験
2.各無機膜の表面エネルギー
3.乾燥下での接着挙動
4.TMAH水溶液中での接着挙動
第14章 微小気泡の性質と制御技術
1.レジストパターン上での気泡の捕獲と脱離
2.レジストパターン内の気泡移動
3.原子間力顕微鏡（AFM）によるナノ気泡観察
4.レジスト上のナノ気泡の剥離力測定
第15章 レジスト/基板界面でのボイド形成
1.ボイド観察手法
2.レジスト間の歪みエネルギー
3.ボイド形成モデル
4.感光剤濃度および表面エネルギー依存性
5.形成ファクター有効性
第16章 コーティング膜の熱処理と接着挙動
1.レジスト材料
2.レジストの光、熱反応
3.TMAH水溶液中での接着挙動
4.表面エネルギー依存性
5.レジストの溶液および膨潤の影響
6.乾燥下での接着挙動
7.表面エネルギー依存性
共著
32冊
－５Ｇ／Beyond ５Ｇに向けた－
高速・高周波対応部材の最新開発動向
- 執筆箇所
- ：第2章 14節 ソルダーレジストの高周波対応とプロセス（P.173～178）
- 出版
- ：技術情報協会 2021年
- 総ページ数
- ：653ージ
- ISBN
- ：978-4-86104-828-9
接着・接合の支配要因と最適化技術
- 執筆箇所
- ：第1章 13 電子材料における接着・接合技術と密着不良、界面破壊、剥離対策（P.88～93）
- 出版
- ：S＆T出版 2021年
- 総ページ数
- ：270ページ
- ISBN
- ：978-4-907002-84-8
クリーンルームの微小異物・汚染物対策と作業員教育
- 執筆箇所
- ：第7章 第4節 半導体表面への粒子付着のメカニズムと測定・防止（P.260～266）
- 出版
- ：技術情報協会 2020年
- 総ページ数
- ：523ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-805-0
プリント配線板材料の開発と実装技術
- 執筆箇所
- ：第12章 第2節 レジストプロセスの最適化とトラブル対策（P.542～554）
- 出版
- ：技術情報協会 2020年
- 総ページ数
- ：713ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-787-9
高分子の残留応力対策
- 執筆箇所
- ：第8章 第3節 塗膜の内部応力による欠陥現象とその対策（P403～420）
- 出版
- ：技術情報協会 2017年
- 総ページ数
- ：480ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-648-3
シランカップリング剤の使いこなし ノウハウ集
- 執筆箇所
- ：第8章 第7節 レジストにおけるシランカップリング剤処理装置の構成，最適化と剥離トラブル対策（P304～316）
- 出版
- ：技術情報協会 2016年
- 総ページ数
- ：384ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-610-0
最新高機能コーティングの技術・材料・評価
- 執筆箇所
- ：第4編 第2章 コーティング膜の凝集コントロールと評価（P194～206）
- 出版
- ：シーエムシー出版 2015年
- 総ページ数
- ：233ページ
- ISBN
- ：978-4-7813-1098-5
高分子における劣化・破壊現象の写真・データ事例集
- 執筆箇所
- ：第14章 第6節 塗膜の乾燥不良事例 ～クラック、密着不良～（P449～516）
- 出版
- ：技術情報協会 2014年
- 総ページ数
- ：729ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-496-0
気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術
- 執筆箇所
- ：第1章 第2節 塗るときなぜ気泡が発生するのか？（P7～17）
- 出版
- ：技術情報協 2014年
- 総ページ数
- ：554ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-502-8
薄膜塗布技術と乾燥トラブル対策
- 執筆箇所
- ：第8章 第5節 超臨界乾燥（P528～533）、第10章 第6節 レベリング性と乾燥速度の両立（P641～647）、第10章 第11節 さらに高品位な膜を作るためのテクニック（P670～676）
- 出版
- ：技術情報協会 2013年
- 総ページ数
- ：825ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-490-8
シランカップリング剤の効果と使用法
- 執筆箇所
- ：第7章 第6節 レジストにおけるシランカップリング剤の効果と使用方法および処理装置（P256～258）
- 出版
- ：S&T出版 2012年
- 総ページ数
- ：395ページ
- ISBN
- ：978-4-907002-07-7
粒子分散系塗布膜を中心にした高粘度スラリーの調液・塗布・乾燥技術
- 執筆箇所
- ：第2章 第1節 乾燥膜におけるトラブルを防ぐために抑えておく乾燥理論（P79～89）、第2章 第5節 各種乾燥プロセスにおける装置選定技術（P134～144）、第2章 第6節 乾燥プロセスにおけるトラブル原因・対策（P145～161）
- 出版
- ：技術情報協会 2011年
- 総ページ数
- ：336ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-363-5
バインダー（結着剤）の失敗しない選び方・使い方事例集
- 執筆箇所
- ：第2章 第6節 乾燥時のバインダー使用の留意点と条件設定、第7節 バインダー乾燥・焼成装置の機構と条件設定、第8節 バインダー乾燥・焼成後のトラブル事例および対策（P149～182）
- 出版
- ：技術情報協会 2011年
- 総ページ数
- ：262ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-381-9
レジストプロセスの最適化テクニック
～微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術～
- 執筆箇所
- ：第8章第1節第4-8項 (P294～333)、第2節第1項 (P334～P351)
- 出版
- ：情報機構 2011年
- 総ページ数
- ：557ページ
- ISBN
- ：978-4-904080-90-0
挑戦こそが成功の鍵
- 執筆箇所
- ：第1章 なぜコンピュータは速くなり続けるのか？（P51～56）
- 出版
- ：近代科学社 2010年
- 総ページ数
- ：263ページ
- ISBN
- ：978-4-764950-21-4
コーティング材料のコントロールと添加剤の活用
- 執筆箇所
- ：第2章 第6節 電子材料のコーティングにおける添加剤の活用（P84～101）
- 出版
- ：サイエンス＆テクノロジー 2010年
- 総ページ数
- ：329ページ
- ISBN
- ：978-4-903413-82-2
剥離対策と接着・密着性の向上
- 執筆箇所
- ：第3節 レジスト膜における付着・剥離コントロール（P267～289）
- 出版
- ：サイエンス＆テクノロジー 2010年
- 総ページ数
- ：436ページ
- ISBN
- ：978-4-903413-89-1
シランカップリング剤の反応メカニズムと処理条件の最適化
- 執筆箇所
- ：第4章 シランカップリング処理における処理装置構成と処理プロセスの最適化（P67～76）
- 出版
- ：技術情報協会 2010年
- 総ページ数
- ：321ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-307-9
インクジェット技術における微小液滴の吐出・衝突・乾燥
- 執筆箇所
- ：第3章 第2節 [1] 固体表面のシランカップリング剤処理とぬれ性評価（P376～388）
- 出版
- ：技術情報協会 2009年
- 総ページ数
- ：415ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-291-1
プリンタブル・エレクトロニクス 技術開発 最前線 ～材料開発・応用技術編～
- 執筆箇所
- ：第1章 第3節 微小液滴の基礎物性とその制御（P21～30）
- 出版
- ：技術情報協会 2008年
- 総ページ数
- ：294ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-209-6
薄膜の機械的物性と不良対策・高品質化
- 執筆箇所
- ：第4章 第14節 フォトレジスト薄膜の特性と不良対策（P254～271）
- 出版
- ：サイエンス＆テクノロジー 2008年
- 総ページ数
- ：328ページ
- ISBN
- ：978-4-903413-42-6
接着強度試験法および接着界面の解析・評価事例
- 執筆箇所
- ：第2章 第1節 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた接着層解析（P49～71）
- 出版
- ：情報機構 2007年
- 総ページ数
- ：242ページ
- ISBN
- ：978-4-901677-93-6
泡コントロールと消泡・脱泡事例集
- 執筆箇所
- ：第6章 第17節 レジストパターン上の気泡除去（P242～250）
- 出版
- ：技術情報協会 2007年
- 総ページ数
- ：260ページ
- ISBN
- ：978-4-86104-188-4
インクジェットプリンターの応用と材料Ⅱ
- 執筆箇所
- ：第2章 インクジェットインク・微小液滴の基礎物性（P12～23）
- 出版
- ：シーエムシー出版 2007年
- 総ページ数
- ：277ページ
- ISBN
- ：978-4-88231-966-5
表面・深さ方向の分析方法
- 執筆箇所
- ：第3章 第14節 レジスト（P365～378）
- 出版
- ：サイエンス＆テクノロジー 2007年
- 総ページ数
- ：618ページ
- ISBN
- ：978-4-903413-30-3
新しい分散・乳化の科学と応用技術の新展開
- 執筆箇所
- ：第3章 第9節 2.接着界面でのミクロな粘性指状変形と接着性（P572～583）
- 出版
- ：テクノシステム 2006年
- 総ページ数
- ：1003ページ
- ISBN
- ：978-4-924728-50-0
乾燥大全集
- 執筆箇所
- ：第13章 第3節 レジストの乾燥過程の解析（P363～380）
- 出版
- ：情報機構 2006年
- 総ページ数
- ：522ページ
- ISBN
- ：978-4-901677-60-8
半導体・液晶ディスプレイ フォトリソグラフィ技術ハンドブック
- 執筆箇所
- ：第2編 第1章 第2節 下地基板とレジストとの親和性（P35～40）
- 出版
- ：リアライズ社 2006年
- 総ページ数
- ：587ページ
- ISBN
- ：978-4-89808-069-3
接着剤の設計と接着製品の信頼性を重視した粘着技術の３Ａ
- 執筆箇所
- ：第2章 3.AFMによる接着挙動の解析（P82～90）
- 出版
- ：リアライズＡＴ 2006年
- 総ページ数
- ：347ページ
- ISBN
- ：978-4-89808-077-4
最新レジスト材料ハンドブック
- 執筆箇所
- ：第6節 レジスト膜の機械的性質の分析．評価（P208～222）
- 出版
- ：情報機構 2005年
- 総ページ数
- ：315ページ
- ISBN
- ：978-4-901677-45-4
表面・界面工学大系（下巻）応用編
- 執筆箇所
- ：第8章 第5節 接着研究の最先端（P160～173）
- 出版
- ：テクノシステム 2005年
- 総ページ数
- ：1393ページ
- ISBN
- ：978-4-924728-49-7
超ＬＳＩ技術１４ デバイスとプロセス その４
- 執筆箇所
- ：9.高解像フォトレジストプロセス（P275～311）
- 出版
- ：工業調査会発行 1990年
- 総ページ数
- ：354ページ
- ISBN
- ：978-4-7693-1083-8
解説
- 高周波（5G，ミリ波）対応のプリント基板、表面技術、６月号、Vol.72, No.6, p315-319 (2021).
- 監修「5G/ミリ波を見据えた高周波対応FPC・周辺材料の開発動向」、高周波対応に向けたFPC・周辺材料の現状と展開、工業材料、５月号、Vol.69, No.5, p16-21 (2021).
- Questions And Answers Regarding Problems With Coating, Closing Session、CONVERTECH INTERNATIONAL September / October 2018、vol.3, No.1, p102-104 (2018).
- Analysis Technology, Chapter 5, Session 1、CONVERTECH INTERNATIONAL July / August 2018、vol.2, No.6, p80-85 (2018).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 4 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL March / April 2018、vol.2, No.4, p110-112 (2018).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 4 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL January / February 2018、vol.2, No.3, p126-128 (2018).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 3 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL November / December 2017、vol.2, No.2, p84-87 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 2 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL September / October 2017、vol.2, No.1, p73-77 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 1 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL July / August 2017、vol.1, No.6, p102-104 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 6 Adhesion Mechanism and Interface Part5 and Part6、CONVERTECH INTERNATIONAL May / June 2017、vol.1, No.5, p112-116 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 5 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Mar / Apr 2017、vol.1, No.4, p96-99 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 4 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Jan / Feb 2017、vol.1, No.3, p119-121 (2017).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 3 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Nov / Dec 2016、vol.1, No.2, p82-85 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 2 Adhesion Mechanism and Interface Part2 and Part3、CONVERTECH INTERNATIONAL Sep / Oct 2016、vol.1, No.1, p112-116 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 1 Adhesion Mechanism and Interface Part1、CONVERTECH & e-Print July / August 2016、vol.6, No.4, p57-61 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 6 Drying Defects Part2、CONVERTECH & e-Print May / June 2016、vol.6, No.3, p110-115 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 5 Drying Defects Part1、CONVERTECH & e-Print March / April 2016、vol.6, No.2, p88-94 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 4 Drying Equipment、CONVERTECH & e-Print January / February 2016、vol.6, No.1, p104-108 (2016).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 3 Coating Film Stress、CONVERTECH & e-Print November / December 2015、vol.5, No.6, p80-85 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 2 Coating Film Property Control Via Heat Treatment、CONVERTECH & e-Print September / October 2015、vol.5, No.5, p58-65 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 1 Coating Drying: Drying Mechanism and Control、CONVERTECH & e-Print July / August 2015、vol.5, No.4, p90-94 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 4 Coating Fundamentals: Wetting Problem Causes and Solutions、CONVERTECH & e-Print May / June 2015、vol.5, No.3, p18-24 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 3 Coating Fundamentals: Hydrophobing Treatment、CONVERTECH & e-Print March / April 2015、vol.5, No.2, p96-102 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 2 Coating Fundamentals: Surface Energy、CONVERTECH & e-Print January / February 2015、vol.5, No.1, p90-95 (2015).
- Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 1 Coating Fundamentals: Wetting、CONVERTECH & e-Print November / December 2014、vol.4, No.6, p20-24 (2014).
- 接着の物理XIV 原子間力顕微鏡力顕微鏡（AFM)を用いた微小構造体の付着凝集性解析、日本接着学会誌、vol.48, No.1, p36-46 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第１回 濡れの接触角の本質とは？、月刊マテリアルステージ、８月号、vol.11,No.5, 70-72 (2011).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第２回 液滴で素材の表面積と面積割合を測りませんか？、月刊マテリアルステージ、９月号、vol.11,No.6, 77-78 (2011).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第３回 マテリアルの表面エネルギー、月刊マテリアルステージ、１０月号、vol.11,No.7, 63-64 (2011).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第４回 塗膜乾燥時の滞留制御 ～ウォータマークと乾燥むら～、月刊マテリアルステージ、１１月号、vol.11,No.8, 67-68 (2011).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第５回 膜表面の薄皮 ～ナノ硬化層～、月刊マテリアルステージ、１１月号、vol.12,No.9, 66-67 (2011).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第６回 界面のピンホール ～VF(viscous finger)変形～、月刊マテリアルステージ、１月号、vol.11,No.10, 69-70 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第７回 凝集した微粒子の性質（１）～粒子サイズと破壊特性～、月刊マテリアルステージ、２月号、vol.11,No.11, 69-71 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第８回 凝集した微粒子の性質（その２）～粒子サイズと分散特性～、月刊マテリアルステージ、３月号、vol.11,No.12, 79-80 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第９回 屈折率による材料評価（その１）～浸透・膨潤～、月刊マテリアルステージ、４月号、vol.12,No.1, 61-62 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第１０回 屈折率による材料評価（その２）～フィードバック回路～、月刊マテリアルステージ、５月号、vol.12,No.2, 81-83 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、第１１回 全応力マッチングによる多層膜設計、月刊マテリアルステージ、６月号、vol.12,No.3, 66-67 (2012).
- マテリアルを上手に使うために必要なこと、最終回 高品位なプラズマCVD膜形成について、月刊マテリアルステージ、４月号、vol.12,No.4, 69-71 (2012).
- 塗工液の液物性コントロールとトラブル対策、塗装工学、vol.46, No.7, p 225-237 (2011) .
- コーティング技術の理論と現象、Part-1 濡れの基礎理論、コンバーテック、６月号、No.447, p41-45 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-2 表面エネルギーの制御・応用、コンバーテック、７月号、No.448, p44-49 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-3 シランカップリング処理の活用方法、コンバーテック、８月号、No.449, p38-43 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-4 濡れトラブルの原因・対策、コンバーテック、９月号、No.450, p62-68 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-5 塗膜の乾燥メカニズムと制御、コンバーテック、10月号、No.451, p44-48 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-6 乾燥装置の貴校と性能、コンバーテック、11月号、No.452, p39-44 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-7 乾燥トラブルの原因・対策、コンバーテック、12月号、No.453, p31-39 (2010).
- コーティング技術の理論と現象、Part-8 接着の原理と基礎理論、コンバーテック、1月号、No.454, p44-48 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-9 塗膜の熱処理による膜質制御、コンバーテック、2月号、No.455, p38-43 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-10 塗膜内応力分布と制御技術、コンバーテック、3月号、No.456, p30-35 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-11 微細加工パターンの付着性解析、コンバーテック、4月号、No.457, p52-58 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-12 ナノ粒子・ナノ気泡・ナノ液滴の解析技術、コンバーテック、5月号、No.458, p48-54 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-13 プラズマCVDによる有機薄膜コーティング、コンバーテック、6月号、No.459, p40-43 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-14 MEMSにおける薄膜技術、コンバーテック、7月号、No.460, p48-50 (2011).
- コーティング技術の理論と現象、Part-15 コーティングにおける信頼性解析技術、コンバーテック、8月号、No.461, p30-32 (2011).
- 「微小気泡の吸着・脱離制御に基づく機能性デバイスの開発」、マテリアルインテグレーション、特集：長岡技術科学大学、４－５月号、 p48-53 (2010).
- 「走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）のデバイスプロセス評価への有効利用」、ＳＥＭＩ Ｎｅｗｓ、vol.3-4, 34-35 (2007).
- 「走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）によるデバイスプロセス評価」、産学連携シーズ＆ニーズ、新潟県電子機械工業会、ＮＥＩＡニュース、第２４２号、Ｎｏ．１（２００７）
- “Nanoscale characterization in resist processing by using atomic force microscope”J. Photopolymer Science and Technology, 18(6), 729-736 (2005).
- 「原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による接着層の表面・界面分析」、接着の技術、vol.24, N0.4, ７－１１、(2005).
- 「原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による微細高分子パターンの付着・凝集性解析」、接着、高分子刊行会、vol49, 10, 439-445 (2005).
- 「液浸リソグラフィーにおけるナノスケールバブルの制御」, O plus E, vol.27, No.7, 764-767 (2005).
- 「微小固体の接着・硬化・表面特性のナノスケール解析」日本接着学会誌、vol.40 p512-514 (2004).
- 「微細領域での接着解析技術の進歩」日本接着学会誌、vol.40、No.12, 592-594 (2004).
- 原子間力顕微鏡による微小固体の付着・凝集解析、接着の技術、vol.23, ｐ１－５、(2003).
- 原子間力顕微鏡（AFM)を用いた微細加工パターンの接着性解析、日本接着学会誌、総説、vol.38, p465-470 (2002)
- 「原子間力顕微鏡による微小凝集体の付着力解析」、接着、44巻9号、p16-25 (2000).
- 「原子間力顕微鏡による表面特性の解析」、日本接着学会誌、総説、Vol.36.No.2,p77-86 (2000).
- 「ＡＦＭによる微粒子の付着凝集挙動解析について」、超音波TECHNO、＜特集：次世代の洗浄技術＞、vol.11, No.6, p12-17 (1999).
- 「機能水中における基板上のＰＳＬの剥離挙動解析」、島田理化技報、No.9, p16-19 (1997).
- 「原子間力顕微鏡による表面特性の解析」、日本接着学会誌、総説、Vol.33.No.3,p103-111 (1997).
- 「長岡技術科学大学 工学部電気系 河合研究室 ～微細加工と接着～」、日本接着学会誌、＜研究室紹介＞、Vol.32. No.1, p37-38 (1996).
- 「大粒の涙」、バウンダリー、特集、vol.10, No.1, p2-5 (1994).
- 「超微細加工プロセス技術」、三菱電機技報、vol. 63, p109-111 (1989).