アドヒージョン株式会社

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新着情報一覧news

2019年

2019年11月07日
「高周波対応プリント基板,ソルダーレジストの材料,プロセス技術」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.12.20)

株式会社技術情報協会様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年11月20日(金)11:00~17:00
■会場
[東京・五反田] 技術情報協会 セミナールーム
■プログラム

1.ソルダーレジストの材料、プロセスと高周波対応
1. 高周波(5G、ミリ波)対応のプリント基板技術(高周波通信対応の基礎知識)
2.ソルダーレジストの材料とプロセス(高周波対応における最適化)
3.プリント基板の周辺技術(高周波対応に向けたトレンド)
4.信頼性・耐久性・寿命試験
5.質疑応答(日頃の技術相談、トラブル相談に個別に応じます)

2.5G時代に向けての基板・実装材料の設計技術
※他の講師の方が担当します

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年10月18日
【終了しました】「レジスト材料/プロセス/装置の有効な評価法とトラブル対策 ~ユーザーの視点によるレジスト材料の基礎・プロセスの最適化、高品位化~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.11.15)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年11月15日(金)10:30~16:30
■会場
[東京・御茶ノ水]中央大学駿河台記念館4階410
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ産業の発展
2.リソグラフィプロセスの基礎~これだけは習得しておきたい~
3.先端および応用技術
4.レジスト処理装置の要点~プロセス制御の重点ポイントとは~
5.レジスト異物欠陥対策~歩留り向上の最優先対策とは~
6.パターン剥離と対策~付着マージンの確保には~
7.レジストパターンの高精度化と高品位化
8.質疑応答、技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年09月30日
【終了しました】「レジスト材料・プロセス・装置の最適化ノウハウとトラブル対策 ~基礎、最適化と高品位化、およびユーザー対応~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.10.24)

株式会社技術情報協会様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年10月24日(木)10:00~17:00
■会場
[東京・五反田]技術情報協会 セミナールーム
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ産業の発展
2.リソグラフィプロセスの基礎(これだけは習得しておきたい)
3.先端および応用技術
4.レジスト処理装置の要点(プロセス制御の重点ポイントとは)
5.レジスト異物欠陥対策(歩留り向上の最優先対策とは)
6.パターン剥離と対策(付着マージンの確保には)
7.レジストパターンの高精度化と高品位化
8.質疑応答、技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年09月05日
【終了しました】「レジストの材料・プロセス・装置の総合知識 ~基礎とノウハウ、高品位化、最適化、トラブル対処法とユーザー対策~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.10.4)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年10月4日(金)10:30~16:30
■会場
東京・港区浜松町 芝エクセレントビル B1F KCDホール
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ産業の発展
2.リソグラフィプロセスの基礎(これだけは習得しておきたい)
3.先端および応用技術
4.レジスト処理装置の要点(プロセス制御の重点ポイントとは)
5.レジスト異物欠陥対策(歩留り向上の最優先対策とは)
6.パターン剥離と対策(付着マージンの確保には)
7.レジストパターンの高精度化と高品位化
8.質疑応答、技術開発および各種トラブル相談

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年07月22日
【終了しました】「レジスト材料/プロセスの基礎とトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化 ~特性、最適化、付着・濡れ・欠陥の各種トラブル、評価・解決へのアプローチ~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.8.26)

株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年8月26日(月)11:00~16:00
■会場
高砂ビル 2F CMC+AndTech FORUM セミナールーム【東京・千代田区】
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)
【質疑応答 名刺交換】

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年06月05日
【終了しました】「分子間力や表面張力の考え方, そのコントロールと測定法」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.8.6)

株式会社技術情報協会様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年8月6日(火)10:00~17:00
■会場
[東京・五反田]日幸五反田ビル8F 技術情報協会セミナールーム
■講師
河合 晃(第1部~第3部(1))
■プログラム
第1部「分子間力・表面張力の基本的な考え方,基礎知識」
第2部「分子間力・表面張力をコントロールする技術とその応用」
第3部(1)「分子間力・表面張力の測定方法とのその応用」
第3部(2)「分子間力・表面張力の測定方法とその応用 -表面張力・界面張力測定を中心に-」(他の講師の方が担当します)
第3部(3)「分子間力・表面張力の測定方法とその応用 -ゼータ電位測定を中心に-」
(他の講師の方が担当します)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年06月05日
【終了しました】「原子間力顕微鏡(AFM)の基本原理、測定とそのノウハウ、データの取得・解析方法 ~AFMの基本理解および有効活用に向けて~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.7.23)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年7月23日(火)10:30~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 6F 中会議室
■プログラム
1.(基礎編)AFMの適切な利用法 ~原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで~
2.(応用編)AFMの有効な活用法 ~様々な活用展開と分析・評価ノウハウ~
(質疑応答)(日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年05月23日
【終了しました】「塗布・コーティング膜の基礎と制御技術及び高品質化とトラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.8.1)

株式会社TH企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年8月1日(木)10:30~17:00
■会場
連合会館 (東京・お茶の水)
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(基本原理を理解する)
2.各種コーティングの原理とコントロールポイント
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策 (発生原因を特定し解決策を見極める)
6.質疑応答(日頃の開発・トラブル相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年05月22日
【終了しました】「レジスト・リソグラフィ技術の基礎と不良防止・トラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.9.27)

株式会社日本テクノセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年9月27日(金)10:30~17:30
■会場
日本テクノセンター研修室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門 ~これだけは習得しておきたい~
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策 ~最短でのトラブル解決のために~
3.レジスト材料プロセスの高品位化 ~高付加価値のレジストを目指す~
4.質疑応答(研究開発、トラブル対策に個別相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年03月27日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.6.14)

株式会社R&D支援センター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年6月14日(金)10:30~16:30
■会場
江東区産業会館 第2会議室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年02月28日
【終了しました】「入門と実践:レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.4.12)

株式会社TH企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年4月12日(金)10:00~16:30
■会場
連合会館 (東京・お茶の水)
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年01月30日
【終了しました】「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.4.19)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年4月19日(金)10:30~16:30
■会場
[東京・京急蒲田]大田区産業プラザ(PiO)6階C会議室
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(基本原理を理解する)
2.各種コーティングの原理とコントロールポイント
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
6.コーティング膜の評価計測手法
7.コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
8.質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年01月24日
【終了しました】「ソルダーレジストの基礎・プロセスの高精度化・高周波対応と各種トラブル対策 ~5G移動体無線、ミリ波への対応・耐熱性と銅配線との密着性向上~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.3.15)

株式会社シーエムシー出版様・株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年3月15日(金)11:00~16:00
■会場
高砂ビル 2F CMC+AndTech FORUM セミナールーム【東京・千代田区】
■プログラム
1. 高周波(5G、ミリ波)対応のプリント基板技術(高周波通信対応の基礎知識)
2. ソルダーレジストの材料とプロセス(高周波対応における最適化)
3. プリント基板の周辺技術(高周波対応に向けたトレンド)
4. 質疑応答(日頃の技術相談、トラブル相談に個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2019年01月07日
明けましておめでとうございます。

昨年は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。
本年も皆様にご満足いただけるサービスを心がける所存でございます。
皆様のご健勝と益々のご発展を心よりお祈りいたします。
本年も宜しくお願い申し上げます。

2018年

2018年12月27日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.2.26)

株式会社技術情報協様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年2月26日(火)10:00~17:00
■会場
[東京・五反田]技術情報協会 セミナールーム
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年12月25日
【終了しました】「原子間力顕微鏡(AFM)の基礎と有効活用ノウハウ ~動作原理、適切な使用法と分析・評価ノウハウ~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.3.8)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年3月8日(金)10:30~16:30
■会場
[東京・大井町]きゅりあん6階中会議室
■プログラム
(基礎編)「AFMの適切な利用法~原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで~」
(応用編)「AFMの有効な活用法~様々な活用展開と分析・評価ノウハウ~」
(質疑応答)日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます。

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年12月25日
【終了しました】「塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.2.14)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年2月14日(木)10:30~16:30
■会場
東京・港区浜松町 芝エクセレントビル B1F KCDホール
■プログラム
1.各種コーティングの原理とコントロール(現象と装置機構)
2.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
3.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
4.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
5.塗膜の品質保証(劣化、加速試験、寿命評価)
6.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年12月10日
【終了しました】「ダブルパターニング・マルチパターニング技術の基礎とプロセスおよび材料の最適化」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.3.27)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年3月27日(水)13:00~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 研修室
■プログラム
1.1.光リソグラフィーの技術トレンド
2.ダブル/マルチパターニング
3.質疑応答・技術相談

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年11月21日
【終了しました】「ぬれ性・塗膜乾燥・付着はく離の基礎と産業応用 ~微小液滴の性質、液滴の生成、微小液滴のぬれ性、液滴の付着と拡張性、産業上の応用およびトラブル対策~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2019.1.31)

株式会社日本テクノセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2019年1月31日(木)10:30~17:30
■会場
日本テクノセンター研修室
■プログラム
1.微小液滴の性質
2.液滴の生成
3.微小液滴のぬれ性
4.液滴の付着と拡張性
5.塗布膜形成の基礎
6.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化
7.塗膜の接着と剥離トラブル対策
8.質疑応答(日頃の技術相談)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年10月04日
【終了しました】「濡れ・表面自由エネルギー の基礎、測定方法とコーティング及び産業技術への応用」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.11.22)

株式会社技術情報協会様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年11月22日(木)10:00~17:00
■会場
[東京・五反田]技術情報協会 セミナールーム
■プログラム
第一部「微小液滴の性質と濡れ性」
1.微小液滴の性質
2.液滴の生成
3.微小液滴のぬれ性
第二部「表面自由エネルギーの測定方法」
4.液滴の付着と拡張性
第三部「コーティングおよび産業上の応用」
【質疑応答・名刺交換】

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年08月23日
【終了しました】「【京都開催】レジストの材料・プロセスのノウハウ、最適化法、トラブル対処法」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.10.11)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年10月11日(木)10:30~16:30
■会場
京都・京都市下京区 京都リサーチパーク 西地区 4号館 2F ルームB
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年07月25日
【終了しました】「塗膜・コーティング膜を制御するための塗布・乾燥技術の基礎とノウハウ」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.10.5)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年10月5日(金)10:30~16:30
■会場
[東京・浜町]中央区立総合スポーツセンター4階 第1、2会議室
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(基本原理を理解する)
2.各種コーティングの原理とコントロールポイント
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
6.コーティング膜の評価計測手法
7.コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
8.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年05月31日
【終了しました】「原子間力顕微鏡(AFM)の基本原理、測定とデータの取得・解析方法」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.7.13)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年7月13日(金)10:30~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 5F 第4講習室
■プログラム
1.(基礎編)AFMの適切な利用法 ~原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで~
2.(応用編)AFMの有効な活用法 ~様々な活用展開と分析・評価ノウハウ~
(質疑応答)・日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年05月30日
当社代表執筆の書籍「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」が出版されました。

当社代表の河合晃が執筆した書籍『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』が株式会社R&D支援センター様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決

著者:
河合晃
発行日:
2018年3月20日
体裁:
B5判、185ページ
ISBNコード:
978-4-905507-25-3

【書籍紹介】(「まえがき」より抜粋)
本書では、フォトレジスト技術に関する幅広い分野をカバーし、実用書としても有意義な内容を構成している。具体的には、フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置、までを幅広く網羅し、パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術も含まれており、フォトレジスト材料を扱う技術者の一助となるように構成されている。

※詳細はR&D支援センター様のホームページをご覧ください。
http://www.rdsc.co.jp/book/bk0027

2018年03月20日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 ~入門から実践まで、基礎から応用まで~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.5.18)

株式会社R&D支援センター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年5月18日(金)10:30~16:30
■会場
商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 会議室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年03月19日
【終了しました】「シランカップリング剤による濡れ性・付着制御と上手な活用法 ~シランカップリング処理の最適化と現場でのノウハウ~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.5.11)

株式会社TH企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年5月11日(金)10:00~16:30
■会場
連合会館 (東京・お茶の水)
■プログラム
【基本編】シランカップリング処理と濡れ性
1.シランカップリング処理を最適化する
2.効果的な処理装置を構成する
3.濡れ・付着性の基礎とシランカップリング処理
【実用編】実際の現場でのシランカップリング処理のノウハウ!!
1.塗膜の付着性をコントロールする
2.溶液中での界面密着性をコントロールする
3.微粒子の分散性をコントロールする
4.塗膜のコート性をコントロールする
5.液滴と気泡の付着性をコントロールする
6.表面を高品位にコントロールする
7.シランカップリング剤によるCVD成膜(HMDSO膜の形成)
8.質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年03月02日
【終了しました】「コーティング膜の塗布乾燥・評価技術:超入門【2日間講座】」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.5.24~5.25)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年 5月24日(木)11:00~17:00
2018年 5月25日(金)10:00~16:00
■会場
[東京・大井町]きゅりあん5階第3講習室
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(基本原理を理解する)
2.各種コーティングの原理とコントロールポイント
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
6.コーティング膜の評価計測手法
7.コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
8.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2018年01月05日
【終了しました】「原子間力顕微鏡(AFM)の基礎と有効活用ノウハウ」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.3.15)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年3月15日(木)10:30~16:30
■会場
[東京・浜松町]太陽化学(株)東京本社内 おいしさ科学館8階ホール
■プログラム
(基礎編)「AFMの適切な利用法 ~原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで~」
(応用編)「AFMの有効な活用法 ~様々な活用展開と分析・評価ノウハウ~」
(質疑応答)日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年

2017年12月27日
【終了しました】「濡れ・表面エネルギーの基礎とコーティングおよび産業技術への応用」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.1.24)

株式会社日本テクノセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年1月24日(水)10:30~17:30
■会場
【東京】日本テクノセンター研修室
■プログラム
1.微小液滴の性質
2.液滴の生成
3.微小液滴のぬれ性
4.液滴の付着と拡張性
5.産業上の応用
6.質疑応答(日頃の技術相談)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年12月19日
【終了しました】「レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.2.2)

株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年2月2日(金)11:00~16:00
■会場
高砂ビル 2F CMC+AndTech FORUM セミナールーム【東京・千代田区】
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年12月06日
【終了しました】【京都開催】「塗布膜乾燥プロセスの基本、現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.2.9)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年2月9日(金)10:30~16:30
■会場
京都・京都市下京区 京都リサーチパーク 1号館 4F 中会議室A
■講師
河合 晃
■プログラム
1.各種コーティングの原理とコントロール(現象と装置機構)
2.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
3.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
4.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
5.塗膜の品質保証(劣化、加速試験、寿命評価)
6.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年12月06日
【終了しました】「フォトレジスト材料の基礎と最新技術動向~高感度化材料・高解像度化・トラブル対策~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2018.1.23)

株式会社シーエムシー出版様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2018年1月23日(火)13:20~16:40(13:00受付開始)
■会場
東京都千代田区内神田1-3-1 高砂ビル2F CMC FORUM会場
■講師
河合 晃(第1部)
■プログラム
第1部「レジスト材料・リソグラフィの基礎と技術動向」
第2部「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について」
(他の講師の方が担当します)
第3部「EUVリソグラフィの現状・今後の課題と求められるレジスト材料とその評価」
(他の講師の方が担当します)
※講演終了後、名刺交換会・交流会(30分程度)を予定しております。

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年11月29日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.12.22)

株式会社TH企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年12月12日(金)10:00~16:30
■会場
連合会館401号室(東京・JRお茶の水駅下車 徒歩約5分)
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 9月21日
当社代表監修の書籍「最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術」が出版されました。

当社代表の河合晃が監修した書籍『最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術』がシーエムシー出版様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

監修:
河合晃
発行日:
2017年9月20日
体裁:
B5判、320ページ
ISBNコード:
978-4-7813-1263-7

【書籍紹介】
★ IoTに対応する半導体プロセス微細化や3次元微細構造の採用により需要が高まるフォトレジスト材料!
★ フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説!
★ 次世代EUVリソグラフィーの導入に向け事業化に動き始めたEUVレジスト業界!

※詳細はシーエムシー出版様のホームページをご覧ください。
http://www.cmcbooks.co.jp/products/detail.php?product_id=5327

2017年 7月25日
【終了しました】精密工学会知的ナノ計測専門委員会にて「高機能デバイスのキーテクノロジー~3D-MEMS~」をテーマに、当社代表が講演を行います。(2017.8.3)

精密工学会知的ナノ計測専門委員会様 2017年度 第2回 例会・見学会にて、当社代表の河合晃が講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年8月3日(木)14:15~15:15
■会場
長岡技術科学大学 機械建設棟4階411会議室
■テーマ
高機能デバイスのキーテクノロジー~3D-MEMS~
2017年 7月25日
第1回 日本接着学会関東支部若手交流会 勉強会「接着における表面界面・ぬれ」にて、当社代表が講師として依頼講演を行いました。(2017.7.21)
今後、第2回(2017.10.13)、第3回(2017.12.1)も開催されます。

日本接着学会関東支部若手交流会様が主催の勉強会にて、当社代表の河合晃が講師として依頼講演を行いました。その概要を以下の通りご案内申し上げます。

【第1回】(終了しました)
 
■日時
2017年7月21日(金) 勉強会 13:00~17:00,懇親会 17:00~
■会場
[勉強会] 東京工業大学大岡山キャンパス 西9号館 コラボレーションルーム
[懇親会] 東京工業大学大岡山キャンパス 蔵前会館 大会議室(2F)
■講師
当社代表 河合 晃
■内容
ぬれ性入門(初めて用いる)
1.1 ぬれの基礎
1.2 接触角
1.3 ぬれと粘性
1.4 静的・動的なぬれ
1.5 ぬれと接着
【第2回】(終了しました)
 
■日時
2017年10月13日(金) 勉強会 13:00~17:00
■会場
[勉強会] 工学院大学 新宿キャンパス 11階 1114号室
■講師
当社代表 河合 晃
■内容
ぬれ制御の実際(実務上の取り組み)
2.1 表面エネルギー
2.2 表面処理
2.3 大気中での接着
2.4 液中での接着
2.5 液滴と気泡
【第3回】(終了しました)
 
■日時
2017年12月1日(金) 勉強会 13:00~17:00,懇親会 17:00~
■会場
[勉強会] 東京工業大学大岡山キャンパス 西9号館 コラボレーションルーム
[懇親会] 東京工業大学大岡山キャンパス 蔵前会館 大会議室(2F)
■講師
当社代表 河合 晃
■内容
現場でのぬれ制御(開発・トラブル対策
3.1 接着要因と剥離要因
3.2 接着性の評価・解析法
3.3 コーティング技術
3.4 IoT、エレクトロニクス技術
3.5 接着の劣化と信頼性評価

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 7月21日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスおよび周辺技術の総合知識 ~レジスト・リソグラフィ入門~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.10.17)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年10月17日(木)13:00~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 第1グループ活動室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 7月21日
【終了しました】「微小液滴の基礎と挙動理解、評価・制御技術」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.8.25)

株式会社TH企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 8月25日(金)12:30~16:30
■会場
連合会館 (東京・お茶の水)
■プログラム
1.製品に付着する異物と欠陥とは?(現状を把握する)
2.異物の付着・脱離メカニズムを考える(基本を理解する)
3.有効な異物の除去方法とは?(徹底的に除去するには)
4.クリーン化に有効な検査方法とは?(有効な計測方法を紹介します)
5.効率的なクリーンルーム技術とは?(ユーザーの視点では)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 6月22日
2017年 7月25日
【終了しました】「レジスト膜の正しい評価法とトラブル対策~ユーザーの視点によるレジスト材料の基礎・プロセスの最適化、高品位化~」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2日間開催 2017.9.11~9.12)

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 9月11日(月)13:00~17:00
2017年 9月12日(火)10:00~16:00
■会場
[東京・大井町]きゅりあん5階 第1講習室
■プログラム
1 レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2 レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3 レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4 技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 6月 6日
【終了しました】「微小液滴の基礎と挙動理解、評価・制御技術」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.8.31)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 8月31日(木)13:00~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 第2特別講習室
■プログラム
1.微小液滴の性質
2.液滴の生成
3.微小液滴のぬれ性
4.液滴の付着と拡張
5.産業上の応用
6.質疑応答(日頃の技術相談)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 5月 1日
【終了しました】「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.6.22)

株式会社R&D支援センター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 6月22日(木)12:30~16:30
■会場
江東区文化センター 3F 第1研修室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 4月10日
【終了しました】「開発現場・製造プロセスにおけるクリーン化技術の「ツボ」」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.4.28)

サイエンス&テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 4月28日(金)10:30~16:30
■会場
東京・品川区大井町 きゅりあん 5F 第2講習室
■プログラム
1.製品に付着する異物と欠陥とは?(現状を把握する)
2.異物の付着・脱離メカニズムを考える(基本を理解する)
3.有効な異物の除去方法とは?(徹底的に除去するには)
4.クリーン化に有効な検査方法とは?(有効な計測方法を紹介します)
5.効率的なクリーンルーム技術とは?(ユーザーの視点では)
6.質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 4月10日
【終了しました】「塗布型電子材料のコーティング技術」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.4.20)

S&T出版株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 4月20日(木)10:30~16:30
■会場
高橋ビルヂング(東宝土地(株)) 会議室 東京都千代田区神田神保町3-2
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(塗工液から膜形成まで)
2.電子材料のコーティング実例(プロセスと装置機構)
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
6.コーティングプロセスの管理計測方法(プロセス安定性を維持する)
7.塗膜の品質保証(劣化、加速試験、寿命評価)
8.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 2月15日
【終了しました】第27回MEMS講習会「MEMS技術を利用した地域活性化:新潟でMEMSが何をもたらすか」にて、当社代表が特別講演を行います。(2017.3.9)

一般財団法人マイクロマシンセンター様が主催の講習会にて、当社代表の河合晃が特別講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年 3月9日(木)13:00~17:35
■場所
まちなかキャンパス長岡 5階 / 交流ルーム
■プログラム
【特別講演2】
14:10-15:10「新潟県地場産業とMEMSデバイス産業との懸け橋」
長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 教授 河合 晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 2月15日
【終了しました】「塗布膜乾燥のメカニズムとトラブル対策」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.4.13)

株式会社技術情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年4月13日(木) 10:00~17:00
■会場
[東京・五反田] 技術情報協会 8F セミナールーム
■プログラム
3.塗布膜応力の抑制と剥離・クラックの防止技術【15:00~17:00】
長岡技術科学大学 電気電子情報工学専攻 教授 博士(工学) 河合 晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 2月15日
【終了しました】「界面自由エネルギーの考え方,測り方,その応用」セミナにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.4.6)

株式会社技術情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年4月6日(木) 10:00~17:00
■会場
[東京・五反田] 日幸五反田ビル8F 技術情報協会 セミナールーム
■プログラム
第4部 塗布,接着,コーティング分野への考え方とその応用【15:30~17:00】
長岡技術科学大学 電気電子情報工学専攻 教授 博士(工学) 河合 晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 2月15日
【終了しました】「レジスト材料におけるトラブルの発生メカニズムと対策・高品質化」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.3.28)

株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年3月28日(火) 13:30-16:30
■会場
[東京・中央区]東京中央区立産業会館 4F 第1集会室
■プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために) 
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 2月15日
【終了しました】「コーティング膜の塗布・乾燥技術:超入門」セミナーにて、当社代表が講師として講演を行います。(2017.3.17)

株式会社情報機構様の主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時
2017年3月17日(金) 10:30-16:30
■会場
[神奈川・川崎]川崎市産業振興会館 10階第1会議室
■プログラム
1.塗布膜形成の基礎(塗工液から膜形成まで)
2.各種コーティングの原理とコントロール(現象と装置機構)
3.塗工液の濡れ制御(濡れの不確定要素を見極める)
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化(乾燥のツボを抑える)
5.トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める) 6.コーティングプロセスの管理計測方法 7.塗膜の品質保証(劣化、加速試験、寿命評価)
8.質疑応答(日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

2017年 1月10日
長岡技術科学大学テクノインキュベーションセンター(NTIC)内のキャンパスインキュベーションブースに、大学オフィスを開設しました。(2017.1.1)

大学オフィスへのアクセス、オフィスの様子はこちらからご覧になれます。

2017年 1月10日
会社を設立しました。(2016.6.1)

大学の研究成果の産業界への展開を目指し、研究成果活用企業(ベンチャー企業)として会社を設立しました。

2017年 1月10日
ホームページを開設しました。

アドヒージョン株式会社のホームページを開設しました。
どうぞよろしくお願い申し上げます。

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