TOP > 技術セミナー

技術セミナーseminar

弊社代表取締役社長の河合晃は、セミナー・研修講師の登壇実績が多数ございます。
講演依頼等ございましたら、お気軽にご連絡ください。
以下は、技術セミナー講演予定・実績です。

弊社代表取締役社長によるセミナー講演予定

開催日	タイトル	主催会社
2024年11月15日(金)	レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識【LIVE配信】期間限定アーカイブ配信つき	Ｒ＆Ｄ支援センター
2024年11月29日(金)	コーティング膜および機能性材料の付着・密着性評価と剥離対策【Zoomオンライン、ブレイクアウトルームにて個別質問可能】	日本アイアール
2024年12月13日(金)	レジストリソグラフィーの基礎と実用化ノウハウ【Live配信のみ】	技術情報協会
2025年01月10日(金)	AFM(原子間力顕微鏡)の基礎と最適化・応用･トラブル対策【Live配信のみ】	技術情報協会
2025年02月07日(金)	半導体洗浄のクリーン化技術のノウハウ【LIVE配信】期間限定のアーカイブ配信つき	Ｒ＆Ｄ支援センター
2025年02月21日(金)	半導体製造プロセス基礎講座～前工程、後工程、量産歩留まり対策、信頼性評価～【Zoomウェビナーによるライブ配信】	ジャパンマーケティングサーベイ

タイトルをクリックいただくと、セミナーの詳細がご覧になれます（主催会社ページに移動します）。

弊社代表取締役社長によるセミナー講演実績

2024年

9/20『半導体製造プロセス入門講座～基礎とトラブル対策～』（サイエンス＆テクノロジー）
9/6『レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識』（サイエンス＆テクノロジー）
8/23『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
7/19『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）
6/21『AFM（原子間力顕微鏡）の基礎と最適化・応用・トラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/7『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
5/24『塗膜の濡れ・付着・密着コントロールとトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/5『半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術』（サイエンス＆テクノロジー）
2/22『薄膜作製プロセスの基礎と基板への付着・密着性評価、剥離対策策』（技術情報協会）
2/9『半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
1/26『AFM（原子間力顕微鏡）の基本原理と操作・測定・解析方法の基本と最適化・有効活用法』（サイエンス＆テクノロジー）
1/12『半導体製造プロセス技術の基礎とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）

2023年

12/20『半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ』（ジャパンマーケティングサーベイ）
12/15『現場で応用できるコーティングの理論と現象』（加工技術研究会）
11/30『レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
11/10『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基礎と有効活用ノウハウ』（情報機構）
10/20『半導体プロセス技術の基礎とノウハウおよびトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
8/23『半導体製造プロセス入門講座』（サイエンス＆テクノロジー）
8/4『レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識』（サイエンス＆テクノロジー）
7/7『レジストプロセスの最適化と特性評価法』（情報機構）
6/22『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/9『コーティングにおける塗布・乾燥技術と膜の制御』（情報機構）
5/13『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
4/28『塗膜の濡れ・付着・密着コントロールとトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
2/22『半導体製造におけるウェットプロセスのノウハウとトラブル対策』（情報機構）
1/26『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の原理、測定・解析方法の基本と有効な活用方法』（サイエンス＆テクノロジー）
1/17『リソグラフィによる微細パターン形成技術と欠陥対策』（シーエムシー出版）

2022年

12/23『5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
12/20『半導体製造プロセス基礎講座～基本メカニズムと最適化のポイント～』（シーエムシー・リサーチ）
11/10『塗布・コーティング膜の基礎と高品位制御およびトラブル対策』（トリケップス）
10/20『ウェットエッチングの基礎と高精度化および形状コントロール』（ＴＨ企画セミナーセンター）
10/7『半導体プロセス技術の基礎とノウハウおよびトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
9/22『レジスト材料の高感度、高解像度化と欠陥対策』（技術情報協会）
9/15『塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
9/2『めっきプロセス用レジストマスクの最適化とトラブル対策』（Ｓ＆Ｔ出版）
8/26『半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
8/18,8/19『5G/ミリ波対応プリント基板及び実装技術のノウハウとトラブル対策』（三建產業資訊）
8/9『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
8/4,8/5『いまさら聞けない、半導体製造プロセス技術　入門講座』（サイエンス＆テクノロジー）
7/29『レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識』（サイエンス＆テクノロジー）
7/14『原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ』（情報機構）
7/7『レジスト材料／プロセスの基礎と実務上の最適化技術』（トリケップス）
6/30『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/29『最先端PCBセミナー「高周波対応プリント基板／基板材料技術」』（ジャパンマーケティングサーベイ）
5/12『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
4/28『高周波対応(5G移動体無線、ミリ波)のプリント基板技術とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
4/21『塗膜の濡れ・付着・密着コントロールとトラブルへの対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/7『5G・ミリ波対応のプリント基板及び実装技術のノウハウとトラブル対策』（トリケップス）
2/28『半導体製造におけるウェットプロセスのノウハウとトラブル対策』（情報機構）
2/10『半導体洗浄のメカニズムと微小パーティクルの除去、清浄度評価』（技術情報協会）
2/3『薄膜、コーティングを中心とした機能材料の基板への付着・密着性評価、改善および剥離トラブル防止対策』（AndTech）
1/28『半導体技術におけるウェットプロセスの基礎、制御とトラブル対策』（トリケップス）
1/13『いまさら聞けない、半導体製造プロセス技術　入門講座』（サイエンス＆テクノロジー）
1/7『分子間力や表面張力の考え方，そのコントロールと測定法』（技術情報協会）

2021年

12/20『薄膜の付着・密着性評価と改善法および剥離トラブル防止対策』（日本テクノセンター）
12/16『ウェットエッチングの基礎と高精度化および形状コントロール』（ＴＨ企画セミナーセンター）
12/8『塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策～コーティング基礎・塗布・乾燥・装置原理・トラブル対策・高品位化～』（ＴＨ企画セミナーセンター）
12/2『塗布・コーティング膜の基礎と高品位制御およびトラブル対策』（トリケップス）
11/12『半導体プロセス技術の基礎とノウハウおよびトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
11/5『レジスト材料／プロセスのトラブル制御・最適化技術』（情報機構）
11/1『半導体表面におけるウェットプロセスの制御、最適化技術』（技術情報協会）
10/29『リソグラフィプロセスにおけるめっき，レジストマスクの基礎とトラブル対策』（Ｓ＆Ｔ出版）
10/22『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法』（サイエンス＆テクノロジー）
10/11『高周波（５Ｇ・ミリ波対応）プリント基板における実装技術と機能性・信頼性向上への応用』（日本テクノセンター）
9/29『半導体洗浄プロセスの高機能化とノウハウ～基礎メカニズムの理解と実践～』（ＴＨ企画セミナーセンター）
9/22『半導体洗浄の基礎とクリーン化技術およびそのポイント』（日本テクノセンター）
9/10『5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
9/9『塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策』（シーエムシー・リサーチ）
9/3『レジスト材料／プロセスの基礎知識と実務上の最適化技術』（シーエムシー・リサーチ）
8/31『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
8/23『レジスト材料・プロセス・装置の総合知識～基礎とノウハウ、高品位化、最適化、トラブル対処法とユーザー対策～』（サイエンス＆テクノロジー）
8/20『レジスト材料／プロセスの基礎と実務上の最適化技術』（トリケップス）
8/4『高周波対応のプリント基板技術の基礎と要求される材料・プロセス』（シーエムシー・リサーチ）
7/29『半導体表面におけるウェットプロセスの理解、制御、最適化技術～半導体表面の支配・制御に向けた要点とノウハウ～』（サイエンス＆テクノロジー）
7/27『原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ～動作原理、適切な使用法と分析・評価ノウハウ～』（情報機構）
7/20『塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策』（AndTech）
7/15『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策』（シーエムシー・リサーチ）
6/30『5G・ミリ波対応のプリント基板及び実装技術のノウハウとトラブル対策』（トリケップス）
6/28『塗布膜における濡れ・付着・密着トラブルの解決につながるヒント』（Ｓ＆Ｔ出版）
6/4『塗布乾燥膜の基礎メカニズムと濡れ・付着・密着トラブル対策』（シーエムシー・リサーチ）
5/28『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
5/21『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
4/16『半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/9『高周波対応(5G移動体無線、ミリ波)のプリント基板技術とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
4/7『高周波対応（5G・ミリ波）材料の基礎と高周波対応に向けたプロセス技術のトレンド』（情報機構）
3/19『ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策』（情報機構）
3/3『シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法』（シーエムシー・リサーチ）
2/26『ウェットエッチングの基礎とノウハウおよびトラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
1/29『５Ｇ・ミリ波対応のプリント基板及び実装技術のノウハウとトラブル対策』（トリケップス）
1/26『ウェットエッチングの基礎と形状コントロールと高精度化、及びトラブル対策』（AndTech）
1/22『製造・生産・開発プロセスにおけるクリーン化技術の要点＆ノウハウ～異物・欠陥対策と付着除去・管理・計測方法～』（サイエンス＆テクノロジー）
1/14『高周波対応のプリント基板材料・実装技術の基礎と応用～ソルダーレジスト材料とプロセスの最適化、各種トラブル対策～』（AndTech）
1/8『5G対応のプリント基板技術と要求される材料』（シーエムシー・リサーチ）

2020年

12/17『5G・ミリ波対応のプリント基板・実装技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
12/10『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
11/26『ウェットエッチングの基礎と最適化･トラブル対策』（Ｓ＆Ｔ出版）
11/2『５Ｇ・ミリ波対応のプリント基板・実装技術の基礎と応用～高周波対応の機能性材料、プリント基板と周辺技術に要求される材料、技術改善、信頼性解析～』（サイエンス＆テクノロジー）
11/13『レジスト材料／プロセスの実務上の基礎知識と評価・最適化技術～ユーザーの視点によるレジスト付着性等欠陥トラブルと解決へのアプローチ～』（情報機構）
10/28『塗膜のトラブルを解決するための塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
10/16『5G・ミリ波対応のプリント基板および実装技術の基礎とトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
8/31『レジストの材料・プロセス・装置の総合知識～基礎とノウハウ、高品位化、最適化、トラブル対処法とユーザー対策～』（サイエンス＆テクノロジー）
8/28『高周波対応に向けた基板･周辺材料の技術トレンド』（Ｓ＆Ｔ出版）
8/21『シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法』（情報機構）
8/10,11『5G対応のプリント基板技術と要求される材料』（三建產業資訊）
8/6『レジストプロセスの最適化、材料の使い方ノウハウ、トラブル対策～レジストユーザーの視点からの取り組み～』（技術情報協会）
7/27『塗膜の濡れ・付着・密着コントロールとトラブルへの対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
7/17『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門～トラブル防止、膜質最適化に向けた理論と適用法をできるだけ易しく解説～』（情報機構）
7/10『原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ～動作原理、適切な使用法と分析・評価ノウハウ～』（情報機構）
6/26『レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/12『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
6/5『5G対応のプリント基板技術と要求される材料』（シーエムシー・リサーチ）
3/6『プリント基板実装・マイクロ接合・はんだ接合における不良防止技術』（日本テクノセンター）
2/12『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
10/4『製造・生産・開発プロセスにおけるクリーン化技術の要点とノウハウ～異物・欠陥対策と付着除去・管理・計測方法～』（サイエンス＆テクノロジー）
1/20『フォトレジスト材料の特性とリソグラフィプロセスの最適化およびトラブル対策』（シーエムシー出版）

2019年

12/20『高周波対応プリント基板,ソルダーレジストの材料,プロセス技術』（技術情報協会）
11/15『レジスト材料/プロセス/装置の有効な評価法とトラブル対策』（情報機構）
10/24『レジスト材料・プロセス・装置の最適化ノウハウとトラブル対策』（技術情報協会）
10/4『レジストの材料・プロセス・装置の総合知識』（サイエンス＆テクノロジー）
9/27『レジスト・リソグラフィ技術の基礎と不良防止・トラブル対策』（日本テクノセンター）
8/26『レジスト材料/プロセスの基礎とトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化』（AndTech）
8/6『分子間力や表面張力の考え方，そのコントロールと測定法』（技術情報協会）
8/1『塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
7/23『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法』（サイエンス＆テクノロジー）
6/14『レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/19『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
4/12『入門と実践：レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
3/27『ダブルパターニング・マルチパターニング技術の基礎とプロセスおよび材料の最適化』（サイエンス＆テクノロジー）
3/15『ソルダーレジストの基礎・プロセスの高精度化・高周波対応と各種トラブル対策』（シーエムシー出版・AndTech）
3/8『原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ』（情報機構）
2/26『レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策』（技術情報協会）
2/14『塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
1/31『ぬれ性・塗膜乾燥・付着はく離の基礎と産業応用』（日本テクノセンター）

2018年

11/22『濡れ・表面自由エネルギーの基礎、測定方法とコーティング及び産業技術への応用』（技術情報協会）
10/11『レジストの材料・プロセスのノウハウ、最適化法、トラブル対処法』（サイエンス＆テクノロジー）
10/5『塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ』（情報機構）
7/13『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基本原理、測定とデータの取得・解析方法』（サイエンス＆テクノロジー）
5/24,25『コーティング膜の塗布乾燥・評価技術：超入門』（情報機構）
5/18『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
5/11『シランカップリング剤による濡れ性・付着制御と上手な活用法』（ＴＨ企画セミナーセンター）
3/15『原子間力顕微鏡(ＡＦＭ)の基礎と有効活用ノウハウ』（情報機構）
2/9『塗布膜乾燥プロセスの基本、現象・本質の理解＆最適化と欠陥・トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
2/2『レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化』（AndTech）
1/24『濡れ・表面エネルギーの基礎とコーティングおよび産業技術への応用』（日本テクノセンター）
1/23『レジスト材料・リソグラフィの基礎と技術動向』（シーエムシー出版）

2017年

12/22『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』（ＴＨ企画セミナーセンター）
10/17『レジスト材料・プロセスおよび周辺技術の総合知識』（サイエンス＆テクノロジー）
9/11,12『レジスト膜の正しい評価法とトラブル対策』（情報機構）
8/31『微小液滴の基礎と挙動理解、評価・制御技術』（サイエンス＆テクノロジー）
8/25『開発・生産現場における実践的なクリーン化技術』（ＴＨ企画セミナーセンター）
6/22『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/28『開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術の「ツボ」』（サイエンス＆テクノロジー）
4/20『塗布型電子材料のコーティング技術』（Ｓ＆Ｔ出版）
4/13『塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策』（技術情報協会）
4/6『界面自由エネルギーの考え方，測り方，その応用』（技術情報協会）
3/28『レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化』（AndTech）
3/17『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）

2016年

12/16『接着・コーティングにおける濡れ、剥離、乾燥の考え方～界面の設計・制御から評価技術、トラブル対策まで～』（情報機構）
10/18『～コーティング，フィルム，基板などにおける～　接着・密着不良，剥がれのメカニズムと評価解析，その対策』（技術情報協会）
8/22『＜表面・コーティング・分散プロセスにおける＞シランカップリング処理の本質と最適化、ノウハウ＆トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
7/27『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
7/15『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）
6/10『開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術のノウハウ』（情報機構）
4/15『塗布膜の乾燥メカニズムと高品質化およびトラブル対策　～製造から開発現場まで～』（Ｓ＆Ｔ出版）
4/11『塗布膜の乾燥＆制御技術、トラブル対策と膜質最適化』（サイエンス＆テクノロジー）
1/28『コーティング膜の塗布乾燥・評価技術：超入門』（情報機構）

2015年

12/18『塗布膜制御のための膜形成と乾燥ノウハウ～製造から開発現場まで～』（情報機構）
12/11『微小液滴の基礎と物性』（サイエンス＆テクノロジー）
11/11『シランカップリング剤の反応・評価・制御と上手な活用法』（ＴＨ企画セミナーセンター）
9/11『＜ユーザーが求める＞フォトレジストの性能・評価・プロセス・処理装置とトラブル対策』（情報機構）
9/8『現場で使える塗布膜乾燥プロセスの最適化法と制御技術』（サイエンス＆テクノロジー）
7/24『コーティング膜の付着・密着コントロールとトラブルへの対策』（サイエンス＆テクノロジー）
6/19『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/12『薄膜の基礎と付着性・密着性改善および剥離トラブルへの応用』（日本テクノセンター）
5/22『シランカップリング実用講座－明日から活かせる処理技術ノウハウとトラブル対策－』（Ｓ＆Ｔ出版）
5/15『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）
4/10『シランカップリング剤の反応・評価・制御と現場でのシランカップリング処理のノウハウ』（ＴＨ企画セミナーセンター）
3/19『フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化』（電子ジャーナル）
3/13『現場で役立つコーティングの基礎とメカニズム』（加工技術研究会）
3/6『現場で役立つコーティングの基礎とメカニズム』（加工技術研究会）
2/13『塗布膜の乾燥技術と制御方法　～乾燥ムラ・クラック対策、トラブル防止、膜質最適化、塗膜の品質保証～』（サイエンス＆テクノロジー）

2014年

12/17『塗布・コーティング膜の基礎と制御技術および高品質化とトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
12/4『シランカップリング剤の反応機構・解析評価と上手な活用法』（サイエンス＆テクノロジー）
11/28『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）
11/21『機能性コーティングの基礎と高品質化およびトラブル対策』（日本テクノセンター）
11/13『塗布・コーティング膜の制御技術』（電子ジャーナル）
10/23『フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化』（電子ジャーナル）
9/19『ウェット・乾燥プロセス入門』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
8/28『今さら聞けない！塗膜形成の基礎と塗膜制御・管理のポイント』（情報機構）
5/30『レジストコーティングプロセスの対処法・評価・最適化と不良対策』（情報機構）
3/14『現場で役立つコーティング・乾燥の基礎トラブル、測定技術』（加工技術研究会）
3/13『フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化』（電子ジャーナル）
3/7『現場で役立つコーティング・乾燥の基礎トラブル、測定技術』（加工技術研究会）
1/16『塗布膜におけるぬれ制御・乾燥制御とトラブルへの対策・信頼性向上』（サイエンス＆テクノロジー）

2013年

11/21『塗布・コーティング膜の制御技術』（電子ジャーナル）
10/10『機能性コーティングの基礎とトラブル対策』（韓国包装技術研究所）
7/12『機能的塗膜プロセスの基礎と高品質化およびトラブル対策』（ＴＨ企画セミナーセンター）
6/21『欠陥を出さないための塗膜物性とコントロール技術』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/20『コーティング塗布膜・乾燥の基礎・ノウハウとトラブルへの対策＆勘所』（サイエンス＆テクノロジー）
6/7『接着のメカニズムと接着界面の評価・制御技術　～接着への理解を深めるために～』（情報機構）
5/24『コーティング膜の塗布・乾燥技術：超入門』（情報機構）
3/14『フォトレジストの基礎・トラブル対策・高品位化★徹底解説』（電子ジャーナル）

2012年

12/『レジスト材料の上手な使い方とプロセス上のノウハウ』（情報機構）
12/13『分析技術者だけじゃない開発者にも知っておいて欲しいデバイスの表面・深さ方向分析ノウハウと注意点』（サイエンス＆テクノロジー）
11/29『塗布・コーティング膜の制御技術』（電子ジャーナル）
11/20『現場で応用できるコーティングの理論と現象』（加工技術研究会）
11/8『現場で応用できるコーティングの理論と現象』（加工技術研究会）
9/19『塗布乾燥プロセスにおける塗膜品質のコントロール技術』（サイエンス＆テクノロジー）
5/31『塗布膜の乾燥挙動とトラブル発生要因およびその対策』（技術情報協会）
4/27『実用的なぬれ性のメカニズムと測定・制御技術』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/13『濡れ・乾燥コントロールの基礎と実際』（情報機構）
2/17『翌日から現場で使える！！コーティング乾燥におけるトラブル解決と品質向上』（サイエンス＆テクノロジー）

2011年

12/22『塗工液の液物性コントロールとトラブル対策』（技術情報協会）
11/11『微小液滴・気泡のプロセス挙動コントロール技術とトラブル対策』（産業科学システムズ）
10/20『微小液滴・気泡の基礎物性とコントロール技術　スキルアップセミナー』（サイエンス＆テクノロジー）
6/23『ウェットプロセス入門講座』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
4/15『よい塗布膜を得るための塗布・乾燥のノウハウと最適化』（サイエンス＆テクノロジー）
3/28『塗工液の液物性コントロールとトラブル対策』（技術情報協会）
3/11『精密塗布・乾燥ノウハウ　～表面エネルギー等塗布乾燥の基礎からトラブル対策まで～』（情報機構）
1/28『塗布膜乾燥メカニズムと「高品位化」・「高速化」技術』（技術情報協会）
1/25『レジスト材料プロセスのトラブルおよび最適化ノウハウ』（情報機構）

2010年

10/22『シランカップリング剤の効果と最適使用法』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
6/24『塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策』（技術情報協会）
6/17『塗布膜乾燥メカニズムと欠陥制御、トラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
4/28『実用的接着・剥離・ぬれのコントロール技術およびトラブル対策』（技術情報協会）
4/15『レジスト・リソグラフィの基礎とトラブル対応のノウハウ』（日本テクノセンター）

2009年

11/30『塗布膜乾燥トラブルの基礎とトラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
9/11『シランカップリング剤の反応機構と上手な使い方』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
7/24『シランカップリング処理による付着・ぬれ・コーティングのコントロールと最適化』（情報機構）
4/7『ＡＦＭ／ＳＴＭの基礎と応用』（電子ジャーナル）
3/9『塗工液の液物性と塗布膜乾燥プロセス』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
1/23『レジストの付着・剥離コントロールおよび欠陥発生メカニズムとその対策』（技術情報協会）

2008年

12/5『レジスト塗布・乾燥技術ノウハウ』（サイエンス＆テクノロジー）
11/21『ナノ粒子分散塗布液の均一コーティング・乾燥技術』（情報機構）
10/28『ウェットプロセス入門』（Ｒ＆Ｄ支援センター）
10/16『塗布膜乾燥技術の基礎・ノウハウとトラブル対策』（情報機構）
8/29『ウェットプロセスの基礎とトラブルシューティング』（サイエンス＆テクノロジー）
7/25『シランカップリング処理による付着・ぬれ・コーティングのコントロールと最適化』（情報機構）
5/29『半導体製造における高品位ウェットプロセス入門』（サイエンス＆テクノロジー）
5/22『単層および多層レジスト技術におけるコーティングトラブルと対策・解析方法』（情報機構）
5/15『電子デバイス製造技術の基礎と応用』（技術情報協会）
4/24『実践的ぬれと接着技術』（技術情報協会）
4/4『塗布膜乾燥技術の基礎・ノウハウとトラブル対策』（情報機構）
3/31『レジスト膜におけるトラブル対策と評価解析ノウハウ』（サイエンス＆テクノロジー）
3/27『塗工液の液物性コントロールと塗布膜乾燥プロセスの基礎』（技術情報協会）
1/18『基板/レジストの剥離メカニズムと応力・ぬれ制御及び評価方法』（技術情報協会）

2007年

12/11『塗布膜乾燥の基礎・ノウハウとトラブル対策』（サイエンス＆テクノロジー）
11/29『ダイコーティングにおけるトラブル対策』（技術情報協会）
10/19『微小液滴・微小気泡の濡れ・付着メカニズムとその制御』（情報機構）
9/14『塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策』（技術情報協会）
7/12『ぬれ・接着のメカニズムとコントロール』（技術情報協会）
6/18『微小液滴の物性制御のための“濡れ性”“表面エネルギー”の解析と表面処理技術』（サイエンス＆テクノロジー）
4/12『微小液滴・微小気泡の濡れ・付着メカニズムとその制御』（情報機構）
3/20『微小液滴の基礎物性とその制御』（技術情報協会）
3/9『フォトレジスト膜におけるトラブル対策と評価解析ノウハウ』（情報機構）

2006年

12/13『ウェットプロセス入門～表面・界面における接着、ぬれ、表面処理の実際～』（技術情報協会）
11/17『高分子材料／金属無機薄膜間の付着特性とその解析』（技術情報協会）
9/29『微小液滴の付着・凝集特性と制御ノウハウ～ナノ・マイクロバブル、マイクロメニスカス、微小有機固体～』（技術情報協会）
9/15『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による微細・微小部分の分析・評価ノウハウ』（情報機構）
8/25『微小液滴・気泡における濡れ特性・評価とそのコントロール技術』（サイエンス＆テクノロジー）
5/19『レジスト膜の付着性と剥離性の制御』（情報機構）
4/20『微小液滴、ナノ・マイクロバブル、マイクロメニスカスの解析方法と微小有機固体の付着凝集制御』（技術情報協会）

2005年

9/30『原子間力顕微鏡のメカニズムと試料の性質に応じた観察テクニック』（技術情報協会）
『フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価・解析法』（情報機構）
9/2『レジスト／純水間の相互作用解析と気泡制御』（サイエンス＆テクノロジー）
4/22『ナノレベルの接着・剥離挙動の解析・評価法』（情報機構）
3/11『半導体微細加工用レジストの濡れ・凝集性とトラブル対策』（情報機構）

2004年

『レジストの剥離制御・評価技術』（情報機構）
8/19『微細領域でのレジスト付着・剥離性の測定と評価・制御技術』（情報機構）
4/23『原子間力顕微鏡（AFM)による薄膜・表面物性の測定・評価ノウハウ　～幅広い使い方とデータ解析法～』（情報機構）
1/23『電子デバイスの製造プロセス技術の基礎と応用』（情報機構）

2003年

9/24『微細レジストパターンの付着性改善・トラブル対策とその評価』（情報機構）
4/25『ナノ微粒子の付着・凝集メカニズムと制御技術』（技術情報協会）
3/14『フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価、解析法』（情報機構）

2002年

『フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価、解析法』（情報機構）
7/26『レジスト材料の付着性改善とパターン欠陥対策』（技術情報協会）
5/17『微細レジストパターンの付着性改善・トラブル対策とその評価』（情報機構）

2001年

『原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の基礎と固体表面の特性解析への応用』（技術情報協会）

2000年

『高分子材料／金属無機薄膜間の付着特性とその解析～表面エネルギー、濡れ特性、付着力～』（技術情報協会）