アドヒージョン株式会社

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新着情報一覧news

2024

2024年03月12日
受託測定サービス・サンプル加工サービスのページを新設しました。

2024年03月12日に、受託測定サービス・サンプル加工サービスのページを新設しました。
受託測定サービス・サンプル加工サービスのページ

2023年

2023年10月01日
書籍販売事業を開始しました。

2023年10月1日より、書籍販売事業を開始しました。
書籍・技術報告・技術レポート販売ページ

2023年08月01日
インボイス制度 適格請求書発行事業者登録番号のお知らせ(2023年10月1日)

2023年10月1日以降に開始が予定されている「適格請求書等保存方式(インボイス制度)」に関して、
弊社は適格請求書発行事業者の登録が完了しておりますのでお知らせいたします。

登録番号:T2110001031568

なお、国税庁「インボイス制度 適格請求書発行事業者公表サイト」からもご確認が可能です。
⇒ アドヒージョン株式会社の情報 国税庁「インボイス制度 適格請求書発行事業者公表サイト」

2022年

2022年07月01日
本店所在地を神戸市中央区へ移転いたしました。(2022年7月1日付)

2022年7月1日付で、本店を以下の通り移転いたしましたので、ご案内申し上げます。
今後とも一層のお引き立てを賜りますようお願い申し上げます。

【新所在地】
〒650-0003 兵庫県神戸市中央区山本通4丁目24番16-602号

2022年04月01日
弊社代表取締役社長の河合 晃は、長岡技術科学大学の名誉教授に就任いたしました。(2022年4月1日付)

長岡技術科学大学サイト内「歴代学長・名誉教授」
https://www.nagaokaut.ac.jp/annai/gakucyo/rekidai_gakucho.html

2021年

2021年02月22日
弊社代表監修の書籍「高周波対応基板材料の開発動向と応用展開」が出版されました。

弊社代表取締役の河合晃が監修した書籍『高周波対応基板材料の開発動向と応用展開』がシーエムシー出版様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

高周波対応基板材料の開発動向と応用展開

監修:
河合晃
発行日:
2021年2月12日
体裁:
B5判、296ページ
ISBNコード:
978-4-7813-1590-4

【書籍紹介】
★ 自動運転、5Gや更に先の世代の移動通信システムに向け必須となる高周波対応基板の低伝送損失化に向けた材料の開発動向!
★ プリント基板技術からパッケージング等の材料技術、およびプロセッシングや計測技術まで幅広い分野をカバー!
★ FPC、回路設計、分子設計、多孔質化、異種接合、リソグラフィ等の実用化に向けた技術を網羅!

※詳細はシーエムシー出版様のホームページをご覧ください。
https://www.cmcbooks.co.jp/products/detail.php?product_id=8047

2020年

2020年04月22日
新型コロナウイルス感染症への対応について

この度の政府による緊急事態宣言の発令および自治体からの外出自粛要請等を受け、アドヒージョン(株)では、新型コロナウイルス感染予防対策を十分に行い、感染拡大防止に努めてまいります。

2019年

2019年01月07日
明けましておめでとうございます。

昨年は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。
本年も皆様にご満足いただけるサービスを心がける所存でございます。
皆様のご健勝と益々のご発展を心よりお祈りいたします。
本年も宜しくお願い申し上げます。

2018年

2018年05月30日
弊社代表執筆の書籍「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」が出版されました。

弊社代表取締役の河合晃が執筆した書籍『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』が株式会社R&D支援センター様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決

著者:
河合晃
発行日:
2018年3月20日
体裁:
B5判、185ページ
ISBNコード:
978-4-905507-25-3

【書籍紹介】(「まえがき」より抜粋)
本書では、フォトレジスト技術に関する幅広い分野をカバーし、実用書としても有意義な内容を構成している。具体的には、フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置、までを幅広く網羅し、パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術も含まれており、フォトレジスト材料を扱う技術者の一助となるように構成されている。

※詳細はR&D支援センター様のホームページをご覧ください。
http://www.rdsc.co.jp/book/bk0027

2017年

2017年 9月21日
弊社代表監修の書籍「最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術」が出版されました。

弊社代表取締役の河合晃が監修した書籍『最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術』がシーエムシー出版様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

監修:
河合晃
発行日:
2017年9月20日
体裁:
B5判、320ページ
ISBNコード:
978-4-7813-1263-7

【書籍紹介】
★ IoTに対応する半導体プロセス微細化や3次元微細構造の採用により需要が高まるフォトレジスト材料!
★ フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説!
★ 次世代EUVリソグラフィーの導入に向け事業化に動き始めたEUVレジスト業界!

※詳細はシーエムシー出版様のホームページをご覧ください。
http://www.cmcbooks.co.jp/products/detail.php?product_id=5327

2017年 1月10日
長岡技術科学大学テクノインキュベーションセンター(NTIC)内のキャンパスインキュベーションブースに、大学オフィスを開設しました。(2017.1.1)

大学オフィスへのアクセス、オフィスの様子はこちらからご覧になれます。

2017年 1月10日
会社を設立しました。(2016.6.1)

大学の研究成果の産業界への展開を目指し、研究成果活用企業(ベンチャー企業)として会社を設立しました。

2017年 1月10日
ホームページを開設しました。

アドヒージョン株式会社のホームページを開設しました。
どうぞよろしくお願い申し上げます。

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