株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年4月19日（金）10:30～16:30

■会場

[東京・京急蒲田]大田区産業プラザ（PiO）6階C会議室

■プログラム

１．塗布膜形成の基礎（基本原理を理解する）
２．各種コーティングの原理とコントロールポイント
３．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
４．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
５．トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
６．コーティング膜の評価計測手法
７．コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
８．質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社シーエムシー出版様・株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年3月15日（金）11:00～16:00

■会場

高砂ビル　2F　CMC+AndTech FORUM　セミナールーム【東京・千代田区】

■プログラム

1. 高周波(5G、ミリ波)対応のプリント基板技術(高周波通信対応の基礎知識)
2. ソルダーレジストの材料とプロセス(高周波対応における最適化)
3. プリント基板の周辺技術(高周波対応に向けたトレンド)
4. 質疑応答(日頃の技術相談、トラブル相談に個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

昨年は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。
本年も皆様にご満足いただけるサービスを心がける所存でございます。
皆様のご健勝と益々のご発展を心よりお祈りいたします。
本年も宜しくお願い申し上げます。

株式会社技術情報協様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年2月26日（火）10:00～17:00

■会場

［東京・五反田］技術情報協会 セミナールーム

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年3月8日（金）10:30～16:30

■会場

[東京・大井町]きゅりあん6階中会議室

■プログラム

（基礎編）「ＡＦＭの適切な利用法～原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで～」
（応用編）「ＡＦＭの有効な活用法～様々な活用展開と分析・評価ノウハウ～」
（質疑応答）日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます。

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年2月14日（木）10:30～16:30

■会場

東京・港区浜松町 芝エクセレントビル B1F KCDホール

■プログラム

１．各種コーティングの原理とコントロール（現象と装置機構）
２．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
３．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
４．トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
５．塗膜の品質保証（劣化、加速試験、寿命評価）
６．質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年3月27日（水）13:00～16:30

■会場

東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 研修室

■プログラム

１．１．光リソグラフィーの技術トレンド
２．ダブル／マルチパターニング
３．質疑応答・技術相談

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社日本テクノセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2019年1月31日（木）10:30～17:30

■会場

日本テクノセンター研修室

■プログラム

１．微小液滴の性質
２．液滴の生成
３．微小液滴のぬれ性
４．液滴の付着と拡張性
５．塗布膜形成の基礎
６．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化
７．塗膜の接着と剥離トラブル対策
８．質疑応答（日頃の技術相談）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社技術情報協会様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年11月22日（木）10:00～17:00

■会場

［東京・五反田］技術情報協会 セミナールーム

■プログラム

第一部「微小液滴の性質と濡れ性」
1.微小液滴の性質
2.液滴の生成
3.微小液滴のぬれ性
第二部「表面自由エネルギーの測定方法」
4.液滴の付着と拡張性
第三部「コーティングおよび産業上の応用」
【質疑応答・名刺交換】

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年10月11日（木）10:30～16:30

■会場

京都・京都市下京区 京都リサーチパーク 西地区 ４号館 ２Ｆ ルームＢ

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門（これだけは習得しておきたい）
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年10月5日（金）10:30～16:30

■会場

[東京・浜町]中央区立総合スポーツセンター4階 第1、2会議室

■プログラム

１．塗布膜形成の基礎（基本原理を理解する）
２．各種コーティングの原理とコントロールポイント
３．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
４．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
５．トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
６．コーティング膜の評価計測手法
７．コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
８．質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年7月13日（金）10:30～16:30

■会場

東京・品川区大井町 きゅりあん ５Ｆ　第４講習室

■プログラム

１．（基礎編）ＡＦＭの適切な利用法　～原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで～
２．（応用編）ＡＦＭの有効な活用法　～様々な活用展開と分析・評価ノウハウ～
（質疑応答）・日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

当社代表の河合晃が執筆した書籍『レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決』が株式会社Ｒ＆Ｄ支援センター様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

著者：

河合晃

発行日：

2018年3月20日

体裁：

B5判、185ページ

ISBNコード：

978-4-905507-25-3

株式会社Ｒ＆Ｄ支援センター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年5月18日（金）10:30～16:30

■会場

商工情報センター（カメリアプラザ）　9F　会議室

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門（これだけは習得しておきたい）
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社ＴＨ企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年5月11日（金）10:00～16:30

■会場

連合会館 (東京・お茶の水）

■プログラム

【基本編】シランカップリング処理と濡れ性
１．シランカップリング処理を最適化する
２．効果的な処理装置を構成する
３．濡れ・付着性の基礎とシランカップリング処理
【実用編】実際の現場でのシランカップリング処理のノウハウ！！
１．塗膜の付着性をコントロールする
２．溶液中での界面密着性をコントロールする
３．微粒子の分散性をコントロールする
４．塗膜のコート性をコントロールする
５．液滴と気泡の付着性をコントロールする
６．表面を高品位にコントロールする
７．シランカップリング剤によるCVD成膜（HMDSO膜の形成）
８．質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年 5月24日（木）11:00～17:00
2018年 5月25日（金）10:00～16:00

■会場

[東京・大井町]きゅりあん5階第3講習室

■プログラム

１．塗布膜形成の基礎（基本原理を理解する）
２．各種コーティングの原理とコントロールポイント
３．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
４．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
５．トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める)
６．コーティング膜の評価計測手法
７．コーティング膜の品質保証およびプロセス管理方法
８．質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年3月15日（木）10:30～16:30

■会場

[東京・浜松町]太陽化学(株)東京本社内 おいしさ科学館8階ホール

■プログラム

（基礎編）「ＡＦＭの適切な利用法 ～原理・基礎知識から測定・解析上の留意点まで～」
（応用編）「ＡＦＭの有効な活用法 ～様々な活用展開と分析・評価ノウハウ～」
（質疑応答）日頃の技術開発・トラブルの個別相談に応じます

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社日本テクノセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年1月24日（水）10:30～17:30

■会場

【東京】日本テクノセンター研修室

■プログラム

１．微小液滴の性質
２．液滴の生成
３．微小液滴のぬれ性
４．液滴の付着と拡張性
５．産業上の応用
６．質疑応答（日頃の技術相談）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年2月2日（金）11:00～16:00

■会場

高砂ビル 2F CMC+AndTech FORUM セミナールーム【東京・千代田区】

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年2月9日（金）10:30～16:30

■会場

京都・京都市下京区 京都リサーチパーク １号館 ４Ｆ 中会議室Ａ

■講師

河合 晃

■プログラム

１．各種コーティングの原理とコントロール（現象と装置機構）
２．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
３．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
４．トラブル対策（発生原因を特定し解決策を見極める）
５．塗膜の品質保証（劣化、加速試験、寿命評価）
６．質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社シーエムシー出版様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2018年1月23日（火）13:20～16:40（13:00受付開始）

■会場

東京都千代田区内神田1-3-1 高砂ビル2F CMC FORUM会場

■講師

河合 晃（第1部）

■プログラム

第1部「レジスト材料・リソグラフィの基礎と技術動向」
第2部「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について」
（他の講師の方が担当します）
第3部「EUVリソグラフィの現状・今後の課題と求められるレジスト材料とその評価」
（他の講師の方が担当します）
※講演終了後、名刺交換会・交流会（30分程度）を予定しております。

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社ＴＨ企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年12月12日（金）10:00～16:30

■会場

連合会館401号室（東京・ＪＲお茶の水駅下車　徒歩約5分）

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

当社代表の河合晃が監修した書籍『最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術』がシーエムシー出版様より出版されましたので、以下の通りご案内申し上げます。

監修：

河合晃

発行日：

2017年9月20日

体裁：

B5判、320ページ

ISBNコード：

978-4-7813-1263-7

精密工学会知的ナノ計測専門委員会様 2017年度 第2回 例会・見学会にて、当社代表の河合晃が講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年8月3日（木）14:15～15:15

■会場

長岡技術科学大学 機械建設棟4階411会議室

■テーマ

高機能デバイスのキーテクノロジー～3D-MEMS～

日本接着学会関東支部若手交流会様が主催の勉強会にて、当社代表の河合晃が講師として依頼講演を行いました。その概要を以下の通りご案内申し上げます。

【第１回】(終了しました)

 

■日時

2017年7月21日(金) 勉強会 13:00～17:00，懇親会 17:00～

■会場

[勉強会] 東京工業大学大岡山キャンパス　西９号館　コラボレーションルーム

[懇親会] 東京工業大学大岡山キャンパス　蔵前会館　大会議室(2F)

■講師

当社代表　河合 晃

■内容

ぬれ性入門（初めて用いる）

１．１ ぬれの基礎

１．２ 接触角

１．３ ぬれと粘性

１．４ 静的・動的なぬれ

１．５ ぬれと接着

【第２回】(終了しました)

 

■日時

2017年10月13日(金) 勉強会 13:00～17:00

■会場

[勉強会] 工学院大学　新宿キャンパス　11階　1114号室

■講師

当社代表　河合 晃

■内容

ぬれ制御の実際（実務上の取り組み）

２．１ 表面エネルギー

２．２ 表面処理

２．３ 大気中での接着

２．４ 液中での接着

２．５ 液滴と気泡

【第３回】(終了しました)

 

■日時

2017年12月1日(金) 勉強会 13:00～17:00，懇親会 17:00～

■会場

[勉強会] 東京工業大学大岡山キャンパス　西９号館　コラボレーションルーム

[懇親会] 東京工業大学大岡山キャンパス　蔵前会館　大会議室(2F)

■講師

当社代表　河合 晃

■内容

現場でのぬれ制御（開発・トラブル対策

３．１ 接着要因と剥離要因

３．２ 接着性の評価・解析法

３．３ コーティング技術

３．４ IoT、エレクトロニクス技術

３．５ 接着の劣化と信頼性評価

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年10月17日（木）13:00～16:30

■会場

東京・品川区大井町 きゅりあん ４Ｆ　第１グループ活動室

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社ＴＨ企画セミナーセンター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 8月25日（金）12:30～16:30

■会場

連合会館 (東京・お茶の水）

■プログラム

１．製品に付着する異物と欠陥とは？（現状を把握する）
２．異物の付着・脱離メカニズムを考える（基本を理解する）
３．有効な異物の除去方法とは？（徹底的に除去するには）
４．クリーン化に有効な検査方法とは？（有効な計測方法を紹介します）
５．効率的なクリーンルーム技術とは？（ユーザーの視点では）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 9月11日（月）13:00～17:00
2017年 9月12日（火）10:00～16:00

■会場

[東京・大井町]きゅりあん5階 第1講習室

■プログラム

1　レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2　レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
3　レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
4　技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 8月31日（木）13:00～16:30

■会場

東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 第2特別講習室

■プログラム

１．微小液滴の性質
２．液滴の生成
３．微小液滴のぬれ性
４．液滴の付着と拡張
５．産業上の応用
６．質疑応答（日頃の技術相談）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社Ｒ＆Ｄ支援センター様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 6月22日（木）12:30～16:30

■会場

江東区文化センター　3F　第1研修室

■プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

サイエンス＆テクノロジー株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 4月28日（金）10:30～16:30

■会場

東京・品川区大井町 きゅりあん 5F　第2講習室

■プログラム

1.製品に付着する異物と欠陥とは？（現状を把握する）
2.異物の付着・脱離メカニズムを考える（基本を理解する）
3.有効な異物の除去方法とは？（徹底的に除去するには）
4.クリーン化に有効な検査方法とは？（有効な計測方法を紹介します）
5.効率的なクリーンルーム技術とは？（ユーザーの視点では）
6.質疑応答

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

S&T出版株式会社様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 4月20日（木）10:30～16:30

■会場

高橋ビルヂング（東宝土地(株)）　会議室　東京都千代田区神田神保町3-2

■プログラム

1.塗布膜形成の基礎（塗工液から膜形成まで）
2.電子材料のコーティング実例（プロセスと装置機構）
3.塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
4.塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
5.トラブル対策（発生原因を特定し解決策を見極める）
6.コーティングプロセスの管理計測方法（プロセス安定性を維持する）
7.塗膜の品質保証（劣化、加速試験、寿命評価）
8.質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

一般財団法人マイクロマシンセンター様が主催の講習会にて、当社代表の河合晃が特別講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年 3月9日（木）13:00～17:35

■場所

まちなかキャンパス長岡　5階 / 交流ルーム

■プログラム

【特別講演２】
14:10-15:10「新潟県地場産業とMEMSデバイス産業との懸け橋」
長岡技術科学大学大学院　電気電子情報工学専攻　教授　河合　晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社技術情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年4月13日(木)　10：00～17：00

■会場

[東京・五反田］ 技術情報協会 ８F セミナールーム

■プログラム

３．塗布膜応力の抑制と剥離・クラックの防止技術【15:00～17:00】
長岡技術科学大学　電気電子情報工学専攻　教授　博士(工学)　河合 晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社技術情報機構様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年4月6日(木） 10：00～17：00

■会場

[東京・五反田] 日幸五反田ビル8F 技術情報協会 セミナールーム

■プログラム

第４部 塗布，接着，コーティング分野への考え方とその応用【15:30～17:00】
長岡技術科学大学　電気電子情報工学専攻　教授　博士(工学)　河合 晃

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社AndTech様が主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年3月28日(火)　13:30-16:30

■会場

[東京・中央区]東京中央区立産業会館　4F　第1集会室

■プログラム

1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)　
3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

株式会社情報機構様の主催のセミナーにて、当社代表の河合晃が講師として講演を行いますので、以下の通りご案内申し上げます。

■日時

2017年3月17日（金）　10:30-16:30

■会場

[神奈川・川崎]川崎市産業振興会館 10階第1会議室

■プログラム

１．塗布膜形成の基礎（塗工液から膜形成まで）
２．各種コーティングの原理とコントロール（現象と装置機構）
３．塗工液の濡れ制御（濡れの不確定要素を見極める）
４．塗膜の乾燥メカニズムと高品質化（乾燥のツボを抑える）
５．トラブル対策(発生原因を特定し解決策を見極める) ６．コーティングプロセスの管理計測方法 ７．塗膜の品質保証（劣化、加速試験、寿命評価）
８．質疑応答（日頃の疑問・トラブル・解析・技術開発相談に応じます）

※詳細、お申し込みは主催者ページをご覧ください。

大学オフィスへのアクセス、オフィスの様子はこちらからご覧になれます。

大学の研究成果の産業界への展開を目指し、研究成果活用企業（ベンチャー企業）として会社を設立しました。

アドヒージョン株式会社のホームページを開設しました。
どうぞよろしくお願い申し上げます。