アドヒージョン株式会社

TOP > 会社案内 > 研究業績

研究業績RESEARCH ARCHIVEMENTS

当社代表代表取締役 河合晃の研究業績をご紹介いたします。

受賞

8件

  1. 進歩賞 (日本接着学会)
    「原子間力顕微鏡を用いた表面相互作用力の解析」 平成11年
  2. 論文賞 (日本接着学会)
    「原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細探針走査法によるフォトレジスト微細パターンの接着性解析」 平成14年
  3. ベストポスター賞 (日本接着学会)
    「原子間力顕微鏡(AFM)を用いたサブミクロンサイズのラインレジストパターン表面のインデンテーション解析」 平成14年
  4. Photopolymer Science and Technology Award 2005 (Photopolymer Science & Technology Committee)
  5. ベストポスター賞 (日本接着学会)
    「微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析」 平成17年度
  6. 安全衛生優良研究室 (長岡技術科学大学)
    「電気系河合晃研究室」 平成22年度
  7. 安全衛生優良研究室 (長岡技術科学大学)
    「電気系河合晃研究室」 平成25年度
  8. 教育活動表彰 (長岡技術科学大学)
    「電気電子情報工学専攻における高専連携WG活動の推進」 平成27年

原著論文

165報

2018年

  • Akira Kawai et al., "Novel Fabrication of Three-Dimensional Homogeneous Microporous Polyimide Membrane", J. Photopolymer Science and Technology, 31(3), 437-440 (2018)
  • Akira Kawai et al., "In-Situ Observation of Permeation Behavior and Structural Analysis of Polyimide Membrane with Electrical Properties", J. Photopolymer Science and Technology, 31(6), 735-738 (2018)

2017年

  • Akira Kawai et al., "Three-Dimensional Analysis of Liquid Propagation at Microchannel Junction using ESEM", J. Photopolymer Science and Technology, 30(6), 709-714 (2017)
  • Akira Kawai et al., "Application to Artificial Skin of Double Cone Tube Made of Acrylic Resin Formed by Micro Stereolithography", J. Photopolymer Science and Technology, 30(3), 345-350 (2017)

2016年

  • Akira Kawai et al., "Negative pattern formation in positive resist layer by EB / UV hybrid lithography", J. Photopolymer Science and Technology, 29(4), 603-606 (2016) in perss.
  • Akira Kawai et al., "In-situ Monitoring of TMAH Developer Intrusion into Resist Film by C-V Method", J. Photopolymer Science and Technology, 29(6), 817-822 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Effect of Sub-Pattern on Guiding Liquid Propagation at Microchannel Junction", J. Photopolymer Science and Technology, 29(6), 833-834 (2016)

2014年

  • Akira Kawai et al., "Tactile senses control by contacting a human finger with micro resist pattern arrangements", J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (6) 691-694(2014)
  • Akira Kawai et al., "Frequencydispersion of permittivity of SU-8 resist thin film", J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (6) 711-712 (2014)

2013年

  • Akira Kawai et al., “Electrification on Condensation Surface of Micro Particles with Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 705-706 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Local Heating System Integrated with Platinum Micro Heater and Photopolymer Microfluidic Channel”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 713-716 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Fabrication of Micro Tube Array by Combining Positive with Negative Type Photoresists due to Solubility Difference in Developer”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 717-720 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Liquid Penetration Control of Photoresist/Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Double Layer Structure by Hydrophobic Treatment”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 727-732 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Micro Pinhole Formation in Photoresist Multilayer Structure controlled with Hydrophilic Treatment”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 739-744 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 751-756 (2013)
  • Akira Kawai et al., “Effect of Low Surface Tension Developer on Micro Bubble Removal from Resist Square Window Pattern”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 765-768 (2013)

2012年

  • Akira Kawai et al., “Surface Stability of SU-8 film for Accurate Biopotential Detection”, J. Photopolymer Science and Technology, 25(6), 719-722 (2012)
  • Akira Kawai et al., “Mechanical Stress Effect on Ionic Conductivity of Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Film by Photolithography”, J. Photopolymer Science and Technology, 25(6), 723-727 (2012)
  • Akira Kawai et al., “Micro Cantilever Motion in Micro Pattern Peeling by DPAT Method”, J. Photopolymer Science and Technology, 25(6), 729-733 (2012)
  • Akira Kawai et al., “Interfacial Microstructure of a Double-layer Cu Film Consisting of an Under-layer Deposited on SiO2 Substrate in Ar-10 vol% O2 and an Upper-layer Deposited in Pure Ar”, J. Adhesion Soc. Japan, 48(1), 10-16 (2012)

2011年

  • Akira Kawai, “Fluid Control MEMS constructed with Polymer Materials”, J. Photopolymer Science and Technology, 24(5), 587-593 (2011)
  • Akira Kawai et al., “Micro Polymer Capsule Constructed with Micro Pillars Formed by Multi Laminating Method”, J. Photopolymer Science and Technology, 24(6), 647-650 (2011)

2010年

  • Akira Kawai et al., “Low-Resistivity and Adhesive Sputter-Deposited Cu-Ca Films with an Intermediate Oxide Layer”, Jpn. J. Appl. Phys., 49 (2010) p075804-1~8
  • Akira Kawai et al., “Free fall Mechanism of Micro Liquid Droplet”, J. Photopolymer Science and Technology, 23(3), 363-366 (2010)
  • Akira Kawai et al., “Characterization of Resist Micro Pattern Adhesion by Applying Ultrasonic Vibration”, J. Photopolymer Science and Technology, 23(3), 435-438 (2010)
  • Akira Kawai et al., “Dielectric Property of Solution Analyzed by using pn-junction Array”, J. Photopolymer Science and Technology, 23(3), 367-370 (2010)
  • Akira Kawai et al., “Double Patterning Analysis Method by Emulation using a Double-Exposure Technique”, Jpn. J. Appl. Phys., 49 (2010) p035201-1~6
  • 河合 晃ほか:「超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析」, Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate), 93-98 (2010)

2009年

  • Akira Kawai et al., “Fidelity of Mask Shape and Use of a Correction Method in Anisotropic Si Wet Etching”, J. Photopolymer Science and Technology, 22(6), 731-735 (2009)
  • Akira Kawai et al., “Analysis of self-standing structure composed by thick resist layer”, J. Photopolymer Science and Technology, 22(5), 561-564 (2009)
  • Akira Kawai et al., “Dielectric dispersion analysis of resist layer”, J. Photopolymer Science and Technology, 22(3), 317-320 (2009)
  • Akira Kawai et al., “Formation Mechanism of Micro Defect in Anisotropic Etching Analyzed by using Quasi-defect Pattern”, J. Photopolymer Science and Technology, 22(3), 313-316 (2009)
  • Akira Kawai et al., “Characterization of photomask substrate in optical lithography”, J. Photopolymer Science and Technology, 22(5), 555-559 (2009)

2008年

  • Akira Kawai et al., “Flowing control of micro bubbles in DFR micro fluidic channel formed on metal /insulator composite substrate”, J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 63-68 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Wetting control of polymer solution on roughened solid surfaces by wet-blast technique”, J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 37-42 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Micro channel device composed by Dry film resist”, J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 43-46 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Adsorption of micro tip on various surface energy substrates”, J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 85-88 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Non-contact deformation of resist micro pattern due to van der Waals Interaction”, J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 89-94 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Nano-scale Deformation of Resist Film Surface by Humidifying and Drying Processes”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 737-738 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Micro Bubble Removal Depending on Glass Cleanness”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 727-728 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Internal Stress of Dry Film Resist in Multilayer Structure”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 725-726 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Surface Energy change of Si(100) Wafer by Exposing to Air”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 739-740 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Pinning Effect of Micro Bubbles adhered on Resist Substrate”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 753-754 (2008)
  • Akira Kawai et al., “Spreading of Liquid Drop on Resist Film Surface”, J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 759-760 (2008)

2007年

  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡(AFM)による微細レジストパターン内の屈折率分布の解析」, 日本接着学会誌、vol.43, No.4, 140-143 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Bubbles Condensed at Water/resist Interface Analyzed by AFM”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(5), 673-678 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Visualization of stress distribution in resist film by surface plasma treatment”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 783-784 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Analysis of micro meniscus shape by light scattering”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 781-782 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Non-contacting deformation (NCD) of line resist pattern due to interaction force with AFM tip”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 777-780 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Micro bubbles formed on ArF excimer resist surface detected by tip scanning method”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 805-806 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Wetting analysis of hydrophobic substrate treated by HMDS primer”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 815-816 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Nano-wetting of DI-water analyzed by AFM”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 813-814 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Analysis of interface condition between BARC and resist film by FT-IR/ATR”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 807-808 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Peeling analysis of ArF resist pattern on BARC by using AFM”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 825-826 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Deformation analysis of ArF resist pattern by using AFM”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 827-828 (2007)
  • Akira Kawai et al., “Native oxide growth on Si(100) surface in liquid environment”, J. Photopolymer Science and Technology, 20(6), 823-824 (2007)

2006年

  • Akira Kawai et al., “Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material”, Microelectronic Engineering, 83, 659-662 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design”, Microelectronic Engineering, 83, 1167-1169 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Removal mechanism of nano-bubble with AFM for immersion lithography”, Microelectronic Engineering, 83, 655-658 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Micro wetting system by controlling pinning and capillary forces”, Microelectronic Engineering, 83, 1280-1283 (2006)
  • 河合 晃ほか:「走査型プローブ顕微鏡によるシリコン酸化膜の経時絶縁破壊特性」, 日本表面科学会誌、27 (4) 49-54 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Topcoat characterization for immersion lithography by fluoric acid etching on silicon substrate”, J. Photopolymer Sci. Technol., 19(5), 601-611 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Formation factors of watermark for immersion lithography”, Jpn. J. Appl. Phys. 45, 5383-5387 (2006)
  • Akira Kawai et al., “Effect of low surface tension liquid on pattern collapse analyzed by observing dynamical meniscus observation”, Jpn. J. Appl. Phys., 45, 5429-5434 (2006)

2005年

  • Akira Kawai et al., “Condensation of Nano-Size Polymer Aggregates by Spin Drying”, J. Adhesion and Interface, vol.6 (1) 7-10 (2005)
  • Akira Kawai, “Condensation behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope”, J. Photopolymer Sci. Technol., 18(3), 349-354 (2005)
  • Akira Kawai et al., “Interaction analysis of DI-water / Air / ArF resist system using atomic force microscope”, J. Photopolymer Sci. Technol., 18(3), 373-380 (2005)
  • Akira Kawai et al., “Deflection analysis of micro cantilever due to water vapor adsorption”, J. Photopolymer Sci. Technol., 18 (3), 681-682 (2005)
  • Akira Kawai et al., “Dot pattern collapse due to Laplace force analyzed by dynamical meniscus model”, J. Photopolymer Sci. Technol., 18(3), 679-680 (2005).

2004年

  • Akira Kawai, “Influence of moving speed of AFM tip on peeling strength of micro resist pattern”, J. Adhes. Soc. Technol. 40, 11-13 (2004)
  • 河合 晃ほか:「角度制御型シェアモード剥離法」, Microjoining and Assembly Technology in Electronics, p77-82 (2004)
  • Akira Kawai, “Cohesion property of resist pattern surface analyzed by tip indentation method”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(3), 441-448 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Interaction force analysis of resist film surface in water vapor”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(3), 453-456 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Meniscus analysis in micro gap during liquid drying process”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(3), 457-460 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Analysis for drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(3), 461-464 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Cohesion property of polymer aggregate depending on hardening treatment”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(1), 99-102 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Viscous finger pattern formed in photoresist film during heat treatment”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(1), 103-104 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Micro bubbles captured at micro defect on resist film”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(1), 105-106 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Pinning effect of microliquid drop on geometrical complex substrates composed with different surface energy materials”, J. Vac. Sci. & Technol. B22(6), Nov/Dec 3525-3527 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Determination of Young's modulus of polymer aggregate based on Hertz theory”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(5), 715-718 (2004)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion mechanism of micro bubbles on ArF and F2 excimer resists”, J. Photopolymer Sci. Technol., 17(5), 713-714 (2004)

2003年

  • Akira Kawai et al., “Effect of Thermal Stress on Peel Property of Line Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Adhes. Soc. Technol. 39, 107-109 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Peeling Analysis of Resist line Pattern of 170nm Width Due To Crack Formation by using Atomic Force Microscope Tip”, Surface and Coating Technology, 169-170, pp.311-315 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Van der Waals interaction between Si surface and micro tip apex treated with hexamethyldisilazane (HMDS)”, J. Adhes. Soc. Technol. 39, 255-258 (2003)
  • Akira Kawai, “Cohesion property of resist micro pattern analyzed by using atomic force microscope (AFM)”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(3), 381-386 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Advanced resist design using AFM analysis for ArF lithography”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(3), 467-474 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion of ArF Excimer Resist Pattern Depending on Heating Temperature Analyzed by Atomic Force Microscope”, J. Adhes. Soc. Technol. 39, 423-425 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Condensation control of micro particles by charge deposition method”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(5), 669-670 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Characterization of SiO2 surface treated by HMDS vapor and O2 plasma with AFM tip”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(5), 665-668 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion of AFM tip to resist surface due to Laplace force”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(5), 663-664 (2003)
  • Akira Kawai et al., “Determination of electrified area formed by AFM lithography”, J. Photopolymer Sci. Technol., 16(5), 661-662 (2003)

2002年

  • Akira Kawai et al., “Analysis of Pattern Collapse of Electron Beam Resist Ranging from 60 to 152 nm Width with Atomic Force Microscope Tip”, J. Adhesion Soc. Japan, 38 16-19 (2002)
  • 河合 晃:「探針の吸着力測定による水蒸気の凝縮性解析」, 日本接着学会誌、38, 50-53 (2002)
  • 河合 晃:「水蒸気吸着に伴う微細カンチレバーの撓み変位の解析」, 日本接着学会誌、38, 169-172 (2002)
  • Akira Kawai, “Adhesion and Cohesion Properties of Dot Resist Patterns Ranging from 84 to 364 nm Diameter Analyzed by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip”, J. Photopolymer Science & Technology, 15(1), 121-126 (2002)
  • Akira Kawai et al., “Van der Waals Interaction between Polymer Aggregates and Substrate Surface Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Photopolymer Science & Technology, 15(1), 127-132 (2002)
  • Akira Kawai, “Cohesion Property of Polymer Aggregates in Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Photopolymer Science & Technology, 15(3), 371-376 (2002)
  • Akira Kawai et al., “Peeling Property of Resist Pattern in Water Analyzed by Atomic Force Microscope”, J. Photopolymer Science & Technology, 15(5), 757-758 (2002)
  • Akira Kawai, “Resist Pattern Peel due to Resonance Effect of Micro Tip”, J. Photopolymer Science & Technology, 15(5), 759-760 (2002)
  • Akira Kawai et al., “Establishment of Eaves Forming Model by Analysis of the Interface Energies at the Threefold of Cu/DFR/Ni Plating Solution”, J. Adhesion Soc. Japan, 38, 413-419 (2002)

2001年

  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡を用いた微細探針と無機固体表面間のHamaker定数解析」, 日本接着学会誌、37, 146-149 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Analysis of Pattern Collapse of ArF Excimer Laser Resist by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip”, Microelectronic Engineering, vol.57-58, pp683-692 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion and Cohesion Analysis of ArF/SOR Resist Patterns with Microtip of Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(4), 507-512 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM)”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(4), 513-518 (2001)
  • 河合 晃ほか:「Glass/レジスト/Cu/Al/Glass多層構造の破壊特性解析」, 日本接着学会誌、37, 303-308 (2001)
  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡(AFM)を用いた線幅60nmのラインレジストパターンの弾性解析」, 日本接着学会誌、37, 353-357 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Resist Hardening by Electron Beam Irradiation Analyzed by Atomic Force Microscope”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(5), 751-752 (2001)
  • Akira Kawai, “Collapse of Dot Patterns Formed on Various Substrates analyzed by Tip Scanning Method”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(5), 723-724 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Estimation of Young’s Modulus of Resist Pattern by using Atomic Force Microscope”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(5), 731-734 (2001)
  • Akira Kawai et al., “DUV Hardened Layer of Resist Dot Pattern Detected by Tip Indentation Method”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(5), 749-750 (2001)
  • Akira Kawai et al., “Fatigue Property of Resist Micro Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope Tip”, J. Photopolymer Science and Technology, 14(5), 701-702 (2001)
  • 河合 晃ほか:「微細周期パターン上へのプラズマ重合膜の堆積特性」, 日本接着学会誌、37, 433-436 (2001)

2000年

  • Akira Kawai, “Collapse Behavior of Organic Dot-Pattern Analyzed by the Tip Indentation Method”, J. Adhesion Soc. Japan, 36, 23-27 (2000)
  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細探針走査法によるフォトレジスト微細パターンの接着性解析」, 日本接着学会誌、36, 2-9 (2000)
  • Akira Kawai et al., “Analysis of Resist Pattern Collapse by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip”, Jpn. J. Appl. Phys., 39, 1426-1429 (2000)
  • 河合 晃:「固体表面での微細探針の吸着力解析」, 日本接着学会誌、36, 131-135 (2000)
  • 河合 晃:「マイカへき開表面での微細探針の摩耗に伴う吸着力変化」, 日本接着学会誌、36, 172-175 (2000)
  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡を用いた一括破壊試験法による有機ドットパターンの付着挙動解析」, 日本接着学会誌、36, 295-301 (2000)
  • 河合 晃ほか:「原子間力顕微鏡を用いた微細レジストドットパターンの疲労解析」, 日本接着学会誌、36, 404-407 (2000)
  • Akira Kawai, “Collapse Behavior of KrF Resist Line Pattern Analyzed with Atomic Force Microscope Tip”, Jpn. J. Appl. Phys., 39, 7044-7048 (2000)

1999年

  • Akira Kawai, “Collapse Behavior of Micro Resist Pattern Analyzed by Tip Indentation Method with Atomic Force Microscope”, J. Vac. Sci. & Technol.B17, 1090-1093 (1999)
  • 河合 晃:「Cu/Al多層膜構造の破壊強度に及ぼすAl自然酸化膜の影響」, 日本接着学会誌、35, 558-561 (1999)

1998年

  • 河合 晃:「10nm以下のAu薄膜の成長挙動と接触角変化」, 日本接着学会誌、34, 209-213 (1998)
  • 河合 晃:「ミクロンサイズの格子型基板を用いた液滴平面形状の制御」, 日本接着学会誌、34, 226-228 (1998)
  • Akira Kawai, “Characterization of Fall Angle of Water Drop based on Surface Energy Components”, J. Adhesion. Soc. Japan, 34, 191-193 (1998)
  • 河合 晃ほか:「異種材料で構成された格子状基板上での液滴の接触角」, 日本接着学会誌、34, 22-25 (1998)
  • 河合 晃ほか:「AFM探針とポリスチレンラテックス(直径42nm~1μm)凝集粒子間の付着力解析 -DMT理論に基づく微粒子系の相互作用力の補正式-」, 日本表面科学会誌、19, 491-497 (1998)

1997年

  • 河合 晃:「原子間力顕微鏡(AFM)によるフォトレジスト膜表面の摩擦挙動解析(周期パターンの歪検出方式)」, 日本接着学会誌、33, 465-471 (1997)
  • 河合 晃ほか:「AFM微細探針によるAu表面の弾性および吸着特性」, 日本接着学会誌、33, 395-397 (1997)
  • Akira Kawai et al., “Refractive Index Distribution in Photoresist Thin Film Formed by the Spin Coating Method”, Jpn. J. Appl. Phys., 36, L1622-L1624 (1997)
  • 河合 晃ほか:「溶剤蒸発に伴うレジスト膜の粘性指状変形と接着性」, 日本接着学会誌、33, 434-437 (1997)

1996年

  • 河合 晃ほか:「遷移金属薄膜上に形成したBaTiO3薄膜の熱処理時の接着挙動」, 日本接着学会誌、32, 404-409 (1996)
  • Akira Kawai, “Measuring the Thermal Properties of Photoresist Thin Films Using Atomic Force Microscopy”, Thin Solid Films, 273, 308-311 (1996)
  • 河合 晃:「スパッタリングで形成したAuおよびPtの大気中放置に基づく表面自由エネルギー変化」, 日本接着学会誌、32, 39-43 (1996)
  • Akira Kawai et al., “Correlation between Surface Free Energy and Dielectric Constant of BaTiO3 Thin Film”,J. Adhesion Society of Japan, 32, 221-223 (1996)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion Improvement of Photoresist on TiN/Al Multilayer by Ozone Treatment”, Jpn. J. Appl. Phys., 35, L1227~L1229 (1996)
  • 河合 晃ほか:「フォトレジスト膜へのアルカリ水溶液の浸透と接着性」, 日本接着学会誌、32, 294-297 (1996)

1995年

  • 河合 晃ほか:「Al薄膜の表面粗さとレジスト微細パターンの接着性」, 日本接着学会誌、31, 44-48 (1995)
  • 河合 晃ほか:「フォトレジスト膜の残留歪みと接着性に及ぼす溶剤の効果」, 日本接着学会誌、31, 187-191 (1995)
  • 河合 晃:「原子間力顕微鏡により検出した薄膜の表面力と表面自由エネルギー成分との相関」, 日本接着学会誌、31, 237-240 (1995)
  • Akira Kawai, “Spreading of Water Drop on Geometrical Rough Surface Formed by Photolithography”, J. Adhesion Society of Japan, 31, 92-94 (1995)
  • Akira Kawai et al., “Characterization of Thin-Film Interference Effect due to Surface Roughness”, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 3754-3758 (1995
  • 河合 晃ほか:「接触角法により測定した遷移金属薄膜の表面自由エネルギーの分散および極性成分」, 日本接着学会誌、31, 307-311 (1995)
  • 河合 晃:「表面結露法により検出したAl表面の有機汚染層とフォトレジストパターンの接着性」, 日本接着学会誌、31, 354-359 (1995)
  • Akira Kawai, “Adhesion of Resist Micropatterns during Drying after Water Rinse”, Jpn. J. Appl. Phys., 34, L1093-L1094 (1995)
  • Akira Kawai, “Adhesion of Micro Window Pattern Formed by Photolithography”,J. Adhesion Society of Japan, 31, 360-362, (1995)
  • 河合 晃ほか:「TMAH水溶液中でレジスト膜に発生した環境応力亀裂」, 日本接着学会誌、31, 452-457 (1995)
  • 河合 晃ほか:「レジスト膜上のスピンオンガラス膜に発生する微細亀裂」, 日本接着学会誌、31, 498-501 (1995)

1994年

  • 河合 晃ほか:「有機スピンオンガラス上でのフォトレジストの濡れ不良」, 日本接着学会誌、30, 582-585 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Measurement Method of Adhesion Strength between Inorganic Materials and Polymer by Using Atomic Force Microscopy”, J. Ceramic Society of Japan, 102, 1102~1104 (1994)
  • 河合 晃ほか:「レジスト微細パターン内の熱応力分布と接着特性」, 日本接着学会誌、30, 549-554 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Wetting Behavior of Liquid on Geometrical Rough Surface Formed by Photolithograpy”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L1283-L1285 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Wetting Failure of Photoresist on Spin-On-Glass (SOG) Substrate by Spin Coating”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L1355-L1357 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Shrinkage Effect of Local Area of Polymer Film on Adhesion Behavior”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L973-L974 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion of Photoresist Pattern Baked at 80 to 325℃ to Inorganic Solid Surface”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L146-L148 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Blister Formation at photoresist-Substrate Interface”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 3635-3639 (1994)
  • Akira Kawai et al., “Local Peeling of Photoresist Film during Ultraviolet Light Exposure”, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L149-L151 (1994)

1983-1993年

  • Akira Kawai et al., “Dependency of Adhesion Behavior on Thermal Stress Distribution in Photoresist Micropatterns”, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 1020-1024 (1993)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion of Photoresist Micropattern to Aluminum Substrate in Alkaline Aqueous Solution”, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 1933-1939 (1992)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion of Photoresist Pattern Baked at 80 to 325℃ in Tetramethyl-ammonium- hydroxide Aqueous Solution”, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 3725-3730 (1992)
  • Akira Kawai et al., “Characterization of Surface Energetic Behavior by Atomic Force Microscopy”, Jpn. J. Appl. Phys. 31, L977-L979 (1992)
  • Akira Kawai et al., “Dependence of Offset Error on Overlay Mark Structures in Overlay Measurement”, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 385-390 (1992)
  • Akira Kawai et al., “Adhesion between Photoresist and Inorganic Substrate”, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 121-125 (1991)
  • Akira Kawai et al., “Characteristics of Adhesion between Photoresist and Inorganic Substrate”, Jpn. J. Appl. Phys. 28, 2137-2141 (1989)
  • Akira Kawai et al., “Synthesis of TiB2 by High-Dose Implantation of Boron Ions Titanium Films”, J. American Ceramic Soc., 66, c-78 (1983)

特許

登録特許13件・公開特許98件・国際特許11件

登録特許

  1. 河合、感光性樹脂塗布装置、特許 1614190(1984)
  2. 河合ほか、半導体記憶装置の製造方法、特許1875148(1985)
  3. 河合ほか、パターンの位置合わせずれ量評価方法、特許1650326(1985)
  4. 河合、密着強化剤塗布方法、特許2027790(1986)
  5. 河合ほか、塗布方法、特許2032170(1986)
  6. 河合ほか、レジスト膜形成装置、特許2613183(1986)
  7. 河合ほか、レジスト膜の塗布方法、特許1953374(1988)
  8. 河合、微細レジストパターンの形成方法、特許2565754(1988)
  9. 河合ほか、半導体装置の製造方法、特許 2580681(1988)
  10. 河合、フォトマスク、特許 2641589(1990)
  11. 河合ほか、現像装置、特許公報(B2) 平3-185710(1991)
  12. 河合、振動測定装置及び振動測定方法, 特許5004223号 (2012)
  13. 河合ほか、ナノ気泡の判別方法及びその装置, 特許5013320号 (2012)

公開特許

(1997年以前の出願特許は、特許戦略により審査請求をしていない。)

  1. 河合ほか、配線パターン形成方法、公開特許公報(A) 昭60-57622(1983)
  2. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭60-202954(1984)
  3. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭60-246630(1984)
  4. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭61-4247(1984)
  5. 河合、感光性樹脂塗布装置、公開特許公報(A) 昭61-22627(1984)
  6. 河合ほか、半導体記憶装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭62-144351(1985)
  7. 河合ほか、半導体記憶装置、公開特許公報(A) 昭62-141758(1985)
  8. 河合ほか、半導体記憶装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭62-141757(1985)
  9. 河合ほか、半導体記憶装置、公開特許公報(A) 昭62-141756(1985)
  10. 河合ほか、半導体記憶装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭62-141759(1985)
  11. 河合ほか、半導体集積回路装置、公開特許公報(A) 昭62-140458(1985)
  12. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭62-086725(1985)
  13. 河合ほか、半導体製造装置、公開特許公報(A) 昭62-086724(1985)
  14. 河合ほか、パターン位置合わせずれ量評価方法、公開特許公報(A) 昭62-086741(1985)
  15. 河合、レジストパターン形成方法、公開特許公報(A) 昭62-086726(1985)
  16. 河合ほか、液体吐出装置、公開特許公報(A) 昭62-61668(1985)
  17. 河合ほか、樹脂塗布方法、公開特許公報(A) 昭62-27074(1985)
  18. 河合、レジストパターン形成方法、公開特許公報(A) 審判平03-003071 (1985)
  19. 河合、半導体記憶装置、公開特許公報(A) 昭62-202555(1986)
  20. 河合、密着強化剤塗布方法、公開特許公報(A) 昭62-211643(1986)
  21. 河合ほか、処理液塗布装置、公開特許公報(A) 昭63-136528(1986)
  22. 河合ほか、レジスト塗布膜厚制御装置、公開特許公報(A) 昭63-131517(1986)
  23. 河合ほか、半導体製造におけるフォトレジスト塗布装置、公開特許公報(A) 昭63-119531(1986)
  24. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭63-312643(1987)
  25. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭63-260079(1987)
  26. 河合ほか、半導体記憶装置、公開特許公報(A) 昭63-260066(1987)
  27. 河合、シリカガラス液吐出装置、公開特許公報(A) 昭63-278234(1987)
  28. 河合ほか、処理シーケンス自動設定装置、公開特許公報(A) 昭63-265303(1987)
  29. 河合、薬液加圧装置、公開特許公報(A) 昭63-258634(1987)
  30. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 昭63-221665(1987)
  31. 河合ほか、塗布装置、公開特許公報(A) 昭63-110637(1988)
  32. 河合ほか、スタテイック型半導体記憶装置およびその製造方法、昭63-237462 (1987)
  33. 河合ほか、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 平1-217915(1988)
  34. 河合ほか、露光方法、公開特許公報(A) 平1-283926(1988)
  35. 河合、ウエハチャック、公開特許公報(A) 平1-283930(1988)
  36. 河合、半導体ウエハの現像装置、公開特許公報(A) 平1-260823(1988)
  37. 河合、塗布膜形成方法、公開特許公報(A) 平1-253920(1988)
  38. 河合、塗布膜除去装置、公開特許公報(A) 平1-253923(1988)
  39. 河合ほか、パターン形成方法、公開特許公報(A) 平1-123232(1987)
  40. 河合ほか、レジストパターン形成方法、公開特許公報(A) 平1-132123(1987)
  41. 河合ほか、パターンの形成方法、公開特許公報(A) 平1-134917(1987)
  42. 河合ほか、電極配線の形成方法、公開特許公報(A) 平1-130546(1987)
  43. 河合、露光方法、公開特許公報(A) 平2-010818(1988)
  44. 河合ほか、半導体装置の光学特性評価装置、公開特許公報(A) 平2-014544(1988)
  45. 河合ほか、半導体ウエハ搬送装置、公開特許公報(A) 平2-014545(1988)
  46. 河合ほか、パターン形成方法、公開特許公報(A) 平2-015615(1988)
  47. 河合ほか、パターン形成方法、公開特許公報(A) 平2-037352(1988)
  48. 河合、ウエハ周辺露光装置、公開特許公報(A) 平2-037712(1988)
  49. 河合、フォトレジストの露光方法および露光装置、公開特許公報(A)平2-063058(1988)
  50. 河合、パターン形成方法、公開特許公報(A) 平2-069929(1988)
  51. 河合ほか、レジスト膜の塗布方法、公開特許公報(A) 平2-074948(1988)
  52. 河合、微細レジストパターンの形成方法、公開特許公報(A) 平2-89060(1988)
  53. 河合、露光装置、公開特許公報(A) 平2-097011(1988)
  54. 河合ほか、レジスト塗布装置、公開特許公報(A) 平2-113518(1988)
  55. 河合、レジスト塗布装置、公開特許公報(A) 平2-129912(1988)
  56. 河合、露光装置、公開特許公報(A) 平2-153518(1988)
  57. 河合ほか、現像装置、公開特許公報(A) 平3-185710(1989)
  58. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-185711(1989)
  59. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-198133(1989)
  60. 河合、スピナー装置、公開特許公報(A) 平3-219619(1990)
  61. 河合、レジストパターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-223760(1990)
  62. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-235948(1990)
  63. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-237458(1990)
  64. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(A) 平3-259257(1990)
  65. 河合、半導体ウエハ用ステージ、公開特許公報(A) 平4-111339(1990)
  66. 河合、位置合わせマーク形成方法、公開特許公報(A) 平4-115517(1990)
  67. 河合、アライメントマークおよびその形成方法、公開特許公報(A) 平4-122012(1990)
  68. 河合ほか、電界効果トランジスタ、公開特許公報(A) 平4-163961(1990)
  69. 河合、半導体ウエハ搬送体、公開特許公報(A) 平4-271138(1990)
  70. 河合、半導体装置、公開特許公報(1990)
  71. 河合、フォトレジスト露光装置、公開特許公報(1990)
  72. 河合、高反射基板上でのパターニング、公開特許公報(1990)
  73. 河合、露光装置、公開特許公報(1990)
  74. 河合、フォトマスク、公開特許公報(1991)
  75. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(1991)
  76. 河合、微細パターン形成方法、公開特許公報(1991)
  77. 河合、フォトマスク、公開特許公報(1991)
  78. 河合、パターン位置合わせずれ量評価方法、公開特許公報(A) 平3(1991)
  79. 河合、Alignment Mark having Regions Formed by Energy Beam Irradiation Therein and Method of Manufacturing the Same, 公開特許公報(A) 平3(1991)
  80. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 特開平06-37193 (1992)
  81. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 特開平06-89894 (1992)
  82. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 特開平06-163453 (1992)
  83. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 特開平06-97068 (1992)
  84. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(A) 特開平06-61360 (1992)
  85. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(1992)
  86. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(1992)
  87. 河合、露光装置、公開特許公報(1992)
  88. 河合、平坦化方法、公開特許公報(1993)
  89. 河合、半導体装置の製造方法、公開特許公報(1993)
  90. 河合ほか、レジストを用いた型及びその製造方法、コンタクトプローブ及びその製造方法、公開特許公報(A) 特開平11-326376 (1998)
  91. 河合、固体表面の微小付着物の物性評価方法、公開特許公報(A) 特開平11-248619 (1998)
  92. 河合ほか、基板表面の汚染度検出方法及び基板表面の汚染度検出装置、公開特許公報(A) 特開平11-248617 (1998)
  93. 河合、カンチレバー型の吸着センサー並びに吸着力解析方法、公開特許公報(A) 特開2000-214072 (1999)
  94. 河合、試料表面の付着物検査システム、試料表面の付着物検査方法、試料表面の付着物固着システム並びに試料表面の付着物処理システム、公開特許公報(A)特願平11-332081 (1999)
  95. 河合ほか、付着強度試験方法および装置、特許出願済み (2003)
  96. 河合ほか、屈折率分布の解析方法、特願2007-38310号 (2007)
  97. 河合、振動測定装置及び振動測定方法、特願2007-169543号 (2007)
  98. 河合ほか、ナノ気泡の判別方法及びその装置、特願2007-293673号(2007)

国際特許

  1. 河合、アメリカ , Method for Applying a Treatment Liquidon a Semiconductor Wafer, 4702796 (1987)
  2. 河合ほか,アメリカ , Method for Applying a Treatment Liquidon a Semiconductor Wafer, 4763182 (1988)
  3. 河合、韓国, Semiconductor Memory Device, 35129(1990)
  4. 河合、ドイツ , Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspei-chereinrichtung, 3639375(1990)
  5. 河合、ドイツ Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspei-chereinrichtung, 3639375 (1990)
  6. 河合、イギリス, Semiconductor Memory Device, 0227381(1991)
  7. 河合、フランス , Semiconductor Memory Device, 0227381(1991)
  8. 河合、アメリカ , Method for Applying a Treatment Liquidon a Semiconductor Wafer, 5001084 (1991)
  9. 河合、ドイツ , Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterspei- chereinrichtung,3642595 (1991)
  10. 河合、ドイツ , Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspei-chereinrichtung, 3639058 (1991)
  11. 河合、ドイツ Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspei- chereinrichtung, 3681571 (1991)

招待講演

13件

  1. 韓国包装技術研究会(ソウル)
  2. Akira Kawai, Nano- Porous Structure in Polymer Micro Pattern Analyzed by Atomic Force Microscopy, The 1st Annual World Congress of Nano-S&T 2011, Dalian, China.
  3. 韓国包装技術研究会(ソウル)
  4. Akira Kawai, “Fluid control MEMS composed with polymer materials”, International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2011, Chiba, Japan (2011). Invited.
  5. 韓国包装技術研究会(ソウル)
  6. Akira Kawai, “Adhesion and removal of micro bubbles on ArF excimer resist surface”, International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2005, Chiba, Japan (2005). Invited.
  7. Akira Kawai, ”Adhesion and cohesion properties of micro condensed matter analyzed by atomic force microscope (AFM)”, 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004)Invited.
  8. Akira Kawai, “Cohesion property of resist pattern surface analyzed by tip indentation method”, International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2004, Chiba, Japan (2004). Invited.
  9. Akira Kawai et al., ”Micro bubbles capturedby micro defect on flat substrate”,2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004) Invited.
  10. Akira Kawai, “Cohesion property of resist micro pattern analyzed by using atomic force microscope (AFM)”, International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2003, Chiba, Japan (2003). Invited.
  11. 河合 晃、「接着の科学と技術の将来を考える」、日本接着学会40周年記念事業 パネルディスカッション、講演要旨集、p117、平成16年。
  12. 河合 晃、「原子間力顕微鏡を用いた相互作用力の解析(高分子微小固体の付着・凝集性)」、第50回高分子学会年次大会 若手招待講演、大阪国際会議場、ⅢB04IL*, 高分子学会予稿集、vol.50, No.1, p94、(2001).
  13. 河合 晃、「原子間力顕微鏡(AFM)を用いた材料表面間の相互作用力解析」、日本接着学会 進歩賞受賞講演、つくば国際会議場、日本接着学会第37回年次大会講演予稿集、p61-64、平成11年。

国際学会

122件

2017年

  • Akira Kawai et al., "Fabrication of Double Cone Tube Formed by Micro Stereolithography for Molding of Three-Dimensional Metal Structure", The 6th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2017), Japan, RD-037 (2017)
  • Akira Kawai et al., "Application to Artificial Skin of Double Cone Tube Made of Acrylic Resin Formed by Micro Stereolithography", The 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-34), Makuhari, Chiba, Japan, A-66 (2017)
  • Akira Kawai et al., "Durability of Resist Film in TMAH Developer Analyzed by C-V Method", International Conference of Science of Technology Innovation 2017 (STI-Gigaku 2017), Nagaoka, Japan, STI-9-91 (2017)

2016年

  • Akira Kawai et al., "Formation of Ultra Thin Continuous Resist Film Less Than 10nm", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-24 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Biomimetic Fabrication of Gas Storage System in Micro Two Step Cone Tube", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-23 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Smooth Fluid Flow at Micro Channel/Tube Junction", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-18 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Application of Micro Heating System to Plant Vital Control", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-17 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Analysis of TMAH Developer Intrusion into Resist Film by C-V Curve of MIS Capacitor", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-15 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Development of Micro Cone Shape Tube Utilizing for Gas Trap Sysytem", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C11-223 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Dielectric Dispersion Analysis of Resist Materials by Parallel Plate Capacitor Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C7-211 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of Nanoscale Bubble and Polymer Aggregate Adhered on Substrate by using Atomic Force Microscope (AFM) Tip", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-165 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of SAN (Self-Assembled Network) Structure Formed in Ultra Thin Film by using AFM (atomic force microscope)", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-164 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Fuel Cell Operation in Liquid Environment by Gas-Liquid Interface Control System", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-162 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Bubble Trap Analysis for Smooth Fluid Flowing in Micro Channel / Tube Network", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-161 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Combination of Micro-Heater and Water Channel Device and Its Application to Plant Cell Vital Control", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-160 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Negative Pattern Formation in Positive Resist Layer by EB / UV Hybrid Lithography", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Tue-A1-11 (2016)
  • Akira Kawai et al., "TMAH Developer Intrusion into Resist Film Analyzed by C-V Method of MIS Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, C7-1-6 (2016)
  • Akira Kawai et al., "Negative pattern formation in positive resist layer by EB / UV hybrid lithography", ICPST-32, Makuhari, Chiba (2016)

2015年

  • Akira Kawai et al., "C-V characteristic of Ta2O5 sputtered thin film of 17nm thickness", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, MP-26, Abstract P240 (2015)
  • Akira Kawai et al., "Nano-Scale Self-Aligned Structure Formed on Ionic Conductive Film: Perfluorosulfonic Acid (PFSA)", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, IP-19, Abstract P211 (2015)
  • Akira Kawai et al., "Manipulation of Nanoscale Condensed Soft Matters by using Cantilever Tip of Atomic Force Microscope (AFM)", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, IP-1, Abstract P194 (2015)
  • Akira Kawai et al., "Peeling Analysis of Nanoscale Condensed Matters by using Cantilever Tip of Atomic Force Microscope (AFM)", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) Niigata, Japan, P3-33, P259 (2015)
  • Akira Kawai et al., "Formation Mechanism of Nano-Scale Self-Aligned Structure of Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Analyzed by Surface Energy Balance Model", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) Niigata, Japan, P1-1, P57 (2015)

2014年

  • Akira Kawai et al., "Precise Nanoimprint Processes Optimized by Surface Energy Model", 27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2014) Fukuoka, Japan (2014)
  • Akira Kawai et al., "Functional Pattern formation on I-line Resist Film by Hybrid Lithography Utilizing Electron Beam and I-line Optical Sources", 27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2014) Fukuoka, Japan (2014)
  • Akira Kawai et al., "Effective Control of Tactile Sense in Human Finger by Micro Pattern Arrangement", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014) Lausanne, Switzerland (2014)
  • Akira Kawai et al., "Fabrication of Functional Membrane Electrode Assembly (MEA) by Lithography Process", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014) Lausanne, Switzerland (2014)
  • Akira Kawai et al., "Removal Property of Micro Bubbles Trapped on Resist Window Pattern by Dipping Into Low Surface Tension Developer", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014) Lausanne, Switzerland (2014)
  • Akira Kawai et al., "Peeling analysis of nanoscale defects by using cantilever tip of atomic force microscope (AFM)", PMJ (PhotoMask Japan), Digest paper 7s-12 p39, 15 April, Yokohama, Japan (2014)
  • Akira Kawai et al., "Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-mDMFC)", The 3rd International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2014), Japan, SP-6, Abstract p211 (2014)
  • Akira Kawai et al., "Functional Perflurosulfonic Acid (PFSA) Micro Pattern fabrication for Micro Fuel Cell", The 3rd International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2014), Japan, MP-7, Abstract p170 (2014)

2013年

  • Akira Kawai et al., "Surface energy analysis of Indium Tin Oxide (ITO) thin films on annealing treatment", 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P73 (2013)
  • Akira Kawai et al., "Single chip micro direct methanol fuel cell (SC-μDMFC) fabricated by MEMS Process", 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P72 (2013)
  • Akira Kawai et al., "Photoresist/Pt Electrode/Perflurosulfonic Acid (PFSA) Multilayer Structure for Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC)", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-128L, (2013)
  • Akira Kawai et al., "Micro Pattern Fabrication of Perflurosulfonic Acid (PFSA) Film by CF4 RIE Process", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-127L, (2013)
  • Akira Kawai et al., "Removal of micro bubble tapped on resist micro pattern by dipping into low surface tension developer", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-119L, (2013)
  • Akira Kawai, "Fluid control MEMS constructed with functional polymer materials", 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2013)
  • Akira Kawai et al., "Effect of Mechanical Stress on Electrolyte Film for Flexible Sheet Type Direct Methanol Fuel Cell", The 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (2nd IGCN), Abstract P151, (2013)
  • Akira Kawai et al., "A SU-8 Photoresist Film as Electrical Stable Layer in Liquid Environment", MP-11, The 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (2013)

2012年

  • Akira Kawai et al., "Monitoring and Modeling for Response Time of Biopotential in Plant Cells", The Electrochemical Society, Abstract #69, Honolulu PRiME 2012 (2012)
  • Akira Kawai et al., "Peeling Force of Polymer Micro Pattern by Direct Peeling by using AFM Tip (DPAT)", The Electrochemical Society, Abstract #68, Honolulu PRiME 2012 (2012)
  • Akira Kawai et al., "Stress Durability of Electrolyte Structure in Flexible Sheet type Direct Methanol Fuel Cell (FS-DMFC)", The Electrochemical Society, Abstract #59, Honolulu PRiME 2012 (2012)
  • Akira Kawai, "Manipulation of Micro Condensed Matter by Direct Peeling Method by using Atomic Force Microscope Tip", ECS Transactions, 50 (12) 477-485 (2012)
  • Akira Kawai, "Condensation control of Nanoscale Polymer Aggregates by using atomic force microscope tip", 1st International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2012), Feb. 3-5, 2012, Nagaoka, Japan, Transaction on GIGAKU,1, 01018/1-6 (2012)

2011年

  • Akira Kawai, "Nano- Porous Structure in Polymer Micro Pattern Analyzed by Atomic Force Microscopy(AFM)", Nano S&T 2011, Oct. 23-26, 2011, Dalian, China. invited
  • Akira Kawai, "Fluid Control MEMS constructed with Polymer Materials", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2011, June. 24, 2011, Chiba, Japan. invited
  • Akira Kawai, "Nanoscale Topography of Polymer Film Surface in Dry/Wet Conditions", Nano S&T 2011, Oct. 23-26, 2011, Dalian, China

2010年

  • Akira Kawai et al., "Adhesion Analysis of Resist Pattern by Applying Ultrasonic Vibration", 第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会, IEEE-07, 予稿集, P27 (2010)

2009年

  • Akira Kawai et al., "Micro bubble condensation in micro channel controlled by local electrical fi eld method", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 752034-1~11 (2009)
  • Akira Kawai et al., "PH control of water fl owing in micro structure by local electrical field method", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 752033-1~9 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Durability of self-standing resist sheet composed with micro holes", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 752032-1~9 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Micro bubble removal from micro pattern structure under alternating electric field", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 75202Z-1~11 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Spontaneous deformation of resist micro pattern due to van der Waals interaction", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 75202Y-1~12 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Relaxation properties of dielectric dipoles of photo resist materials", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan), Proc. SPIE, vol.7520, 75202X-1~7 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Fabrication of Bi2Sr2CaCu2Ox SQUIDs by acid treatment process", Int. Superconductive Electronics Conf., Fukuoka (2009)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of acide-treated product as a surrounding material of Bi2Sr2CaCu2Ox stack", Int. Superconductive Electronics Conf., Fukuoka (2009)
  • Akira Kawai et al., "Frequency dispersion of dielectric constant of liquid nitrogen", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PA29, p186-187 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Optical fringe pattern observed on condensed micro water droplets", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB29, p188-191 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Trap control of micro bubbles on patterned wall surface", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PA30, p192-193 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB28, p182-185 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Dissolved oxygen concentration (DOC) monitoring in deionized water by electrolysis methid", ACA2009 Tthe third Asian Conference on Adhesion). Hamamatsu, PA28, p180- p181 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Fabrication of micro-channel network composed with polymer material", ACA2009 Tthe third Asian Conference on Adhesion). Hamamatsu, PB27, p176-179 (2009)
  • Akira Kawai et al., "Analysis of self-standing structure composedby thick resist layers", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009, Chiba, Japan (2009)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of photomask substrate in optical lithography", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009, Chiba, Japan (2009)

2007年

  • Akira Kawai et al., "Bubbles condensed at resist/water interface analyzed by atomic force microscopy", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2006, Chiba, Japan (2007)

2006年

  • Akira Kawai et al., "Trap mechanism of micro bubbles in micro concave patterns", SPIE ML-6153-66, SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006)
  • Akira Kawai et al., "Solid defects condensation during watermark formation for immersion lithigraphy", SPIE ML6153-67 SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion and removal of micro bubbles for immersion lithography", SPIE ML6135-65 SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006)
  • Akira Kawai et al., "Analysis of the effect of mechanical strength of the resist film on pattern collapse behavior using atomic force microscope", SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006)
  • Akira Kawai et al., "Topcoat characterization for immersion lithography by fluoric acid etching on silicon substrate", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2006, Chiba, Japan (2006)

2005年

  • Akira Kawai et al., "Non-contacting deformation of isolated resist pattern due to interaction force analyzed by atomic force microscope", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 27P-7-10, P118 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Effect of low surface tension liquid on pattern collapse analyzed by dynamic meniscus observation", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 27A-5-4, P70 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Formation factors of watermark for immersion lithography", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 26A-3-4, P32 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Micro wetting system by controlling pinning and capollary forces", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 5C_03 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-l_07 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-a_04 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Removal analysis of nano-bubbles with AFM for immersion lithography", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-a_03 (2005)
  • Akira Kawai et al., "Interaction analysis of DI-water / Air / ArF resist system using atomic force microscope", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2005, Chiba, Japan (2005)
  • Akira Kawai, "Condensation behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2005, Chiba, Japan (2005)
  • Akira Kawai et al., "Mechanical strength of resist film analyzed by tip indentation method", SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005)
  • Akira Kawai et al., "Analysis for collapse behavior of resist pattern in short development time process using atomic force microscope", SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion and removal behavior of nanoscale bubble on resist film surface for immersion lithography", SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005)

2004年

  • Akira Kawai et al., "Micro wrincles formed in multi layer structure due to stress distribution", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P08-1~6 (2004)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion analysis of adhesive layer to viscous fingering deformation", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P07-1~6 (2004)
  • Akira Kawai et al., "Condensation of nano-size polymer aggregates by spin drying", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P06-1~7 (2004)
  • Akira Kawai et al., "Thermal deformation of novolak resist pattern", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P05-1~3 (2004)
  • Akira Kawai et al., (invited) "Micro bubbles captured by micro defect on flat substrate", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), O38-1~5 (2004)
  • Akira Kawai, (invited) "Adhesion and cohesion properties of micro condensed matter analyzed by atomic force microscope (AFM)", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), O03-1~6 (2004)
  • Akira Kawai et al., "Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2004, A-24, Chiba, Japan (2004)
  • Akira Kawai et al., "Meniscus analysis in microgap during liquid drying process", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2004, A-23, Chiba, Japan (2004)
  • Akira Kawai et al., "Interaction force analysis of resist film surface in water vapor", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2004, A-22, Chiba, Japan (2004)
  • Akira Kawai, (invited) "Cohesion property of resist pattern surface analyzed by tip indentation method", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2004, A-20, Chiba, Japan (2004)
  • Akira Kawai et al., "Pinning Effect of Micro Liquid Drop on Geometrical Complex Substrate Composed with Different Surface Energy", Abstract book, p218-219, SanDiego, EIPBN 2004 (2004)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion and Removal Control of Micro Bubbles for Immersion Lithography", Abstract book, p71-72, SanDiego, EIPBN 2004 (2004)

2003年

  • Akira Kawai, (invited) "Cohesion property of resist micro pattern analyzed by using atomic force microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2003, Chiba, Japan (2003)
  • Akira Kawai et al., "Resist design using AFM analysis for ArF lithography", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2003, Chiba, Japan (2003)

2002年

  • Akira Kawai, "Cohesion Property of Polymer Aggregates in Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2002, Chiba, Japan (2002)
  • Akira Kawai et al., "Van der Waals Interaction between Polymer Aggregates and Substrate Surface Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2002, Chiba, Japan (2002)
  • Akira Kawai, "Adhesion and Cohesion Properties of Dot Resist Patterns Ranging from 84 to 364 nm Diameter Analyzed by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2002, Chiba, Japan (2002)

2001年

  • Akira Kawai et al., "Interaction Analysis of Silicon Surfaces Treated with Oxygen Plasma and Silane-coupling Agent", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, D4-19, p355 (2001)
  • Akira Kawai et al., "Coulomb Force on Solid Surface Analyzed by Local Electrification Method with Micro Tip", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, D3-18, p266 (2001)
  • Akira Kawai et al., "Stress analysis due to micro wrincles formed in surface layer of Cu-Al maltilayer system", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, A2-17, p123 (2001)
  • Akira Kawai et al., "Peeling Analysis of Resist Pattern of 170nm Width Due To Crack Formation by using Atomic Force Microscope Tip", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, A2-15, p121 (2001)
  • Akira Kawai et al., "Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2001, Chiba, Japan, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 513-518 (2001)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion and Cohesion Analysis of ArF/SOR Resist Patterns with Microtip of Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2001, Chiba, Japan, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 507-512 (2001)

2000年

  • Akira Kawai et al., "Analysis of pattern collpase of ArF excimer laser resist by direct peeling method with atomic force microscopy", International conference of Micro- and Nano-Engineering 2000, (MNE2000), Jena, Germany (2000). Extended abstract, In-6P, (2000)
  • Akira Kawai, "Collapse behavior of KrF resist line pattern analyzed with atomic force microscopy", Microprocesses and Nanotechnology ’00, 2000 International Microprocesses and Nanotechnology conference (MNC 2000), Tokyo, Japan (2000). Digest of papers, 12C-6-34, p224-225 (2000)
  • Akira Kawai et al., "Formation of micro eaves analyzed by energy balance model at threehold of Cu film/DFR/Ni plating solution", Microprocesses and Nanotechnology '00, 2000 International Microprocesses and Nanotechnology conference (MNC 2000), Tokyo, Japan (2000). Digest of papers, 11C-2-25, p88-89 (2000)

1999年

  • Akira Kawai, "Wetting property of a Liquid Drop on a Geometrical Micro Substrate Composed with Different Surface Energy Materials", Electro Chemical Society Proceedings, vol.99-36, pp520-527, Hawaii, Meeting abstracts, No.1071 (1999)
  • Akira Kawai et al., "Analysis of resist pattern collpase by direct peeling method with AFM tip", Microprocesses and Nanotechnology '99, 1999 International Microprocesses and Nanotechnology conference (MNC 99), Yokohama, Japan, Advanced program, 8A-8-4, p192-193 (1999)
  • Akira Kawai, "Analysis of Adhesion Behavior of Micro Resist Pattern by Direct Collapse Method with Atomic Force Microscope Tip", SPIE’s 24th International Symposium on Microlithography, Santa Clara, California, Technical Program and Abstract digest, 3677-60 p180-181 (1999). Proc. SPIE, Microlithography, 3677, San Jose, p565-p573 (1999)

1998年

  • Akira Kawai et al., "Dependency of Micro Particle Adhesion of Dispersive and Nondispersive Interactions Analyzed by Atomic Force Microscopy", Proc. 4th Inter. Symp. Ultra Clean Processing on Silicon Surfaces (UPCSS 98), Ostend, Belgium, Abstract book p84 (1998)
  • Akira Kawai et al., "Removal of PSL particle on substrate in the function water", Proceedings of the abstracts of the 28th annual meeting of the fine particle society, Dallas, Texas, (1998)

1997年

  • Akira Kawai et al., "Adhesion property of sub-micron resist pattern analyzed by direct peeling method with AFM tip", The 5th International Colloquim on Scanning Tunneling Microscopy, Kanazawa, Abstract p43 (1997)
  • Akira Kawai et al., "Fabrication of Superconductor-Constrictions-Superconductor Mesoscopic Devices by Selective Niobium Anodization Process", International conference on Solid State and Materials, Hamamatsu, Extended abstract, D-6-2, pp252-253 (1997)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion Energy of Polystyrene and Substrate in Function Water"; Abstract No.1904, p2194 (1997), Proc. 5th Inter. Symp. Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, 97-35 Paris, 560-565 (1997).
  • Akira Kawai et al., "Analysis for Adsorption Behavior of PSL Particle by using Atomic Force Microscopy"; Abstract No. 1924, p2222 (1997), Proc. 5th Inter. Symp. Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, 97-35 Paris, 536-543 (1997)

1990-1995年

  • Akira Kawai, "Measuring the thermal properties of photoresist thin film using an atomic force microscopy", International symposium on ultra materials for picotransfer, Makuhari, chiba, Abstract, p192 (1995)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of surface energy behavior by atomic force microscopy", Proceedings of the seventh international conference of surface modification technology VII (SMT VII), Sanjo, Niigata, p343-353 (1993)
  • Akira Kawai et al., "Characterization of Automatic Overlay Measurement Technique for Sub-Half Micron Devices", Proc. SPIE, vol. 1464, Integrated Circuit Metrology, Inspection and Process Control V, San Jose, California, p267-277 (1991)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion between photoresist and inorganic substrate", Digest of papers of 3rd MicroProcess Conference, Chiba, Japan, p68-69 (1990)

1988-1989年

  • Akira Kawai et al., "Characteristics of Adhesion between Photoresist and Inorganic Substrate" Adhesion between photoresist and inorganic substrate, Digest of papers of 2nd MicroProcess Conference, Kobe, Japan (1989)
  • Akira Kawai et al., "Adhesion characteristics between photoresist and metal substrate", International conference of Electrochemical Society, Spring meeting, Atlanta Georgia, Extended abstract, vol.88-1, p171 (1988)
  • Akira Kawai et al., "Masking effect and internal CEL new design concepts for a positive working photoresist", Proc. SPIE(Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers) Santa Clara, 920, p134-141 (1988)

国内学会

212件

2016年

  • 河合 晃ほか:光散乱法による微小バブル/微粒子系のゼータ電位解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-8(2016)
  • 河合 晃ほか:マイクロチャネル/チューブ網における気泡トラップ解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-7(2016)
  • 河合 晃ほか:マイクロヒータ/チャネルの作製と応用、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-6(2016)
  • 河合 晃ほか:電子線照射/UV露光ハイブリッドリソグラフィによるレジストパターンの形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-4(2016)
  • 河合 晃ほか:リソグラフィ用レジスト材料の誘電分散特性、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-3(2016)
  • 河合 晃ほか:スピンコート法によるレジスト膜の自己組織化ネットワーク(SAN)構造の形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-2(2016)
  • 河合 晃ほか:溶存酸素抽出による液中動作型燃料電池の開発、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P13-8(2016)
  • 河合 晃ほか:コーン型マイクロチューブ内への ガス捕獲機能、第77回応用物理学会秋季学術講演会、13a-D61-5(2016)
  • 河合 晃ほか:C-V応答法によるMIS構造内レジスト膜へのTMAH現像液の浸透解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、13a-D61-4(2016)

2015年

  • 河合 晃ほか:Ta2O5薄膜をゲート酸化膜としたMOSキャパシタのTDDB評価、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、E13、P32(2015)
  • 河合 晃ほか:高分子膜内の自己組織化ナノスケール網目状構造の形成、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、A16、P33(2015)
  • 河合 晃ほか:電子線照射/UV露光リソグラ フィによるパターン高さ制御、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、A15、P32(2015)
  • 河合 晃ほか:フジツボ型液体透過性触覚センサデバイスの作製、平成27年度電子情報通信学会信越支部大会、講演論文集、P-17、P153(2015)

2013年

  • 河合 晃ほか:植物電位・電流シグナルにおける測定部位の検討、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、IV-11、P61(2013)
  • 河合 晃ほか:マイクロヒータ/チャネルデバイスの局所加熱特性、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、IV-09、P59(2013)
  • 河合 晃ほか:C-V測定を用いた誘電膜の特性評価、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-16、P18(2013)
  • 河合 晃ほか:紫外線照射による酸化チタン膜表面の活性化、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-15、P17(2013)
  • 河合 晃ほか:ポジ型およびネガ型フォトレジストの溶解度の差を用いたマイクロチューブの作製、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-14、P16(2013)
  • 河合 晃ほか:リソグラフィプロセスを用いた燃料電池用電解質のマイクロパターン形成、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-13、P15(2013)
  • Akira Kawai et al., Micro local heating system integrated with surround microfluidic channel, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 6PM3-PSS-128 (2013)
  • Akira Kawai et al., Fabrication of Micro Tube Array by Combining Positive with Negative Photoresist due to Solubility Difference in Developer, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 6PM3-PSS-116 (2013)
  • Akira Kawai et al., Bio-plant power collecting system by functional electrode, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム,5PM3-PSS-133 (2013)
  • Akira Kawai et al., Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) composed with Multilayer Structure, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 5PM3-PSS-119 (2013)
  • Akira Kawai et al., Surface energy analysis of TiO2 film activated by UV irradiation, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム,5PM3-PSS-115 (2013)

2012年

  • 河合 晃ほか:摩擦蓄電エネルギーの民生機器の実用化の検討、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-14、P78 (2012)
  • 河合 晃ほか:植物電位と表面温度の多点測定による緑葉植物の生育観察、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、II-13、P30 (2012)
  • 河合 晃ほか:SU-8フォトレジストの人工皮膚材料としての検討、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-02、P4 (2012)

2011年

  • 河合 晃ほか:緑葉植物の0~700mVの局所電位測定と解析、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-28 (2011)
  • 河合 晃ほか:メタノール水溶液中での高分子膜内の微小電流解析、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-27 (2011)
  • 河合 晃ほか:シート型直接メタノール燃料電池(DMFC)の外部荷重による発電基礎特性、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-22 (2011)
  • 河合 晃ほか:メタノール水溶液中でのワイヤー電極の電位検出、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、GS10-5 (2011)
  • 河合 晃ほか:X線光電子分光法(XPS)によるSi基板上のシランカップリング処理層の再生評価と制御、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、GS10-3、P1424 (2011)
  • 河合 晃ほか:植物内の細胞間電位の測定とモニタリング、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、PS2-1、P1561 (2011)

2010年

  • 河合 晃ほか:超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析、Mate2010、第16回 「エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術」シンポジウム (2010)
  • 河合 晃ほか:微小液滴の自由落下メカニズム解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-02、千葉 (2010)
  • 河合 晃ほか:PN接合アレイを用いた溶液の誘電特性解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-03、千葉 (2010)
  • 河合 晃ほか:超音波振動法によるレジストパターンの特性解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-17、千葉 (2010)
  • 河合 晃ほか:超音波による眼鏡フレームの共振解析、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-17、P56 (2010)
  • 河合 晃ほか:超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-04、P12 (2010)
  • 河合 晃ほか:固体上での落下液滴の付着性、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-03、P11 (2010)
  • 河合 晃ほか:微小液滴の自由落下メカニズム解析、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-02、P10 (2010)

2009年

  • 河合 晃ほか:Si異方性ウェットエッチングにおけるマスク欠陥の転写特性、第26回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B5-10、千葉 (2009)
  • 河合 晃ほか:レジスト膜の誘電分散特性、第26回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B5-11、千葉 (2009)

2008年

  • 河合 晃ほか:Bi2Sr2CaCu2Ox単結晶の希塩酸処理により創製されたBiOCl結晶の表面平滑性、平成20年度 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、2A-11、p37 (2008)
  • 河合 晃ほか:マスクシフト型異方性エッチングによるSi(100)面の真円加工、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p86 (2008)
  • 河合 晃ほか:バブル法による液中ガス溶解度解析、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p51 (2008)
  • 河合 晃ほか:アニール処理中のシリコン基板の表面酸化抑制、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p128 (2008)
  • 河合 晃ほか:静電容量測定による液体窒素の誘電率の周波数分散特性、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p90 (2008)
  • 河合 晃ほか:純水中のイオン電流測定による溶存酸素濃度モニタリング、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p129 (2008)
  • 河合 晃ほか:希塩酸処理法を用いたBi2Sr2CaCu2Ox固有接合作製プロセスの最適化、秋季第69回応用物理学会学術講演会、p227 (2008)
  • 河合 晃ほか:ファンデルワールス相互作用に基づくレジストパターンの非接触変形、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-05 (2008)
  • 河合 晃ほか:様々な表面エネルギーを有する基板上での微小深針の吸着特性、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-04 (2008)
  • 河合 晃ほか:金属/絶縁膜の複合基板上に作製したDFRマイクロ流路内の気泡流れ制御、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-03 (2008)
  • 河合 晃ほか:DFRを用いた微小チャンネルデバイス、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-02 (2008)
  • 河合 晃ほか:ウェットプラスト技術により作製された微細凹凸表面でのポリマー溶液の濡れ性制御、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-01 (2008)

2007年

  • 河合 晃ほか:局所電界印加法による基板上に付着した10.3μmφシリカ粒子の非接触除去、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P3 (2007)
  • 河合 晃ほか:20~200μm線幅のドライフィルムレジスト(DFR)パターン付着力の直接剥離測定法の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P199 (2007)
  • Akira Kawai et al.:Resist/Buffer/Substrate Systems as Stable MEMS Component ~Intermediate Layer detected by FT-IR/ATR Method~、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P119 (2007)
  • 河合 晃ほか:10.3μmφシリカ粒子表面への銅薄膜メッキ技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P100 (2007)
  • 河合 晃ほか:擬似欠陥マスクを用いたSi異方性エッチング形状異常の発生メカニズム、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P102 (2007)
  • 河合 晃ほか:自己振動プローブ機構を用いた地震振動スペクトルの新規検出システムの開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P8 (2007)
  • Akira Kawai et al.:New analysis method of peeling process of 100nm width ArF resist pattern by using AFM、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P118 (2007)
  • 河合 晃ほか:液中動作MEMSデバイス内の微細パターン構造の破壊抑制、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P103 (2007)
  • 河合 晃ほか:試作した縮小投影露光装置を用いた3μmルールリソグラフィー技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P415 (2007)
  • 河合 晃ほか:環境制御型走査電子顕微鏡(ESEM)を用いた直系10μm微粒子間のメニスカス操作による再配列技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P4 (2007)
  • 河合 晃ほか:シード層によるCuメッキ薄膜の成長促進メカニズム、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P101 (2007)
  • 河合 晃ほか:10nm以下の極近接領域で作用する固体の引力と変位解析、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P9 (2007)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)によるナノバブルの付着凝集解析、日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集、P20B、P39 (2007)
  • 河合 晃ほか:微小液滴の冷却過程とカプセル化、日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集、P49A、P37 (2007)

2006年

  • 河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)による微細レジストパターンの付着凝集解析、第55回高分子討論会予稿集、1H08, p3526, vol.55 (2006)
  • 河合 晃ほか:大気中および水中でのSi(100)表面の自然酸化膜の成長、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-4 、P 6 (2006)
  • 河合 晃ほか:低表面張力液体中におけるマイクロバブルの成長に起因した微細デバイス構造の破壊、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-14、P16 (2006)
  • 河合 晃ほか:電界制御による微細プローブの変位コントロール、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-10 、P12 (2006)
  • 河合 晃ほか:微小液滴の凍結コントロールに小液滴よる液体カプセルの作製、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-3 、P 5 (2006)
  • 河合 晃ほか:マイクロバブルの溶解挙動に基づく基板表面近傍での溶存ガス濃度の解析法、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-15、P17 (2006)
  • 河合 晃ほか:液滴の凍結により形成される特異形状の解析、春季第53回応用物理学関係連合講演会、25a-ZB-11, 講演予稿集、No.2 (2006)
  • 河合 晃:レジストパターン上での濡れ挙動解析、春季第53回応用物理学関係連合講演会、25a-ZB-11, 講演予稿集、No.2 (2006)
  • 河合 晃:レジスト膜上での微小液滴の乾燥過程解析、春季第53回応用物理学関係連合講演会、25a-ZB-10, 講演予稿集、No.2 (2006)

2005年

  • 河合 晃ほか:ピンニング力と毛管力とのハイブリッド制御による機能性流体制御システム、第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-10、P74、(2005)
  • 河合 晃ほか:直径50nm以下の液中ナノバブルの観察技術および付着安定性の確立、第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-04、P40、(2005)
  • 河合 晃ほか:微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集 (2005)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)による純水中の微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集 (2005)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(30)~レジストパターン配列に起因したリンス液の乾燥挙動~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-9, 講演予稿集、No.2, p838 (2005)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(29)~Tip indentation法によるレジストパターンの表面硬化層解析~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-10, 講演予稿集、No.2, p838 (2005)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(6)~原子間力顕微鏡(AFM)によるArFレジスト表面でのナノバブルの凝集制御~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-18, 講演予稿集、No.2, p841 (2005)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(5)~原子間力顕微鏡(AFM)によるSi上のナノバブルの基礎特性~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-17, 講演予稿集、No.2, p841 (2005)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(4)~原子間力顕微鏡(AFM)を用いたナノバブル観察法の基礎~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-16, 講演予稿集、No.2, p840 (2005)

2004年

  • 河合 晃ほか:微細レジストパターンの熱変形解析、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅲ-11、P55 (2004)
  • 河合 晃ほか:高分子膜上に付着する微小気泡、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-39、P119 (2004)
  • 河合 晃ほか:大気中動作マイクロマシンにおける吸着水の影響、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅲ-5、P49 (2004)
  • 河合 晃ほか:石英ガラス上における微小気泡の付着・脱離特性解析、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅲ-12、P56 (2004)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた高分子膜表面に働く相互作用引力の実測と解析、日本接着学会第42回年次大会、P42B、講演要旨集、p85 (2004)
  • 河合 晃ほか:高分子膜上での微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第42回年次大会、P41A、講演要旨集、p83 (2004)
  • 河合 晃:微細領域での接着解析技術の進歩、日本接着学会第42回年次大会、講演要旨集、p11 7(2004)
  • 河合 晃ほか:AFMを用いた帯電によるレジストパターンの変形・剥離解析、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-H-2, 講演予稿集、No.2, p1061 (2004)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(3)~レジスト表面の異物・欠陥への気泡の付着~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-11, 講演予稿集、No.2, p777 (2004)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(2)~石英レンズ表面の有機汚染の影響~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-10, 講演予稿集、No.2, p777 (2004)
  • 河合 晃ほか:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(1)~付着・脱離メカニズムの解析~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-9, 講演予稿集、No.2, p777 (2004)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(28)~3次元パターン内のメニスカス解析③~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、28a-T-6, 講演予稿集、No.2, p769 (2004)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(27)<個々の高分子集合体のヤング率測定>、春季第51回応用物理学関係連合講演会、28a-T-5, 講演予稿集、No.2, p768 (2004)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(26)~分子間力によるレジストパターン変形②(湿度依存性)~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、28a-T-4, 講演予稿集、No.2, p768 (2004)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(25)~分子間力によるレジストパターン変形①~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、28a-T-3, 講演予稿集、No.2, p768 (2004)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた固体表面の汚染・洗浄解析(2)<基板上異物の付着力の直接測定>春季第51回応用物理学関係連合講演会、31p-B-1, 講演予稿集、No.2, p856 (2004)

2003年

  • 河合 晃ほか:光学シミュレーションに基づく高アスペクト比のパターン形成、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-19、P80 (2003)
  • 河合 晃ほか:低表面張力液体による気泡除去方法のメカニズム解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-18、P79 (2003)
  • 河合 晃ほか:高分子集合体間の付着力に基づいたレジストパターンの凝集力解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅰ-12、P16 (2003)
  • 河合 晃ほか:電荷蓄積型メモリの検出感度と高集積化、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-17、P78 (2003)
  • 河合 晃ほか:Sn-Pb系及びPbフリーはんだバンプの剥離過程解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅰ-13、P17 (2003)
  • 河合 晃ほか:液体の乾燥速度と微細形状の関係、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ―16、P77 (2003)
  • 河合 晃ほか:レジストパターン中の10~50nmの空孔(vacancy)検出法、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-11、P91 (2003)
  • 河合 晃ほか:液体の乾燥過程における三次元パターン内でのメニスカス挙動解析(2)<液体表面張力の依存性>、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-59、P139 (2003)
  • 河合 晃ほか:液体の乾燥過程における三次元パターン内でのメニスカス挙動解析(1)<液体表面張力の依存性>、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-58、P138 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(24)<ナノメニスカスのAFM観察>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-15、講演予稿集、p636 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(23)<3次元パターン内のメニスカス解析②>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-14、講演予稿集、p636 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(22)<3次元パターン内のメニスカス解析①>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-13、講演予稿集、p636 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(21)<レジスト膜中の高分子集合体のVacancy>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-12、講演予稿集、p635 (2003)
  • 河合 晃ほか:断面SEM法によるはんだバンプの剥離過程解析、日本接着学会第41回年次大会、P23A、講演要旨集、p45 (2003)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)による分子間力解析に基づいたエポキシ系接着剤の接着性解析、日本接着学会第41回年次大会、P22B、講演要旨集、p43 (2003)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)によるラプラス力測定に基づいたナノ構造の破壊強度に関する考察、日本接着学会第41回年次大会、P21A、講演要旨集、p41 (2003)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)による高分子集合体のナノスケールでの凝集性解析、日本接着学会第41回年次大会、P20B、講演要旨集、p39 (2003)
  • 河合 晃ほか:角度制御型シェアモード剥離法によるはんだバンプの付着性解析、日本接着学会第41回年次大会、2-3、講演要旨集、p237 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(20)<高分子集合体のライン状への再配列>、第50回応用物理学関係連合講演会、29p-YK-8、講演予稿集、p775 (2003)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(19)<高分子集合体の細分化>、第50回応用物理学関係連合講演会、29p-YK-7、講演予稿集、p775 (2003)

2002年

  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡微細探針を用いた直径84~364nmドットレジストパターン付着・凝集性解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-16、予稿集、p81 (2002)
  • 河合 晃ほか:Cu/Al多層膜構造の破壊強度に及ぼすAl自然酸化膜の影響、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、P-15、予稿集、p98 (2002)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡による高分子集合体と基板間のファン・デル・ワールス相互作用解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-17、予稿集、p82 (2002)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(18)<パターン内の硬さ分布解析>、秋季第63回応用物理学会学術講演会、26a-N-8、講演予稿集、p629 (2002)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)の力曲線に基づく固体表面の汚染・洗浄解析、秋季第63回応用物理学会学術講演会、26p-E-8、講演予稿集、p704 (2002)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた高分子集合体の凝集・付着性解析、日本接着学会第40回年次大会、A07、講演要旨集、p143 (2002)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いたサブミクロンサイズのラインレジストパターン表面のインデンテイション解析、日本接着学会第40回年次大会、P24B,講演要旨集、p45 (2002)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた直径84~364nmの微小円柱型レジストパターンの弾性解析、日本接着学会第40回年次大会、P23A、講演要旨集、p43 (2002)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(17)<高分子集合体のマニピュレーション>、春季第49回応用物理学関係連合講演会、28a-YR-22、講演予稿集、p712 (2002)
  • 河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(16)<共振モードによるパターン剥離>、春季第49回応用物理学関係連合講演会、28a-YR-21、講演予稿集、p712 (2002)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(15)<純水中でのレジスト凝集性の低下>、春季第49回応用物理学関係連合講演会、28a-YR-20、講演予稿集、p711 (2002)

2001年

  • 河合 晃ほか:ATR測定による食品包装材の剥離後のSi表面解析、平成13年度応用物理学会北陸・信越支部学術講演会、講演予稿集、2E-3、p112 (2001)
  • 河合 晃ほか:マイクロデバイスにおける微小固体の強度設計、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-4、予稿集、p84 (2001)
  • 河合 晃ほか:極微小サイズにおける有機固体のヤング率の決定、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-3、予稿集、p83 (2001)
  • 河合 晃ほか:薄膜コート法による固体表面歪の簡易検出法、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-2、予稿集、p82 (2001)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(14)<ArF/SORレジストパターンのヤング率及び付着性>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-30, 講演予稿集、No.2, p540 (2001)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(13)<基板界面内での高分子集合体モデル>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-29, 講演予稿集、No.2, p540 (2001)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡を用いた局所帯電法による微粒子群の凝集性の制御、日本接着学会第39回年次大会、T01, 講演要旨集, p145-148 (2001)
  • 河合 晃ほか:カンチレバー方式による高感度センサーの開発、日本接着学会第39回年次大会、P51A, 講演要旨集, p101-102 (2001)
  • 河合 晃ほか:Cu/Al多層膜表面に発生した“しわ”による応力分布解析法、日本接着学会第39回年次大会、P38B, 講演要旨集, p75-76 (2001)
  • 河合 晃ほか:2枚の基板で挟まれた高分子膜に生じるViscous Finger変形と接着性の解析、日本接着学会第39回年次大会、P39A, 講演要旨集, p77-78 (2001)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上における微細レジストパターンの付着力解析、日本接着学会第39回年次大会、P41A, 講演要旨集, p81-82 (2001)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた170nmのレジストパターン破壊におけるクラックモデル解析、日本接着学会第39回年次大会、P40B, 講演要旨集, p79-80 (2001)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(12)<ラインパターンの破壊過程のクラックモデル解析>、春季第48回応用物理関係連合講演会、28p-ZD-3, 講演予稿集、No.2, p731 (2001)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(11)<疎水化Si基板上の微細パターンの付着力解析>、春季第48回応用物理関係連合講演会、28p-ZD-4, 講演予稿集、No.2, p731 (2001)
  • 河合 晃ほか:Cu/Al系多層膜表面に発生した「しわ」による面内応力分布解析法、春季第48回応用物理関係連合講演会、31a-ZM-5, 講演予稿集、No.2, p678 (2001)

2000年

  • 河合 晃ほか:線幅170nmのラインレジストパターンにおける破壊挙動解析、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-18、予稿集、p88 (2000)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上の微細パターンの破壊解析、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-19、予稿集、p89 (2000)
  • 河合 晃ほか:溶剤蒸発に伴うエポキシ接着層内の微小空隙形成、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、I-14、予稿集、p18 (2000)
  • 河合 晃ほか:HMDSソースを用いたプラズマ重合法によるナノメータギャップの作製、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p-15、予稿集、p107 (2000)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着挙動解析(10)~ArFレジストパターンの破壊特性~、秋季第61回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集4a-X-6、P594 (2000)
  • Akira Kawai:Cohesion and Adhesion of Micro Condensed Matter Analyzed with Atomic Force Microscope Tip、Workshop on the Meso-sized Materials and Devices (I), proceedings, P52 (2000)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡を用いたナノスケール固体の付着・凝集特性解析、第38回日本接着学会年次大会、予稿集2-12、P247 (2000)
  • 河合 晃ほか:交流インピーダンス法による接着層の特性解析、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-11-A、P21 (2000)
  • 河合 晃ほか:Cu基板/DFR/Niめっき液の3重点における界面エネルギーの平衡状態によるEaves形成モデルの確立、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-44-B、P87 (2000)
  • 河合 晃ほか:HMDSを用いたプラズマ重合法によるナノメータサイズのギャップ作製技術、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-62-B、P123 (2000)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)を用いた線幅100nm以下のラインレジストパターンの付着力解析、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-67-A、P133 (2000)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡を用いたマニピュレーション技術による微細レジストパターン形成、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-72-B、P143 (2000)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた有機微細ドットパターンの剥離特性解析、粘着研究会平成12年度研究発表会 (2000)
  • 河合 晃:微細レジストパターンの付着性及び微小液滴のぬれ性解析、FPD Expo Japan 2000 & セミコン関西2000、アカデミアプラザポスターセッション (2000)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるPSL微粒子群の凝集性解析、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28a-T-5、P180 (2000)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(8)<線幅60nmのラインパターンの剥離解析>、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集30a-A-6、P713 (2000)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針を用いたマニピュレーション法によるレジストパターンの形成、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28p-F-7、P693 (2000)

1999年

  • 河合 晃ほか:Al/Cu/レジスト多層膜の破壊特性解析、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-11、P57 (1999)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いた微細パターンの破壊解析、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-10、P55 (1999)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡の微細探針を用いた誘電体薄膜への局所帯電、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-9、P53 (1999)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるKrFエキシマレーザー用化学増幅型レジストの付着力解析法、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-97、P63 (1999)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの破壊メカニズムの解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-98、P69 (1999)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるポリスチレンテラックス(PSL)微粒子間の相互作用力解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-99、P75 (1999)
  • 河合 晃:AFM微細探針による微細パターンの付着力解析(8)~ラインパターンの強度分布解析~、秋季第60回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集1p-H-5、P581 (1999)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(7)<ドットパターン付着力の定量解析法>、秋季第60回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集1p-H-4、P581 (1999)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いた微細レジストマイクロパターンの直接剥離(3)、創立35周年記念、日本接着学会第37回年次大会、予稿集P-46-B、P169 (1999)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水及び親水処理後の固体表面のvan der Waals相互作用解析、創立35周年記念、日本接着学会第37回年次大会、予稿集P-10-B、P97 (1999)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(6)<KrFレジストパターンのヤング率測定>、春季第46回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YB-1、P747 (1999)
  • 河合 晃:ミクロンサイズの加工基板表面での液体のぬれ挙動(2)~複合基板表面での接触角~、春季第46回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28a-ZT-10、P836 (1999)

1998年

  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(5)<L字パターンの剥離強度>、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集15a-K-1、P584 (1998)
  • 河合 晃ほか:AFM探針と基板間のメニスカス形状解析:AFM陽極酸化法によるアプローチ、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集18a-W-3、P531 (1998)
  • 河合 晃ほか:ミクロンサイズの幾何学的凹凸表面での液滴の濡れ挙動、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28p-PC-10、P788 (1998)
  • 河合 晃ほか:AFMを使用したPSL粒子の付着力の解析、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28p-PB-9、P780 (1998)
  • 河合 晃ほか:基板間の高分子膜に生じる粘性指状変形と接着性、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YM-9、P904 (1998)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(4)<微細パターンのヤング率測定>、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YL-1、P715 (1998)
  • 河合 晃ほか:AFMによる探針と固体表面間のHamaker定数の解析、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28a-YH-7、P528 (1998)
  • 河合 晃:10nm以下のAu薄膜の成長挙動と接触角変化、第36回日本接着学会年次大会、予稿集P-11-A、P127 (1998)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)微細探針を用いたレジストマイクロパターンの直接剥離(2)、第36回日本接着学会年次大会、予稿集P-12-B、P129 (1998)
  • 河合 晃ほか:AFMによるHMDS処理した基板表面のvan der Waals力解析、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集15a-K-2、P585 (1998)

1997年

  • 河合 晃:ミクロンサイズの幾何学的凹凸表面上での液滴の濡れ挙動、日本表面科学会、第17回表面科学講演大会、予稿集P05、P61 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるマイクロレジストパターンの直接剥離及び接着挙動解析、日本表面科学会、第17回表面科学講演大会、予稿集2B03(S)、P92 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM探針とPSL(直径42nm~1μm)凝集体間の付着力に及ぼす粒子変形の影響、日本表面科学会、第17回表面科学講演大会、予稿集2B02(S)、P91 (1997)
  • 河合 晃ほか:有限要素法により解析した微粒子の剥離挙動、第18回計算電気・電子工学シンポジウム、予稿集1-Ⅱ-14、P119 (1997)
  • 河合 晃ほか:インピーダンス法により解析した接着層の粘性指状変形、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅳ-12、P107 (1997)
  • 河合 晃ほか:微細カンチレバーを用いた微細レジストパターンの接着力解析、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅳ-13、P109 (1997)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)探針と有機微粒子間のvan der Waals(双極子間相互作用)力の解析、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅱ-11、P53 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(3)<溶液浸漬中での剥離>、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集3a-SC-19、P648 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接剥離(2)<ベーク温度依存性>、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集3a-SC-18、P648 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM探針を用いたPSL粒子の凝集挙動の解析、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集4p-E-17、P843 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFMによるPSL粒子とTip間の摩擦挙動解析、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集3p-ZT-4、P520 (1997)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡を用いた数十nmの異物の洗浄解析、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集5a-D-12、P873 (1997)
  • 河合 晃ほか:機能水における表面自由エネルギー成分の評価(2)、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集5p-D-11、P873 (1997)
  • 河合 晃ほか:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いたレジストマイクロパターンの直接剥離、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-14-A、P89 (1997)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)によるフォトレジスト膜表面の摩擦挙動解析、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-13-A、P87 (1997)
  • 河合 晃ほか:原子間力顕微鏡を用いた微粒子の付着挙動解析(フォースカーブによる局所解析)、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-12-B、P85 (1997)
  • 河合 晃ほか:インピーダンス法によるフォトレジスト膜内の樹脂状空隙パターンの成長挙動解析、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-15-A、P91 (1997)
  • 河合 晃ほか:機能水中における基板上のPSLの剥離挙動解析、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-7-A、P75 (1997)
  • 河合 晃ほか:Nb陽極酸化プロセスによるS-c-Sデバイスの作製と特性評価、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.1、予稿集28a-SL-21、P107 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM微細探針によるレジストパターンの直接剥離、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-V-13、P576 (1997)
  • 河合 晃ほか:機能水における表面自由エネルギー成分の評価、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集30p-D-13、P777 (1997)
  • 河合 晃ほか:Cu/WBL/Al多層膜構造の破断面解析、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29a-ZM-6、P459 (1997)
  • 河合 晃ほか:AFM探針の付着力と表面エネルギー成分(極性、分散)との相関、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集30a-PB-9、P517 (1997)

1996年

  • 河合 晃ほか:固体表面での微小液滴群の成長・消滅過程、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-40-B、P167 (1996)
  • 河合 晃:大気中での接触角測定より求めた遷移金属薄膜の表面自由エネルギーの分散および極性成分、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-42-B、P171 (1996)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)により測定したフォトレジスト薄膜の熱特性、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-41-A、P169 (1996)
  • 河合 晃ほか:ミクロンサイズの幾何学的凹凸表面上での液滴の濡れ挙動、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-32-B、P151 (1996)
  • 河合 晃ほか:AFM測定時の像シフトによるフォトレジスト表面の摩擦特性解析、春季第43回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29a-Q-11、P516 (1996)

1995年

  • 河合 晃:接触角法により測定した遷移金属薄膜の表面自由エネルギーの分極及び極性成分、日本表面科学会、第15回表面科学講演大会、予稿集1B08、P37 (1995) 
  • 河合 晃:レジスト膜上のスピンオンガラス膜に発生する微細亀裂、日本セラミック協会東北北海道支部研究発表会、第15回基礎科学部会東北北海道地区懇話会、予稿集P-34、P104 (1995)
  • 河合 晃ほか:ハイブリットプラズマCVD法により堆積したSiN-BN膜の表面自由エネルギー、秋季第56回応用物理学会学術講演会No.2、予稿集29p-ZH-3、Pz477 (1995)
  • 河合 晃:原子間力顕微鏡により検出した薄膜の表面自由エネルギーと接着力予測、第33回日本接着学会年次大会、予稿集P-B-8、P143 (1995)
  • 河合 晃:光リソグラフィーで作製した幾何学的凹凸表面での液体のぬれ挙動、第33回日本接着学会年次大会、予稿集P-A-8、P91 (1995)

著書

監修1冊・単著4冊・共著29冊

監修

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

執筆箇所
:第I編 第1章 リソグラフィープロセス概論(P1~11)、第III編 第1章 最適化のための技術概論(P105~115)、第III編 第3章 多層レジストプロセス(P124~131)、第III編 第6章 フォトレジストプロセスに起因した欠陥(P175~185)、第IV編 第4章 ナノスケール寸法計測(プローブ顕微鏡)(P241~248)、第IV編 第5章 付着凝集性解析(DPAT法)による特性評価(P249~259)、第VI編 第2章 密着強化処理(シランカップリング処理)の最適化技術(P303~312)
出版
:シーエムシー出版 2017年
総ページ数
:320ページ
ISBN
:978-4-7813-1263-7

単著

レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決

レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決

出版
:R&D支援センター 2018年
総ページ数
:185ページ
ISBN
:978-4-905507-25-3

欠陥を出さない!良い塗布膜を得るためのコントロール技術

一発必中シリーズ「欠陥を出さない!良い塗布膜を得るためのコントロール技術」

出版
:サイエンス&テクノロジー 2012年
総ページ数
:197ページ
ISBN
:978-4-86428-046-4

現場で応用できるコーティングの理論と現象

現場で応用できるコーティングの理論と現象 -トラブルをメカニズムから考える-

出版
:加工技術研究会 2012年
総ページ数
:184ページ
ISBN
:978-4906451449

塗膜・レジスト膜の乾燥・付着技術とトラブル対策

塗膜・レジスト膜の乾燥・付着技術とトラブル対策

出版
:情報機構 2011年
総ページ数
:196ページ
ISBN
:978-4-904080-75-7

共著

プリント配線板材料の開発と実装技術

プリント配線板材料の開発と実装技術

執筆箇所
:第12章 第2節 レジストプロセスの最適化とトラブル対策(P.542~554)
出版
:技術情報協会 2020年
総ページ数
:713ページ
ISBN
:978-4-86104-787-9

高分子の残留応力対策

高分子の残留応力対策

執筆箇所
:第8章 第3節 塗膜の内部応力による欠陥現象とその対策(P403~420)
出版
:技術情報協会 2017年
総ページ数
:480ページ
ISBN
:978-4-86104-648-3

シランカップリング剤の使いこなし ノウハウ集

シランカップリング剤の使いこなし ノウハウ集

執筆箇所
:第8章 第7節 レジストにおけるシランカップリング剤処理装置の構成,最適化と剥離トラブル対策(P304~316)
出版
:技術情報協会 2016年
総ページ数
:384ページ
ISBN
:978-4-86104-610-0

最新高機能コーティングの技術・材料・評価

最新高機能コーティングの技術・材料・評価

執筆箇所
:第4編 第2章 コーティング膜の凝集コントロールと評価(P194~206)
出版
:シーエムシー出版 2015年
総ページ数
:233ページ
ISBN
:978-4-7813-1098-5

高分子における劣化・破壊現象の写真・データ事例集<

高分子における劣化・破壊現象の写真・データ事例集

執筆箇所
:第14章 第6節 塗膜の乾燥不良事例 ~クラック、密着不良~(P449~516)
出版
:技術情報協会 2014年
総ページ数
:729ページ
ISBN
:978-4-86104-496-0

気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術

気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術

執筆箇所
:第1章 第2節 塗るときなぜ気泡が発生するのか?(P7~17)
出版
:技術情報協 2014年
総ページ数
:554ページ
ISBN
:978-4-86104-502-8

薄膜塗布技術と乾燥トラブル対策

薄膜塗布技術と乾燥トラブル対策

執筆箇所
:第8章 第8節 超臨界乾燥(P528~533)、第10章 第6節 レべリング性と乾燥速度の両立(P641~647)、第10章 第11節 さらに高品位な膜を作るためのテクニック(P670~676)
出版
:技術情報協会 2013年
総ページ数
:825ページ
ISBN
:978-4-86104-490-8

シランカップリング剤の効果と使用法

シランカップリング剤の効果と使用法

執筆箇所
:第7章 第6節 レジストにおけるシランカップリング剤の効果と使用方法および処理装置(P256~258)
出版
:S&T出版 2012年
総ページ数
:395ページ
ISBN
:978-4-907002-07-7

粒子分散系塗布膜を中心にした高粘度スラリーの調液・塗布・乾燥技術

粒子分散系塗布膜を中心にした高粘度スラリーの調液・塗布・乾燥技術

執筆箇所
:第2章 第1節 乾燥膜におけるトラブルを防ぐために抑えておく乾燥理論(P79~89)、第2章 第5節 各種乾燥プロセスにおける装置選定技術(P134~144)、第2章 第6節 乾燥プロセスにおけるトラブル原因・対策(P145~161)
出版
:技術情報協会 2011年
総ページ数
:336ページ
ISBN
:978-4-86104-363-5

バインダー(結着剤)の失敗しない選び方・使い方事例集

バインダー(結着剤)の失敗しない選び方・使い方事例集

執筆箇所
:第6節 乾燥時のバインダー使用の留意点と条件設定、第7節 バインダー乾燥・焼成装置の機構と条件設定、第8節 バインダー乾燥・焼成後のトラブル事例および対策(P149~182)
出版
:技術情報協会 2011年
総ページ数
:262ページ
ISBN
:978-4-86104-381-9

レジストプロセスの最適化テクニック~微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術~

レジストプロセスの最適化テクニック ~微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術~

執筆箇所
:第8章第1節第4-8項 (P294~333)、第2節第1項 (P334~P351)
出版
:情報機構 2011年
総ページ数
:557ページ
ISBN
:978-4-904080-90-0

挑戦こそが成功の鍵

挑戦こそが成功の鍵

執筆箇所
:第1章 なぜコンピュータは速くなり続けるのか?(P51~56)
出版
:近代科学社 2010年
総ページ数
:263ページ
ISBN
:978-4-764950-21-4

コーティング材料のコントロールと添加剤の活用

コーティング材料のコントロールと添加剤の活用

執筆箇所
:第2章 第6節 電子材料のコーティングにおける添加剤の活用(P84~101)
出版
:サイエンス&テクノロジー 2010年
総ページ数
:329ページ
ISBN
:978-4-903413-82-2

剥離対策と接着・密着性の向上

剥離対策と接着・密着性の向上

執筆箇所
:第3節 レジスト膜における付着・剥離コントロール(P267~289)
出版
:サイエンス&テクノロジー 2010年
総ページ数
:436ページ
ISBN
:978-4-903413-89-1

シランカップリング剤の反応メカニズムと処理条件の最適化

シランカップリング剤の反応メカニズムと処理条件の最適化

執筆箇所
:第4章 シランカップリング処理における処理装置構成と処理プロセスの最適化(P67~76)
出版
:技術情報協会 2010年
総ページ数
:321ページ
ISBN
:978-4-86104-307-9

インクジェット技術における微小液滴の吐出・衝突・乾燥

インクジェット技術における微小液滴の吐出・衝突・乾燥

執筆箇所
:第3章 第2節 [1] 固体表面のシランカップリング剤処理とぬれ性評価(P376~388)
出版
:技術情報協会 2009年
総ページ数
:415ページ
ISBN
:978-4-86104-291-1

プリンタブル・エレクトロニクス 技術開発 最前線 ~材料開発・応用技術編~

プリンタブル・エレクトロニクス 技術開発 最前線 ~材料開発・応用技術編~

執筆箇所
:第1章 第3節 微小液滴の基礎物性とその制御(P21~30)
出版
:技術情報協会 2008年
総ページ数
:294ページ
ISBN
:978-4-86104-209-6

薄膜の機械的物性と不良対策・高品質化

薄膜の機械的物性と不良対策・高品質化

執筆箇所
:第4章 第14節 フォトレジスト薄膜の特性と不良対策(P254~271)
出版
:サイエンス&テクノロジー 2008年
総ページ数
:328ページ
ISBN
:978-4-903413-42-6

接着強度試験法および接着界面の解析・評価事例

接着強度試験法および接着界面の解析・評価事例

執筆箇所
:第2章 第1節 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた接着層解析(P49~71)
出版
:情報機構 2007年
総ページ数
:242ページ
ISBN
:978-4-901677-93-6

泡コントロールと消泡・脱泡事例集

泡コントロールと消泡・脱泡事例集

執筆箇所
:第17節 レジストパターン上の気泡除去(P242~250)
出版
:技術情報協会 2007年
総ページ数
:260ページ
ISBN
:978-4-86104-188-4

インクジェットプリンターの応用と材料Ⅱ

インクジェットプリンターの応用と材料Ⅱ

執筆箇所
:第2章 インクジェットインク・微小液滴の基礎物性(P12~23)
出版
:シーエムシー出版 2007年
総ページ数
:277ページ
ISBN
:978-4-88231-966-5

表面・深さ方向の分析方法

表面・深さ方向の分析方法

執筆箇所
:第3章 第14節 レジスト(P365~378)
出版
:サイエンス&テクノロジー 2007年
総ページ数
:618ページ
ISBN
:978-4-903413-30-3

新しい分散・乳化の科学と応用技術の新展

新しい分散・乳化の科学と応用技術の新展開

執筆箇所
:第3章 第9節 2.接着界面でのミクロな粘性指状変形と接着性(P572~583)
出版
:テクノシステム 2006年
総ページ数
:1003ページ
ISBN
:978-4-924728-50-0

乾燥大全集

乾燥大全集

執筆箇所
:第13章 第3節 レジストの乾燥過程の解析(P363~380)
出版
:情報機構 2006年
総ページ数
:522ページ
ISBN
:978-4-901677-60-8

半導体・液晶ディスプレイ フォトリソグラフィ技術ハンドブック

半導体・液晶ディスプレイ フォトリソグラフィ技術ハンドブック

執筆箇所
:第2編 第1章 第2節 下地基板とレジストとの親和性(P35~40)
出版
:リアライズ社 2006年
総ページ数
:587ページ
ISBN
:978-4-89808-069-3

接着剤の設計と接着製品の信頼性を重視した粘着技術の3A

接着剤の設計と接着製品の信頼性を重視した粘着技術の3A

執筆箇所
:第2章 3.AFMによる接着挙動の解析(P82~90)
出版
:リアライズAT 2006年
総ページ数
:347ページ
ISBN
:978-4-89808-077-4

最新レジスト材料ハンドブック

最新レジスト材料ハンドブック

執筆箇所
:第6節 レジスト膜の機械的性質の分析.評価(P208~222)
出版
:情報機構 2005年
総ページ数
:315ページ
ISBN
:978-4-901677-45-4

表面・界面工学大系(下巻)応用編

表面・界面工学大系(下巻)応用編

執筆箇所
:第8章 第5節 接着研究の最先端(P160~173)
出版
:テクノシステム 2005年
総ページ数
:1393ページ
ISBN
:978-4-924728-49-7

超LSI技術14 デバイスとプロセス その4

超LSI技術14 デバイスとプロセス その4

執筆箇所
:9.高解像フォトレジストプロセス(P275~311)
出版
:工業調査会発行 1990年
総ページ数
:354ページ
ISBN
:978-4-7693-1083-8

解説

71件

  • Questions And Answers Regarding Problems With Coating, Closing Session、CONVERTECH INTERNATIONAL September / October 2018、vol.3, No.1, p102-104 (2018)
  • Analysis Technology, Chapter 5, Session 1、CONVERTECH INTERNATIONAL July / August 2018、vol.2, No.6, p80-85 (2018)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 4 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL March / April 2018、vol.2, No.4, p110-112 (2018)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 4 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL January / February 2018、vol.2, No.3, p126-128 (2018)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 3 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL November / December 2017、vol.2, No.2, p84-87 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 2 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL September / October 2017、vol.2, No.1, p73-77 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 4, Session 1 Nanotechnology and Coating、CONVERTECH INTERNATIONAL July / August 2017、vol.1, No.6, p102-104 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 6 Adhesion Mechanism and Interface Part5 and Part6、CONVERTECH INTERNATIONAL May / June 2017、vol.1, No.5, p112-116 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 5 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Mar / Apr 2017、vol.1, No.4, p96-99 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 4 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Jan / Feb 2017、vol.1, No.3, p119-121 (2017)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 3 Adhesion Mechanism and Interface Part4、CONVERTECH INTERNATIONAL Nov / Dec 2016、vol.1, No.2, p82-85 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 2 Adhesion Mechanism and Interface Part2 and Part3、CONVERTECH INTERNATIONAL Sep / Oct 2016、vol.1, No.1, p112-116 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3, Session 1 Adhesion Mechanism and Interface Part1、CONVERTECH & e-Print July / August 2016、vol.6, No.4, p57-61 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 6 Drying Defects Part2、CONVERTECH & e-Print May / June 2016、vol.6, No.3, p110-115 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 5 Drying Defects Part1、CONVERTECH & e-Print March / April 2016、vol.6, No.2, p88-94 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 4 Drying Equipment、CONVERTECH & e-Print January / February 2016、vol.6, No.1, p104-108 (2016)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 3 Coating Film Stress、CONVERTECH & e-Print November / December 2015、vol.5, No.6, p80-85 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 2 Coating Film Property Control Via Heat Treatment、CONVERTECH & e-Print September / October 2015、vol.5, No.5, p58-65 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 2, Session 1 Coating Drying: Drying Mechanism and Control、CONVERTECH & e-Print July / August 2015、vol.5, No.4, p90-94 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 4 Coating Fundamentals: Wetting Problem Causes and Solutions、CONVERTECH & e-Print May / June 2015、vol.5, No.3, p18-24 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 3 Coating Fundamentals: Hydrophobing Treatment、CONVERTECH & e-Print March / April 2015、vol.5, No.2, p96-102 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 2 Coating Fundamentals: Surface Energy、CONVERTECH & e-Print January / February 2015、vol.5, No.1, p90-95 (2015)
  • Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 1, Session 1 Coating Fundamentals: Wetting、CONVERTECH & e-Print November / December 2014、vol.4, No.6, p20-24 (2014)
  • 接着の物理XIV 原子間力顕微鏡力顕微鏡(AFM)を用いた微小構造体の付着凝集性解析、日本接着学会誌、vol.48, No.1, p36-46 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第1回 濡れの接触角の本質とは?、月刊マテリアルステージ、8月号、vol.11,No.5, 70-72 (2011)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第2回 液滴で素材の表面積と面積割合を測りませんか?、月刊マテリアルステージ、9月号、vol.11,No.6, 77-78 (2011)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第3回 マテリアルの表面エネルギー、月刊マテリアルステージ、10月号、vol.11,No.7, 63-64 (2011)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第4回 塗膜乾燥時の滞留制御 ~ウォータマークと乾燥むら~、月刊マテリアルステージ、11月号、vol.11,No.8, 67-68 (2011)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第5回 膜表面の薄皮 ~ナノ硬化層~、月刊マテリアルステージ、11月号、vol.12,No.9, 66-67 (2011)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第6回 界面のピンホール ~VF(viscous finger)変形~、月刊マテリアルステージ、1月号、vol.11,No.10, 69-70 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第7回 凝集した微粒子の性質(1)~粒子サイズと破壊特性~、月刊マテリアルステージ、2月号、vol.11,No.11, 69-71 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第8回 凝集した微粒子の性質(その2)~粒子サイズと分散特性~、月刊マテリアルステージ、3月号、vol.11,No.12, 79-80 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第9回 屈折率による材料評価(その1)~浸透・膨潤~、月刊マテリアルステージ、4月号、vol.12,No.1, 61-62 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第10回 屈折率による材料評価(その2)~フィードバック回路~、月刊マテリアルステージ、5月号、vol.12,No.2, 81-83 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、第11回 全応力マッチングによる多層膜設計、月刊マテリアルステージ、6月号、vol.12,No.3, 66-67 (2012)
  • マテリアルを上手に使うために必要なこと、最終回 高品位なプラズマCVD膜形成について、月刊マテリアルステージ、4月号、vol.12,No.4, 69-71 (2012)
  • 塗工液の液物性コントロールとトラブル対策、塗装工学、vol.46, No.7, p 225-237 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-1 濡れの基礎理論、コンバーテック、6月号、No.447, p41-45 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-2 表面エネルギーの制御・応用、コンバーテック、7月号、No.448, p44-49 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-3 シランカップリング処理の活用方法、コンバーテック、8月号、No.449, p38-43 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-4 濡れトラブルの原因・対策、コンバーテック、9月号、No.450, p62-68 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-5 塗膜の乾燥メカニズムと制御、コンバーテック、10月号、No.451, p44-48 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-6 乾燥装置の貴校と性能、コンバーテック、11月号、No.452, p39-44 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-7 乾燥トラブルの原因・対策、コンバーテック、12月号、No.453, p31-39 (2010)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-8 接着の原理と基礎理論、コンバーテック、1月号、No.454, p44-48 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-9 塗膜の熱処理による膜質制御、コンバーテック、2月号、No.455, p38-43 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-10 塗膜内応力分布と制御技術、コンバーテック、3月号、No.456, p30-35 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-11 微細加工パターンの付着性解析、コンバーテック、4月号、No.457, p52-58 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-12 ナノ粒子・ナノ気泡・ナノ液滴の解析技術、コンバーテック、5月号、No.458, p48-54 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-13 プラズマCVDによる有機薄膜コーティング、コンバーテック、6月号、No.459, p40-43 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-14 MEMSにおける薄膜技術、コンバーテック、7月号、No.460, p48-50 (2011)
  • コーティング技術の理論と現象、Part-15 コーティングにおける信頼性解析技術、コンバーテック、8月号、No.461, p30-32 (2011)
  • 「微小気泡の吸着・脱離制御に基づく機能性デバイスの開発」、マテリアルインテグレーション、特集:長岡技術科学大学、4-5月号、p48-53 (2010)
  • 「走査型プローブ顕微鏡(SPM)のデバイスプロセス評価への有効利用」、SEMI News、vol.3-4, 34-35 (2007)
  • 「走査型プローブ顕微鏡(SPM)によるデバイスプロセス評価」、産学連携シーズ&ニーズ、新潟県電子機械工業会、NEIAニュース、第242号、No.1 (2007)
  • “Nanoscale characterization in resist processing by using atomic force microscope”J. Photopolymer Science and Technology, 18(6), 729-736 (2005)
  • 「原子間力顕微鏡(AFM)による接着層の表面・界面分析」、接着の技術、vol.24, N0.4, 7-11 (2005)
  • 「原子間力顕微鏡(AFM)による微細高分子パターンの付着・凝集性解析」、接着、高分子刊行会、vol49, 10, 439-445 (2005)
  • 「液浸リソグラフィーにおけるナノスケールバブルの制御」, O plus E, vol.27, No.7, 764-767 (2005)
  • 「微小固体の接着・硬化・表面特性のナノスケール解析」日本接着学会誌、vol.40 p512-514 (2004)
  • 「微細領域での接着解析技術の進歩」日本接着学会誌、vol.40、No.12, 592-594 (2004)
  • 原子間力顕微鏡による微小固体の付着・凝集解析、接着の技術、vol.23, p1-5、(2003)
  • 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細加工パターンの接着性解析、日本接着学会誌、総説、vol.38, p465-470 (2002)
  • 「原子間力顕微鏡による微小凝集体の付着力解析」、接着、44巻9号、p16-25 (2000)
  • 「原子間力顕微鏡による表面特性の解析」、日本接着学会誌、総説、Vol.36.No.2,p77-86 (2000)
  • 「AFMによる微粒子の付着凝集挙動解析について」、超音波TECHNO、<特集:次世代の洗浄技術>、vol.11, No.6, p12-17 (1999)
  • 「機能水中における基板上のPSLの剥離挙動解析」、島田理化技報、No.9, p16-19 (1997)
  • 「原子間力顕微鏡による表面特性の解析」、日本接着学会誌、総説、Vol.33.No.3,p103-111 (1997)
  • 「長岡技術科学大学 工学部電気系 河合研究室 ~微細加工と接着~」、日本接着学会誌、<研究室紹介>、Vol.32. No.1, p37-38 (1996)
  • 「大粒の涙」、バウンダリー、特集、vol.10, No.1, p2-5 (1994)
  • 「超微細加工プロセス技術」、三菱電機技報、vol. 63, p109-111 (1989)

TV取材・新聞発表

6件

接着剤新聞 掲載

掲載日:H29.11.1

接着剤新聞に、当社代表 河合が講師を務めた講座ついて掲載されました。
H29.10.13に日本接着学会関東支部が、東京工業大学で開催した第2回若手交流会「接着における表面界面・ぬれ」勉強会にて、"ぬれ制御の実際(実務上の取組み)"と題して講演を行いました。

接着剤新聞 掲載

掲載日:H29.8.20

接着剤新聞に、代表取締役 河合が講師を務めた講座ついて掲載されました。
H29.7.21に日本接着学会関東支部が、東京工業大学で開催した第1回若手交流会「接着における表面界面・ぬれ」勉強会にて、"ぬれ性入門"と題して講演を行いました。

長岡ケーブルテレビ(テクノ探検隊)

取材日:H25.2.2

テクノ探検隊

テクノ探険隊は、長岡技術科学大学とエヌ・シィ・ティ(旧 長岡ケーブルテレビ)との共同企画番組です。長岡技術科学大学の最先端技術に隠された謎を解くために結成されたテクノ探検隊の小学生たちが長岡技術科学大学に潜入する内容です。
河合研究室では、長岡地域の小学生を対象に、大学内のクリーンルームについて探検し、様々な発見を通して科学へ親しんでもらうことを目的に番組を作製しました。
平成25年3月12日に放映されました。

(キャッチフレーズ)
「そうじ」しなくてもいい教室が、大学にあるよ。
いつもは気づかない身近なミクロの世界
見て!触れて!作って!発見しよう!

テレビ取材(SOS危機一髪)

取材日:H15.4.18

SOS危機一髪

フジテレビのTV番組(SOS危機一髪)に、帯電した衣服の除電法について取材協力しました。
衣服・下敷き等を摩擦により帯電させ、水蒸気(息)を当て除電しました。

最終的に放映はされませんでしたが、意外な方法で除電できることを示しました。

NHK取材(科学大好き土曜塾)

取材日:H14.5.28

科学大好き土曜塾

NHKの教育番組(科学大好き土曜塾)に対し、接着剤の接着メカニズムについて取材協力しました。
木材・プラスチックなどを接着させ、その接着面の観察を行い、接着剤と各種試料の関係(アンカー効果)からそれぞれの接着性を示しました。

平成14年6月8日に放映されました。

NHK取材(ためしてガッテン)

取材日:H14.4.2

ためしてガッテン

NHKの一般番組(ためしてガッテン)の取材があり、接着剤の接着メカニズムで重要である表面解析について撮影しました。
河合研究室の接触角計を用いて、物質表面の洗浄度や汚染度について示しました。

平成14年5月15日に放映されました。

学会講演

27件

2017年

  • 河合、高機能デバイスのキーテクノロジー~3D-MEMS~、精密工学会知的ナノ計測専門委員会、長岡技術科学大学 機械建設棟
  • 河合、「接着における表面界面・ぬれ」勉強会 第1回、日本接着学会関東支部若手交流会、東京工業大学 大岡山キャンパス
  • 河合、第27回 MEMS講習会「MEMS技術を利用した地域活性化:新潟でMEMSが何をもたらすか」、一般財団法人マイクロマシンセンター、まちなかキャンパス長岡

2016年

  • 河合、振動測定システムや電子素子の原理と利用、新潟県高等学校教育研究会理科部会、理科研究集録 第55号(2016)、P37-42

2015年

  • 河合、振動測定システムや電子素子の原理と利用、新潟県高等学校教育研究会理科部会 物理教育研究会、長岡高校
  • 河合、振動を感じる ~地震計からスマホまで~、平成27年度長岡技術科学大学公開講座 第5回、さいわいプラザ

2007年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細領域の接着性解析、社団法人日本ゴム協会 第59回接着研究分科会、東京大学 駒場キャンパス

2006年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)による接着層の表面・界面分析2、日本接着学会
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)による接着層の表面・界面分析1、日本接着学会

2005年

  • 河合、AFMによる微細レジストパターンと純水間に働く相互作用の微視的解析、光リソグラフィーの延命化とレジスト材料、高分子学会

2004年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)によるナノ有機固体の加工およびマニピュレーション技術、国際バイオEXPO 04

2002年

  • 河合、原子間力顕微鏡を用いた固体表面の制御技術、(社)大阪工研協会、講演要旨集、p32-43

2001年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細レジストパターンおよび微粒子の付着・凝集挙動解析、(社)新化学発展協会、電子情報部会講演会、化学会館(東京)、講演会資料
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)による高分子微小固体の付着・凝集制御、日本接着学会粘着研究会第65回月例講演会、東京大学、予稿集、p3-5
  • 河合、微細有機パターンの付着・凝集挙動、(社)高分子学会 接着と塗装研究会、化学会館(東京)、講演予稿集、p7-12

2000年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた有機微細ドットパターンの剥離特性解析、日本接着学会粘着研究会、平成12年度研究発表会、関西大学、講演資料p28-33
  • 河合、AFMを用いた微細有機パターンの付着・凝集解析、日本接着学会関西支部関西ハイブリッド研究会、関西大学

1999年

  • 河合、微粒子の構造、応用、今後について、(財)信濃川テクノポリス開発機構、新技術利用研究会(ハイテック・セミナー)
  • 河合、原子間力顕微鏡による表面の評価、(社)色材協会、塗料物性研究会
  • 河合、レジスト材料の接着と機械強度、(社)日本工業技術振興協会、放射光の半導体への応用技術研究委員会

1997年

  • 河合、界面でのファンデルワールス相互作用の解析と制御について、~接触角からAFMまで~、日本接着学会粘着研究会題46回例会
  • 河合、原子間力顕微鏡を用いた高分子表面の特性解析、(社)日本ゴム協会、関西支部
  • 河合、原子間力顕微鏡AFMを用いた薄膜の表面および付着力解析、日本接着学会関東支部構造接着委員会、第5回委員会資料、p81

1995年

  • 河合、薄膜形成と表面自由エネルギー、LCDインターナショナル95、テクニカルセッション

1994年

  • 河合ほか、香川県先端技術工業展テクノフォーラム、原子間力顕微鏡(AFM)による無機基板の表面力検出と接着挙動

1993年

  • 河合、LSI用マイクロリソグラフィーにおける接着技術、誘電体研究委員会、(社)日本工業技術振興協会

1991年

  • 河合、ポジ型レジストの基板密着性について、光およびX線リソグラフィー技術動向、超微細加工光応用技術調査専門委員会、電気学会

依頼セミナー

172件

2020年

  • 河合、レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策、R&D支援センター
  • 河合、塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策
  • 河合、5G対応のプリント基板技術と要求される材料、シーエムシー・リサーチ
  • 河合、プリント基板実装・マイクロ接合・はんだ接合における不良防止技術、日本テクノセンター
  • 河合、塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ、情報機構
  • 河合、製造・生産・開発プロセスにおけるクリーン化技術の要点とノウハウ ~異物・欠陥対策と付着除去・管理・計測方法~、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、フォトレジスト材料の特性とリソグラフィプロセスの最適化およびトラブル対策、シーエムシー出版

2019年

  • 河合、高周波対応プリント基板,ソルダーレジストの材料,プロセス技術、技術情報協会
  • 河合、レジスト材料/プロセス/装置の有効な評価法とトラブル対策、情報機構
  • 河合、レジスト材料・プロセス・装置の最適化ノウハウとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、レジストの材料・プロセス・装置の総合知識、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト・リソグラフィ技術の基礎と不良防止・トラブル対策、日本テクノセンター
  • 河合、レジスト材料/プロセスの基礎とトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化、AndTech
  • 河合、分子間力や表面張力の考え方,そのコントロールと測定法、技術情報協会
  • 河合、塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策、TH企画セミナーセンター
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策、R&D支援センター
  • 河合、塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ、情報機構
  • 河合、入門と実践:レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策、TH企画セミナーセンター
  • 河合、ダブルパターニング・マルチパターニング技術の基礎とプロセスおよび材料の最適化、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ソルダーレジストの基礎・プロセスの高精度化・高周波対応と各種トラブル対策、シーエムシー出版・AndTech
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)の基礎と有効活用ノウハウ、情報機構
  • 河合、レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ぬれ性・塗膜乾燥・付着はく離の基礎と産業応用、日本テクノセンター

2018年

  • 河合、濡れ・表面自由エネルギーの基礎、測定方法とコーティング及び産業技術への応用、技術情報協会
  • 河合、レジストの材料・プロセスのノウハウ、最適化法、トラブル対処法、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ、情報機構
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)の基本原理、測定とデータの取得・解析方法、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、コーティング膜の塗布乾燥・評価技術:超入門、情報機構
  • 河合、レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決、R&D支援センター
  • 河合、シランカップリング剤による濡れ性・付着制御と上手な活用法、TH企画セミナーセンター
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)の基礎と有効活用ノウハウ、情報機構
  • 河合、塗布膜乾燥プロセスの基本、現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化、AndTech
  • 河合、濡れ・表面エネルギーの基礎とコーティングおよび産業技術への応用、日本テクノセンター
  • 河合、レジスト材料・リソグラフィの基礎と技術動向、シーエムシー出版

2017年

  • 河合、レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決、TH企画セミナーセンター
  • 河合、レジスト材料・プロセスおよび周辺技術の総合知識、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト膜の正しい評価法とトラブル対策、情報機構
  • 河合、微小液滴の基礎と挙動理解、評価・制御技術、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、開発・生産現場における実践的なクリーン化技術、TH企画セミナーセンター
  • 河合、レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決、R&D支援センター
  • 河合、開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術の「ツボ」、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗布型電子材料のコーティング技術、S&T出版
  • 河合、塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、界面自由エネルギーの考え方,測り方,その応用、技術情報協会
  • 河合、レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化、AndTech
  • 河合、コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門、情報機構

2016年

  • 河合、接着・コーティングにおける濡れ、剥離、乾燥の考え方 ~界面の設計・制御から評価技術、トラブル対策まで~、情報機構
  • 河合、塗布膜乾燥プロセスの本質理解&最適化と欠陥・トラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、~コーティング,フィルム,基板などにおける~ 接着・密着不良,剥がれの メカニズムと評価解析,その対策、技術情報協会
  • 河合、<表面・コーティング・分散プロセスにおける>シランカップリング処理の本質と最適化、ノウハウ&トラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決、R&D支援センター
  • 河合、コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門、情報機構
  • 河合、開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術のノウハウ、情報機構
  • 河合、塗布膜の乾燥メカニズムと高品質化およびトラブル対策 ~製造から開発現場まで~、S&T出版
  • 河合、塗布膜の乾燥&制御技術、トラブル対策と膜質最適化、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、コーティング膜の塗布乾燥・評価技術:超入門、情報機構

2015年

  • 河合、塗布膜制御のための膜形成と乾燥ノウハウ ~製造から開発現場まで~、情報機構
  • 河合、微小液滴の基礎と物性、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、シランカップリング剤の反応・評価・制御と上手な活用法、TH企画セミナーセンター
  • 河合、<ユーザーが求める>フォトレジストの性能・評価・プロセス・処理装置とトラブル対策、情報機構
  • 河合、現場で使える 塗布膜乾燥プロセスの最適化法と制御技術、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、コーティング膜の付着・密着コントロールとトラブルへの対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決、R&D支援センター
  • 河合、薄膜の基礎と付着性・密着性改善および剥離トラブルへの応用、日本テクノセンター
  • 河合、シランカップリング実用講座 -明日から活かせる処理技術ノウハウとトラブル対策-、S&T出版
  • 河合、コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門、情報機構
  • 河合、シランカップリング剤の反応・評価・制御と現場でのシランカップリング処理のノウハウ、TH企画セミナーセンター
  • 河合、フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化、電子ジャーナル
  • 河合、現場で役立つコーティングの基礎とメカニズム、加工技術研究会
  • 河合、現場で役立つコーティングの基礎とメカニズム、加工技術研究会
  • 河合、塗布膜の乾燥技術と制御方法 ~乾燥ムラ・クラック対策、トラブル防止、膜質最適化、塗膜の品質保証~、サイエンス&テクノロジー

2014年

  • 河合、塗布・コーティング膜の基礎と制御技術および高品質化とトラブル対策、TH企画セミナーセンター
  • 河合、シランカップリング剤の反応機構・解析評価と上手な活用法、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門、情報機構
  • 河合、機能性コーティングの基礎と高品質化およびトラブル対策、日本テクノセンター
  • 河合、塗布・コーティング膜の制御技術、電子ジャーナル
  • 河合、フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化、電子ジャーナル
  • 河合、ウェット・乾燥プロセス入門、R&D支援センター
  • 河合、今さら聞けない!塗膜形成の基礎と塗膜制御・管理のポイント、情報機構
  • 河合、レジストコーティングプロセスの対処法・評価・最適化と不良対策、情報機構
  • 河合、現場で役立つコーティング・乾燥の基礎トラブル、測定技術、加工技術研究会
  • 河合、フォトレジストの基礎・トラブル対策と高品位化、電子ジャーナル
  • 河合、現場で役立つコーティング・乾燥の基礎トラブル、測定技術、加工技術研究会
  • 河合、塗布膜におけるぬれ制御・乾燥制御とトラブルへの対策・信頼性向上、サイエンス&テクノロジー

2013年

  • 河合、塗布・コーティング膜の制御技術、電子ジャーナル
  • 河合、機能性コーティングの基礎とトラブル対策、韓国包装技術研究所
  • 河合、機能的塗膜プロセスの基礎と高品質化およびトラブル対策、TH企画セミナーセンター
  • 河合、欠陥を出さないための塗膜物性とコントロール技術、R&D支援センター
  • 河合、コーティング塗布膜・乾燥の基礎・ノウハウとトラブルへの対策&勘所、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、接着のメカニズムと接着界面の評価・制御技術 ~接着への理解を深めるために~、情報機構
  • 河合、コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門、情報機構
  • 河合、フォトレジストの基礎・トラブル対策・高品位化★徹底解説、電子ジャーナル

2012年

  • 河合、レジスト材料の上手な使い方とプロセス上のノウハウ、情報機構
  • 河合、分析技術者だけじゃない開発者にも知っておいて欲しいデバイスの表面・深さ方向分析ノウハウと注意点、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗布・コーティング膜の制御技術、電子ジャーナル
  • 河合、現場で応用できるコーティングの理論と現象、加工技術研究会
  • 河合、現場で応用できるコーティングの理論と現象、加工技術研究会
  • 河合、塗布乾燥プロセスにおける塗膜品質のコントロール技術、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗布膜の乾燥挙動とトラブル発生要因およびその対策、技術情報協会
  • 河合、実用的なぬれ性のメカニズムと測定・制御技術、R&D支援センター
  • 河合、濡れ・乾燥コントロールの基礎と実際、情報機構
  • 河合、翌日から現場で使える!!コーティング乾燥におけるトラブル解決と品質向上、サイエンス&テクノロジー

2011年

  • 河合、塗工液の液物性コントロールとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、微小液滴・気泡のプロセス挙動コントロール技術とトラブル対策、産業科学システムズ
  • 河合、微小液滴・気泡の基礎物性とコントロール技術 スキルアップセミナー、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ウェットプロセス入門講座、R&D支援センター
  • 河合、よい塗布膜を得るための塗布・乾燥のノウハウと最適化、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗工液の液物性コントロールとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、精密塗布・乾燥ノウハウ ~表面エネルギー等塗布乾燥の基礎からトラブル対策まで~、情報機構
  • 河合、塗布膜乾燥メカニズムと『高品位化』・『高速化』技術、技術情報協会
  • 河合、レジスト材料プロセスのトラブルおよび最適化ノウハウ、情報機構

2010年

  • 河合、シランカップリング剤の効果と最適使用法、R&D支援センター
  • 河合、塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、塗布膜乾燥メカニズムと欠陥制御、トラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、実用的接着・剥離・ぬれのコントロール技術およびトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、レジスト・リソグラフィの基礎とトラブル対応のノウハウ、日本テクノセンター

2009年

  • 河合、塗布膜乾燥トラブルの基礎とトラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、シランカップリング剤の反応機構と上手な使い方、R&D支援センター
  • 河合、シランカップリング処理による付着・ぬれ・コーティングのコントロールと最適化、情報機構
  • 河合、AFM/STMの基礎と応用、電子ジャーナル
  • 河合、塗工液の液物性と塗布膜乾燥プロセス、R&D支援センター
  • 河合、レジストの付着・剥離コントロールおよび欠陥発生メカニズムとその対策、技術情報協会

2008年

  • 河合、レジスト塗布・乾燥技術ノウハウ、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ナノ粒子分散塗布液の均一コーティング・乾燥技術、情報機構
  • 河合、ウェットプロセス入門、R&D支援センター
  • 河合、塗布膜乾燥技術の基礎・ノウハウとトラブル対策、情報機構
  • 河合、ウェットプロセスの基礎とトラブルシューティング、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、シランカップリング処理による付着・ぬれ・コーティングのコントロールと最適化、情報機構
  • 河合、半導体製造における高品位ウェットプロセス入門、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、単層および多層レジスト技術におけるコーティングトラブルと対策・解析方法、情報機構
  • 河合、電子デバイス製造技術の基礎と応用、技術情報協会
  • 河合、実践的ぬれと接着技術、技術情報協会
  • 河合、塗布膜乾燥技術の基礎・ノウハウとトラブル対策、情報機構
  • 河合、レジスト膜におけるトラブル対策と評価解析ノウハウ、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、塗工液の液物性コントロールと塗布膜乾燥プロセスの基礎、技術情報協会
  • 河合、基板/レジストの剥離メカニズムと応力・ぬれ制御及び評価方法、技術情報協会

2007年

  • 河合、塗布膜乾燥の基礎・ノウハウとトラブル対策、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ダイコーティングにおけるトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、微小液滴・微小気泡の濡れ・付着メカニズムとその制御、情報機構
  • 河合、塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策、技術情報協会
  • 河合、ぬれ・接着のメカニズムとコントロール、技術情報協会
  • 河合、微小液滴の物性制御のための“濡れ性”“表面エネルギー”の解析と表面処理技術、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、微小液滴・微小気泡の濡れ・付着メカニズムとその制御、情報機構
  • 河合、微小液滴の基礎物性とその制御、技術情報協会
  • 河合、フォトレジスト膜におけるトラブル対策と評価解析ノウハウ、情報機構

2006年

  • 河合、ウェットプロセス入門~表面・界面における接着、ぬれ、表面処理の実際~、技術情報協会
  • 河合、高分子材料/金属無機薄膜間の付着特性とその解析、技術情報協会
  • 河合、微小液滴の付着・凝集特性と制御ノウハウ~ナノ・マイクロバブル、マイクロメニスカス、微小有機固体~、技術情報協会
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)による微細・微小部分の分析・評価ノウハウ、情報機構
  • 河合、微小液滴・気泡における濡れ特性・評価とそのコントロール技術、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、レジスト膜の付着性と剥離性の制御、情報機構
  • 河合、微小液滴、ナノ・マイクロバブル、マイクロメニスカスの解析方法と微小有機固体の付着凝集制御、技術情報協会

2005年

  • 河合、原子間力顕微鏡のメカニズムと試料の性質に応じた観察テクニック、技術情報協会
  • 河合、フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価・解析法、情報機構
  • 河合、レジスト/純水間の相互作用解析と気泡制御、サイエンス&テクノロジー
  • 河合、ナノレベルの接着・剥離挙動の解析・評価法、情報機構
  • 河合、半導体微細加工用レジストの濡れ・凝集性とトラブル対策、情報機構

2004年

  • 河合、レジストの剥離制御・評価技術、情報機構
  • 河合、微細領域でのレジスト付着・剥離性の測定と評価・制御技術、情報機構
  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)による薄膜・表面物性の測定・評価ノウハウ ~幅広い使い方とデータ解析法~、情報機構
  • 河合、電子デバイスの製造プロセス技術の基礎と応用、情報機構

2003年

  • 河合、微細レジストパターンの付着性改善・トラブル対策とその評価、情報機構
  • 河合、ナノ微粒子の付着・凝集メカニズムと制御技術、技術情報協会
  • 河合、フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価、解析法、情報機構

2002年

  • 河合、微細レジストパターンの付着性改善・トラブル対策とその評価、情報機構
  • 河合、フォトレジスト膜における濡れ性・膜応力・付着力の評価、解析法、情報機構
  • 河合、レジスト材料の付着性改善とパターン欠陥対策、技術情報協会

2001年

  • 河合、原子間力顕微鏡(AFM)の基礎と固体表面の特性解析への応用、技術情報協会

2000年

  • 河合、高分子材料/金属無機薄膜間の付着特性とその解析~表面エネルギー、濡れ特性、付着力~、技術情報協会

展示会

11件

  • にいがた産学技術交流フェア2006、信越ハイテクコリドープランリレーフォーラム in 新潟、「デバイスプロセス研究室」、ハイブ長岡 H18.10.4
  • セミコン・ジャパン2006、ナノテクパビリオン「長岡技術科学大学 電気系 河合研究室」N-06(於 幕張メッセ)H18.12.6
  • にいがた産学技術交流フェア2005、「デバイスプロセス研究室」ハイブ長岡 H17
  • SEMI FPD Expo Japan2004、アカデミアコーナー「長岡技術科学大学 河合研究室」(於 東京ビッグサイト)H16.4.7
  • SEMI FPD Expo Japan2003、アカデミアコーナー「長岡技術科学大学 河合研究室」(於 東京ビッグサイト)H15
  • にいがた産学技術交流フェア2003、「長岡技術科学大学 河合研究室」セコムホール H15
  • 地域企業と長岡技大との交流フェア2002、「電子デバイス・表面解析研究室」(於 セコムホール)H14.8.24
  • 地域企業と長岡技大との交流フェア2001、「電子デバイス・表面解析研究室」(於 セコムホール)H13.8.10
  • セミコン関西2000、アカデミアプラザポスター「長岡技術科学大学 河合研究室」(於 インテックス大阪)H12.6
  • セミコン関西1999、アカデミアプラザポスター「長岡技術科学大学 河合研究室」(於 インテックス大阪)H11.6
  • セミコン関西1998、アカデミアプラザポスター「長岡技術科学大学 河合研究室」(於 インテックス大阪)H10.6
ページのトップへ戻る